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Fa'agasologa Fa'apitoa o le Al2O3 Ceramic Wafer Chuck
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Ipu Seramika mo Meafaigaluega Semiconductor Fa'apitoa a ST.CERA
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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12-Inisi Alumina Vacuum Chuck mo le 300mm Wafer Processing
O le masini e 12-inisi le umi o le masini e mūmū ai le ea a St.Cera ua faia ma le sa'o mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃) mo le taulimaina o le masini e 300mm le mamafa. O le masini e mūmū ai le ea e iai ni auvai lelei (lautele o auvai 0.5–1.0 mm, pitch 2–3 mm) e fa'amautinoa ai le tufatufaina tutusa o le masini e mūmū ai le ea i le lautele atoa e 300mm. E tausia le lamolemole i totonu ole 5 μm, e mafai ai ona fa'amautu le masini e aunoa ma ni fa'alavelave i le taimi e tipi ai, oloina i tua, ma le siakiina. O le malosi maualuga o le flexural o le meafaitino (361 MPa) ma le ma'a'a (16 GPa) e fa'amautinoa ai le mautu o le tele i se taimi umi e tusa lava pe i lalo o taamilosaga e mūmū ai le ea.
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Fa'ai'uga o le Alumina Ceramic ma Alavai Vacuum ua Tu'ufa'atasia
O le masini fa'amama alumina a St.Cera e fa'apipi'i sa'o auala fa'amama ma pu fa'asusu i totonu o le tino alumina mama e 99.8%. O lenei mamanu e aveese ai pads fa'amama i fafo, e mafai ai ona piki sa'o le wafer ma le malosi tutusa e uu ai. O le malosi maualuga o le flexural (361 MPa) ma le ma'a'a (16 GPa) e fa'amautinoa ai le mautu o le dimensional i lalo o ta'amilosaga fa'amama faifai pea. O le lamolemole i luga o le vaega o le pad e tausia i totonu ole 10 μm, e puipuia ai le mamafa o le wafer ma le gau. O lo'o i ai pu fa'amama i le flange fa'apipi'i i tua mo le faigofie ona fa'apipi'i ma lima robot OEM.
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Vaega Seramika Alumina Saogalemu ESD mo le Taulimaina o le Wafer e Ma'ale'ale i le Static
O vaega o le seramika alumina saogalemu ESD (electrostatic discharge) a St.Cera e gaosia mai le 99.8% Al₂O₃ mama maualuga ma le tete'e fa'apitoa o le 10⁶–10⁹ Ω/sq, e ausia e ala i se faiga fa'apitoa o le doping po'o le ufiufi. O nei vaega e fa'aitiitia lelei le mamafa tumau, e puipuia ai le fa'aleagaina o le eletise i wafers ma masini semiconductor maaleale. O le mea autu e taofia lona malosi maualuga o le flexural (361 MPa), le ma'a'a (16 GPa), ma le malosi dielectric (15×10⁶ V/m). O vaega seramika saogalemu ESD e aofia ai e aofia ai end effectors, lift pins, guide rails, ma mea fa'apipi'i fa'apitoa mo le FAB automation.
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Vaega Fa'asao Seramika mo Meafaigaluega Su'esu'ega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Aveta'avale Meafaigaluega Semiconductor Ipu Seramika
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Vaega Fa'asao Seramika o Meafaigaluega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Mama Fa'amaufa'ailoga Seramika Alumina Mama Maualuga mo le Fa'amaufa'ailogaina o le Potu Vevela Maualuga
O le mama fa'amaufa'ailoga seramika a St.Cera ua mamanuina e fai ma sui o mama polymer O i siosiomaga ogaoga e fa'aleagaina ai elastomers. O lenei mama fa'amaufa'ailoga ma'a'a e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), e fa'aaogaina i galuega fa'amaufa'ailoga tumau - e masani ona fa'apipi'i fa'atasi ma se u'amea vaivai po'o se gasket graphite - e maua ai le fa'atuatuaina o le vacuum po'o le kesi i le vevela e o'o atu i le 800°C ma i siosiomaga plasma po'o vaila'au malolosi. O le meafaitino e leai se gassing, malosi maualuga (malosi fa'apipi'i autu 361 MPa), ma le le gaoioi o vaila'au (tete'e atu i halogens, acids, ma alkalis vagana ai HF). O luga fa'amaufa'ailoga ua fa'apipi'i sa'o (flatness ≤5 μm, roughness o le luga Ra ≤0.2 μm) e fa'amautinoa ai le fa'afeso'ota'i lelei ma vaega u'amea po'o seramika.
