-
Індивідуальна обробка керамічного патрона для пластин Al2O3
Виготовлені методом холодного ізостатичного пресування та спікання за високої температури, а потім прецизійно оброблені та поліровані, керамічні запасні частини можуть відповідати будь-яким суворим вимогам до напівпровідникового обладнання завдяки своїм характеристикам зносостійкості, корозійної стійкості, низького теплового розширення та ізоляції. Кераміка може працювати в багатьох видах обладнання для виробництва напівпровідників в умовах високої температури, вакууму або агресивного газу протягом тривалого часу.
Виготовлений з високочистого порошку оксиду алюмінію, оброблений методом холодного ізостатичного пресування, високотемпературного спікання та прецизійної обробки, він може досягати допуску розмірів ±0,001 мм, має поверхневу обробку Ra 0,1 та термостійкість 1600℃.
-
Керамічна пластина для напівпровідникового обладнання ST.CERA на замовлення
Виготовлені методом холодного ізостатичного пресування та спікання за високої температури, а потім прецизійно оброблені та поліровані, керамічні запасні частини можуть відповідати будь-яким суворим вимогам до напівпровідникового обладнання завдяки своїм характеристикам зносостійкості, корозійної стійкості, низького теплового розширення та ізоляції. Кераміка може працювати в багатьох видах обладнання для виробництва напівпровідників в умовах високої температури, вакууму або агресивного газу протягом тривалого часу.
Виготовлений з високочистого порошку оксиду алюмінію, оброблений методом холодного ізостатичного пресування, високотемпературного спікання та прецизійної обробки, він може досягати допуску розмірів ±0,001 мм, має поверхневу обробку Ra 0,1 та термостійкість 1600℃.
-
12-дюймовий вакуумний патрон з глинозему для обробки пластин 300 мм
12-дюймовий вакуумний патрон St.Cera виготовлений з високою точністю з 99,8% високочистого оксиду алюмінію (Al₂O₃) для роботи з пластинами діаметром 300 мм. Патрон має дрібнорифлену поверхню (ширина канавок 0,5–1,0 мм, крок 2–3 мм) для забезпечення рівномірного розподілу вакууму по всьому діаметру 300 мм. Плоскість підтримується в межах 5 мкм, що дозволяє фіксувати пластину без деформації під час нарізання, шліфування зворотного боку та контролю. Висока міцність матеріалу на вигин (361 МПа) та твердість (16 ГПа) гарантують довготривалу розмірну стабільність навіть при багаторазових циклах вакуумування.
-
Кінцевий ефектор з глиноземної кераміки з інтегрованими вакуумними каналами
Вакуумний кінцевий ефектор St.Cera з оксиду алюмінію інтегрує прецизійно оброблені вакуумні канали та всмоктувальні отвори безпосередньо в корпус з високочистого оксиду алюмінію 99,8%. Така конструкція усуває зовнішні вакуумні прокладки, що дозволяє здійснювати прямий захоплення пластини з рівномірною силою утримання. Висока міцність матеріалу на вигин (361 МПа) та твердість (16 ГПа) забезпечують довготривалу розмірну стабільність при повторних циклах вакуумування. Площинність по всій площі прокладки підтримується в межах 10 мкм, що запобігає напруженню та поломці пластини. Вакуумні порти розташовані на задньому монтажному фланці для легкої інтеграції з OEM-маніпуляторами роботів.
-
Антистатичні керамічні деталі з глинозему для роботи з чутливими до статичної електрики пластинами
Керамічні деталі St.Cera з оксиду алюмінію, безпечні до електростатичного розряду (ESD), виготовляються з високочистого Al₂O₃ з питомим опором поверхні 10⁶–10⁹ Ом/кв. см, що досягається за допомогою запатентованого процесу легування або покриття. Ці деталі ефективно розсіюють статичний заряд, запобігаючи електростатичному пошкодженню чутливих напівпровідникових пластин і пристроїв. Основний матеріал зберігає свою високу міцність на вигин (361 МПа), твердість (16 ГПа) та діелектричну міцність (15×10⁶ В/м). Керамічні деталі, безпечні до ESD, включають кінцеві ефектори, підйомні штифти, напрямні рейки та спеціальні кріплення для автоматизації FAB.
-
Керамічні запасні частини для напівпровідникового зондового обладнання
Виготовлені методом холодного ізостатичного пресування та спікання за високої температури, а потім прецизійно оброблені та поліровані, керамічні запасні частини можуть відповідати будь-яким суворим вимогам до напівпровідникового обладнання завдяки своїм характеристикам зносостійкості, корозійної стійкості, низького теплового розширення та ізоляції. Кераміка може працювати в багатьох видах обладнання для виробництва напівпровідників в умовах високої температури, вакууму або агресивного газу протягом тривалого часу.
Виготовлений з високочистого порошку оксиду алюмінію, оброблений методом холодного ізостатичного пресування, високотемпературного спікання та прецизійної обробки, він може досягати допуску розмірів ±0,001 мм, має поверхневу обробку Ra 0,1 та термостійкість 1600℃.
-
Керамічний пластинчастий напівпровідниковий носій обладнання
Виготовлені методом холодного ізостатичного пресування та спікання за високої температури, а потім прецизійно оброблені та поліровані, керамічні запасні частини можуть відповідати будь-яким суворим вимогам до напівпровідникового обладнання завдяки своїм характеристикам зносостійкості, корозійної стійкості, низького теплового розширення та ізоляції. Кераміка може працювати в багатьох видах обладнання для виробництва напівпровідників в умовах високої температури, вакууму або агресивного газу протягом тривалого часу.
