-
Pangolahan Khusus Chuck Wafer Keramik Al2O3
Diwangun kanthi cara dipres isostatik adhem lan disinter ing suhu dhuwur, banjur dimesin lan dipoles kanthi presisi, suku cadang keramik iki bisa nyukupi syarat ketat peralatan semikonduktor kanthi fitur tahan aus, tahan korosi, ekspansi termal sing endhek, lan insulasi. Keramik bisa digunakake ing macem-macem jinis peralatan produksi semikonduktor kanthi kondisi suhu dhuwur, vakum utawa gas korosif sajrone wektu sing suwe.
Digawé saka bubuk alumina kanthi kemurnian dhuwur, diproses kanthi pengepresan isostatik adhem, sintering suhu dhuwur lan finishing presisi, bisa tekan toleransi dimensi nganti ±0,001 mm, permukaan Ra 0,1, tahan suhu 1600 ℃.
-
Pelat Keramik Peralatan Semikonduktor Khusus ST.CERA
Diwangun kanthi cara dipres isostatik adhem lan disinter ing suhu dhuwur, banjur dimesin lan dipoles kanthi presisi, suku cadang keramik iki bisa nyukupi syarat ketat peralatan semikonduktor kanthi fitur tahan aus, tahan korosi, ekspansi termal sing endhek, lan insulasi. Keramik bisa digunakake ing macem-macem jinis peralatan produksi semikonduktor kanthi kondisi suhu dhuwur, vakum utawa gas korosif sajrone wektu sing suwe.
Digawé saka bubuk alumina kanthi kemurnian dhuwur, diproses kanthi pengepresan isostatik adhem, sintering suhu dhuwur lan finishing presisi, bisa tekan toleransi dimensi nganti ±0,001 mm, permukaan Ra 0,1, tahan suhu 1600 ℃.
-
Chuck Vakum Alumina 12-Inci kanggo Pangolahan Wafer 300mm
Chuck vakum 12 inci saka St.Cera digawe kanthi presisi saka alumina kemurnian tinggi 99,8% (Al₂O₃) kanggo penanganan wafer 300mm. Chuck iki nduweni permukaan beralur alus (jembar alur 0,5–1,0 mm, pitch 2–3 mm) kanggo njamin distribusi vakum sing seragam ing kabeh diameter 300mm. Kerataan dijaga ing jarak 5 μm, saengga bisa fiksasi wafer tanpa warp sajrone dicing, grinding sisih mburi, lan inspeksi. Kekuatan lentur bahan sing dhuwur (361 MPa) lan kekerasan (16 GPa) njamin stabilitas dimensi jangka panjang sanajan ing siklus vakum sing bola-bali.
-
Efektor Ujung Keramik Alumina kanthi Saluran Vakum Terpadu
Efektor ujung vakum alumina St.Cera nggabungake saluran vakum sing diolah kanthi presisi lan bolongan isap langsung menyang awak alumina kemurnian tinggi 99,8%. Desain iki ngilangi bantalan vakum eksternal, saengga bisa njupuk wafer langsung kanthi gaya penahan sing seragam. Kekuatan lentur sing dhuwur (361 MPa) lan kekerasan (16 GPa) saka bahan kasebut njamin stabilitas dimensi jangka panjang ing siklus vakum sing bola-bali. Kerataan ing area bantalan dijaga ing kisaran 10 μm, nyegah stres lan kerusakan wafer. Port vakum dumunung ing flens pemasangan mburi kanggo integrasi sing gampang karo lengen robot OEM.
-
Bagian Keramik Alumina sing Aman kanggo ESD kanggo Penanganan Wafer sing Sensitif Statis
Bagian keramik alumina sing aman kanggo ESD (electrostatic discharge) saka St.Cera digawe saka Al₂O₃ kanthi kemurnian dhuwur 99,8% kanthi resistivitas permukaan sing disesuaikan 10⁶–10⁹ Ω/sq, sing digayuh liwat proses doping utawa pelapisan sing dipatenake. Bagian-bagian kasebut kanthi efektif nyerap muatan statis, nyegah kerusakan elektrostatik ing wafer lan piranti semikonduktor sing sensitif. Bahan dasar njaga kekuatan lentur sing dhuwur (361 MPa), kekerasan (16 GPa), lan kekuatan dielektrik (15×10⁶ V/m). Bagian keramik sing aman kanggo ESD kalebu efektor ujung, pin pengangkat, rel panduan, lan perlengkapan khusus kanggo otomatisasi FAB.
-
Suku Cadang Keramik kanggo Peralatan Probe Semikonduktor
Diwangun kanthi cara dipres isostatik adhem lan disinter ing suhu dhuwur, banjur dimesin lan dipoles kanthi presisi, suku cadang keramik iki bisa nyukupi syarat ketat peralatan semikonduktor kanthi fitur tahan aus, tahan korosi, ekspansi termal sing endhek, lan insulasi. Keramik bisa digunakake ing macem-macem jinis peralatan produksi semikonduktor kanthi kondisi suhu dhuwur, vakum utawa gas korosif sajrone wektu sing suwe.
Digawé saka bubuk alumina kanthi kemurnian dhuwur, diproses kanthi pengepresan isostatik adhem, sintering suhu dhuwur lan finishing presisi, bisa tekan toleransi dimensi nganti ±0,001 mm, permukaan Ra 0,1, tahan suhu 1600 ℃.
-
Pembawa Peralatan Semikonduktor Pelat Keramik
Diwangun kanthi cara dipres isostatik adhem lan disinter ing suhu dhuwur, banjur dimesin lan dipoles kanthi presisi, suku cadang keramik iki bisa nyukupi syarat ketat peralatan semikonduktor kanthi fitur tahan aus, tahan korosi, ekspansi termal sing endhek, lan insulasi. Keramik bisa digunakake ing macem-macem jinis peralatan produksi semikonduktor kanthi kondisi suhu dhuwur, vakum utawa gas korosif sajrone wektu sing suwe.