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Mama Fa'atatau o le Potu Alumina Mama Maualuga mo Faiga Plasma Etch ma CVD
O le mama fa'atatau o le potu a St.Cera o se vaega taua o le seti o mea e fa'aaogaina i masini e fa'aaoga ai le plasma etch, CVD, ma le PVD semiconductor. E gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o le mama e si'omia ai le pito o le wafer e fa'atapula'a ai le plasma ma fa'aleleia atili ai le tufatufaina atu o le ion angular, ma fa'aleleia atili ai le tutusa o le etch i luga o le fogā'ele'ele o le wafer. O lenei mea e ofoina atu le tete'e ese mai le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 1600°C, ma fa'amautinoa ai le fa'atuatuaina mo se taimi umi i siosiomaga plasma e fa'avae i le fluorine po'o le chlorine. O le ID/OD ma le lamolemole o le eleele (≤10 μm) e mafai ai ona tu'u sa'o le pito o le wafer, fa'aitiitia ai fa'aletonu o pito ma le gaosia o vaega laiti.
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Mama Seramika Alumina Mama Maualuga mo Potu Fa'agasologa CVD / PVD
O le mama seramika a St.Cera ua mamanuina faapitoa mo le faʻaaogaina i totonu o potu faʻagasologa o le CVD (Chemical Vapor Deposition) ma le PVD (Physical Vapor Deposition). O lenei mama e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o se laina o le potu, mama taulaʻi, poʻo se vaega o le pusa faʻagasologa e faʻatapulaʻa ai le plasma ma puipuia puipui o potu mai le soloia. O lenei mea e ofoina atu le teteʻe lelei tele i le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e oʻo atu i le 1600°C, ma faʻamautinoa ai le umi o le ola tautua i totonu o siosiomaga plasma e faʻavae i le fluorine. O le saʻo o le faʻatagaina o le tele (± 0.05 mm i le ID/OD) ma le lamolemole (≤ 10 μm) e mafai ai ona tutusa le tulaga o le pito o le wafer, faʻaleleia atili le tutusa o le faʻaputuga ma faʻaitiitia ai le gaosiga o vaega.
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O le Bernoulli Ceramic End Effector — O le taulimaina o le Wafer e le fesoota'i mo Wafers manifinifi ma maaleale
O le St.Cera's Bernoulli ceramic end effector e fa'aaogaina le aerodynamic lift e taulimaina ai wafers e aunoa ma se pa'i fa'aletino. E gaosia mai le 99.8% alumina (Al₂O₃) po'o le silicon carbide (SiC) e mama atoatoa, o lo'o i ai ni nozzles ua fa'apipi'iina ma le sa'o e fa'aoso ai le kesi ua fa'amamafaina e fai ai se ata manifinifi o le ea i le va o le end effector ma le wafer. O lenei mataupu faavae e le pa'i ai e aveese ai le fa'aleagaina o le itu i tua, le gau o pito, ma le fa'aleagaina o le luga, ma avea ai ma mea lelei mo wafers manifinifi (≤100 μm), vaivai, po'o le pi'o. O le substrate seramika e maua ai le malosi maualuga o le flexural (361 MPa mo le Al₂O₃; e o'o atu i le 550–600 MPa mo le SiC), mamafa maualalo, ma le mautu lelei o le dimensional, ma fa'amautinoa ai le toe faia o le tulaga i totonu o robots fesiita'i wafer saoasaoa maualuga.