Виготовлений з високочистого порошку оксиду алюмінію, оброблений методом холодного ізостатичного пресування, високотемпературного спікання та прецизійної обробки, він може досягати допуску розмірів ±0,001 мм, має поверхневу обробку Ra 0,1 та термостійкість 1600℃.
-
Керамічні запасні частини для напівпровідникового обладнання
Виготовлені методом холодного ізостатичного пресування та спікання за високої температури, а потім прецизійно оброблені та поліровані, керамічні запасні частини можуть відповідати будь-яким суворим вимогам до напівпровідникового обладнання завдяки своїм характеристикам зносостійкості, корозійної стійкості, низького теплового розширення та ізоляції. Кераміка може працювати в багатьох видах обладнання для виробництва напівпровідників в умовах високої температури, вакууму або агресивного газу протягом тривалого часу.
Виготовлений з високочистого порошку оксиду алюмінію, оброблений методом холодного ізостатичного пресування, високотемпературного спікання та прецизійної обробки, він може досягати допуску розмірів ±0,001 мм, має поверхневу обробку Ra 0,1 та термостійкість 1600℃.
-
Керамічне ущільнювальне кільце з високочистого оксиду алюмінію для герметизації високотемпературних камер
Керамічне ущільнювальне кільце St.Cera розроблено як альтернатива полімерним ущільнювальним кільцям у екстремальних умовах, де еластомери руйнуються. Виготовлене з 99,8% високочистого оксиду алюмінію (Al₂O₃), це жорстке ущільнювальне кільце використовується в статичних ущільненнях — зазвичай у поєднанні з м'якою металевою або графітовою прокладкою — для забезпечення надійного вакуумного або газоутримуючого ефекту за температур до 800°C та в агресивних плазмових або хімічних середовищах. Матеріал забезпечує нульове виділення газів, високу міцність на стиск (базова міцність на вигин 361 МПа) та хімічну інертність (стійкий до галогенів, кислот і лугів, крім HF). Прецизійно оброблені ущільнювальні поверхні (площинність ≤5 мкм, шорсткість поверхні Ra ≤0,2 мкм) забезпечують герметичний контакт зі з'єднаними металевими або керамічними компонентами.
-
Фокусувальне кільце з високочистої оксидної камери для систем плазмового травлення та CVD
Фокусувальне кільце камери St.Cera є критично важливим компонентом технологічного комплекту, що використовується в обладнанні для плазмового травлення, CVD та PVD напівпровідників. Виготовлене з високочистого оксиду алюмінію (Al₂O₃) з вмістом 99,8%, кільце оточує край пластини, обмежуючи плазму та оптимізуючи кутовий розподіл іонів, тим самим покращуючи рівномірність травлення по всій поверхні пластини. Матеріал пропонує виняткову стійкість до плазми, високу діелектричну міцність (15×10⁶ В/м) та термостабільність до 1600°C, що гарантує довготривалу надійність в агресивних плазмових середовищах на основі фтору або хлору. Прецизійно відшліфований внутрішній/зовнішній діаметр та площинність (≤10 мкм) забезпечують точне позиціонування країв пластини, зменшуючи дефекти країв та утворення частинок.
-
Керамічне кільце з високочистого оксиду алюмінію для технологічних камер CVD/PVD
Керамічне кільце St.Cera спеціально розроблене для використання в технологічних камерах CVD (хімічне осадження з парової фази) та PVD (фізичне осадження з парової фази). Виготовлене з високочистого оксиду алюмінію (Al₂O₃) з вмістом 99,8%, це кільце служить вкладишем камери, фокусувальним кільцем або компонентом технологічного комплекту для утримання плазми та захисту стінок камери від ерозії. Матеріал пропонує чудову стійкість до плазми, високу діелектричну міцність (15×10⁶ В/м) та термостабільність до 1600°C, що забезпечує тривалий термін служби в агресивних плазмових середовищах на основі фтору. Точні розмірні допуски (±0,05 мм по внутрішньому/зовнішньому діаметру) та площинності (≤10 мкм) забезпечують стабільне позиціонування країв пластини, покращуючи рівномірність осадження та зменшуючи утворення частинок.
-
Керамічний кінцевий ефектор Bernoulli — безконтактне оброблення тонких і крихких пластин
Керамічний кінцевий ефектор Bernoulli від St.Cera використовує аеродинамічну підйомну силу для обробки пластин без фізичного контакту. Виготовлений з високочистого оксиду алюмінію (Al₂O₃) або карбіду кремнію (SiC) з вмістом палива, він оснащений прецизійно обробленими соплами, які викидають стиснений газ для створення тонкої повітряної плівки між кінцевим ефектором та пластиною. Цей принцип безконтактної роботи усуває забруднення задньої сторони, відколи країв та пошкодження поверхні, що робить його ідеальним для тонких (≤100 мкм), крихких або деформованих пластин. Керамічна підкладка забезпечує високу міцність на вигин (361 МПа для Al₂O₃; до 550–600 МПа для SiC), низьку масу та чудову розмірну стабільність, що гарантує повторюване позиціонування у високошвидкісних роботах для перенесення пластин.