Digawé saka bubuk alumina kanthi kemurnian dhuwur, diproses kanthi pengepresan isostatik adhem, sintering suhu dhuwur lan finishing presisi, bisa tekan toleransi dimensi nganti ±0,001 mm, permukaan Ra 0,1, tahan suhu 1600 ℃.
-
Suku Cadang Keramik Peralatan Semikonduktor
Diwangun kanthi cara dipres isostatik adhem lan disinter ing suhu dhuwur, banjur dimesin lan dipoles kanthi presisi, suku cadang keramik iki bisa nyukupi syarat ketat peralatan semikonduktor kanthi fitur tahan aus, tahan korosi, ekspansi termal sing endhek, lan insulasi. Keramik bisa digunakake ing macem-macem jinis peralatan produksi semikonduktor kanthi kondisi suhu dhuwur, vakum utawa gas korosif sajrone wektu sing suwe.
Digawé saka bubuk alumina kanthi kemurnian dhuwur, diproses kanthi pengepresan isostatik adhem, sintering suhu dhuwur lan finishing presisi, bisa tekan toleransi dimensi nganti ±0,001 mm, permukaan Ra 0,1, tahan suhu 1600 ℃.
-
Cincin Segel Keramik Alumina Kemurnian Tinggi kanggo Penyegelan Ruang Suhu Tinggi
Cincin segel keramik St.Cera dirancang minangka alternatif kanggo cincin-O polimer ing lingkungan ekstrem ing ngendi elastomer rusak. Diprodhuksi saka alumina kemurnian tinggi 99,8% (Al₂O₃), cincin segel kaku iki digunakake ing aplikasi segel statis — biasane dipasangake karo logam alus utawa gasket grafit — kanggo nyedhiyakake penahanan vakum utawa gas sing dipercaya ing suhu nganti 800°C lan ing lingkungan plasma utawa kimia sing agresif. Bahan kasebut nawakake nol outgassing, kekuatan kompresi dhuwur (kekuatan lentur sing ndasari 361 MPa), lan inertness kimia (tahan halogen, asam, lan alkali kajaba HF). Permukaan segel sing dilapisi presisi (kerataan ≤5 μm, kekasaran permukaan Ra ≤0,2 μm) njamin kontak kedap bocor karo komponen logam utawa keramik sing kawin.
-
Cincin Fokus Kamar Alumina Kemurnian Tinggi kanggo Sistem Etsa Plasma & CVD
Cincin fokus ruang St.Cera minangka komponen kit proses kritis sing digunakake ing peralatan semikonduktor etsa plasma, CVD, lan PVD. Diprodhuksi saka alumina kemurnian tinggi 99,8% (Al₂O₃), cincin kasebut ngubengi pinggiran wafer kanggo mbatesi plasma lan ngoptimalake distribusi sudut ion, saengga ningkatake keseragaman etsa ing permukaan wafer. Bahan kasebut nawakake resistensi plasma sing luar biasa, kekuatan dielektrik sing dhuwur (15 × 10⁶ V/m), lan stabilitas termal nganti 1600 °C, njamin keandalan jangka panjang ing lingkungan plasma berbasis fluor utawa klorin sing agresif. ID/OD lan kerataan presisi (≤10 μm) ngaktifake posisi pinggiran wafer sing akurat, nyuda cacat pinggiran lan generasi partikel.
-
Cincin Keramik Alumina Kemurnian Tinggi kanggo Kamar Proses CVD / PVD
Cincin keramik St.Cera dirancang khusus kanggo digunakake ing ruang proses CVD (Deposisi Uap Kimia) lan PVD (Deposisi Uap Fisik). Diprodhuksi saka alumina kemurnian tinggi 99,8% (Al₂O₃), cincin iki dadi lapisan ruang, cincin fokus, utawa komponen kit proses kanggo mbatesi plasma lan nglindhungi tembok ruang saka erosi. Bahan kasebut nawakake resistensi plasma sing apik banget, kekuatan dielektrik sing dhuwur (15 × 10⁶ V/m), lan stabilitas termal nganti 1600 °C, njamin umur layanan sing dawa ing lingkungan plasma berbasis fluor sing agresif. Toleransi dimensi sing tepat (± 0,05 mm ing ID/OD) lan kerataan (≤ 10 μm) ngaktifake posisi pinggiran wafer sing konsisten, ningkatake keseragaman deposisi lan nyuda generasi partikel.
-
Efektor Ujung Keramik Bernoulli — Penanganan Wafer Non-Kontak kanggo Wafer Tipis & Rapuh
Efektor ujung keramik Bernoulli saka St.Cera nggunakake daya angkat aerodinamis kanggo nangani wafer tanpa kontak fisik. Diprodhuksi saka alumina (Al₂O₃) utawa silikon karbida (SiC) 99,8% kemurnian tinggi, nduweni nozzle mesin presisi sing ngetokake gas bertekanan kanggo nggawe film udara tipis antarane efektor ujung lan wafer. Prinsip non-kontak iki ngilangi kontaminasi sisih mburi, potongan pinggiran, lan kerusakan permukaan, saengga cocog kanggo wafer tipis (≤100 μm), rapuh, utawa bengkok. Substrat keramik nyedhiyakake kekuatan lentur sing dhuwur (361 MPa kanggo Al₂O₃; nganti 550–600 MPa kanggo SiC), massa sing endhek, lan stabilitas dimensi sing apik banget, njamin posisi sing bisa diulang ing robot transfer wafer kecepatan tinggi.
