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Al2O3 सिरेमिक वेफर चक का अनुकूलित प्रसंस्करण
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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ST.CERA द्वारा अनुकूलित सेमीकंडक्टर उपकरण सिरेमिक प्लेट
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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300 मिमी वेफर प्रोसेसिंग के लिए 12 इंच का एल्यूमिना वैक्यूम चक
सेंट सेरा का 12-इंच वैक्यूम चक 300 मिमी वेफर हैंडलिंग के लिए 99.8% उच्च-शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से सटीक इंजीनियरिंग द्वारा निर्मित है। चक में एक महीन खांचेदार सतह (खांचे की चौड़ाई 0.5–1.0 मिमी, पिच 2–3 मिमी) है जो पूरे 300 मिमी व्यास में एक समान वैक्यूम वितरण सुनिश्चित करती है। इसकी समतलता 5 माइक्रोमीटर के भीतर बनी रहती है, जिससे डाइसिंग, बैकसाइड ग्राइंडिंग और निरीक्षण के दौरान वेफर को बिना किसी विकृति के स्थिर किया जा सकता है। सामग्री की उच्च फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (361 एमपीए) और कठोरता (16 जीपीए) बार-बार वैक्यूम चक्रों के तहत भी दीर्घकालिक आयामी स्थिरता की गारंटी देती है।
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एकीकृत वैक्यूम चैनलों के साथ एल्यूमिना सिरेमिक एंड इफेक्टर
सेंट सेरा के एल्यूमिना वैक्यूम एंड इफ़ेक्टर में सटीक रूप से निर्मित वैक्यूम चैनल और सक्शन होल सीधे 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना बॉडी में एकीकृत होते हैं। यह डिज़ाइन बाहरी वैक्यूम पैड की आवश्यकता को समाप्त करता है, जिससे एकसमान होल्डिंग बल के साथ सीधे वेफर पिकअप संभव हो पाता है। सामग्री की उच्च फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (361 एमपीए) और कठोरता (16 जीपीए) बार-बार वैक्यूम चक्रों के तहत दीर्घकालिक आयामी स्थिरता सुनिश्चित करती है। पैड क्षेत्र में समतलता 10 μm के भीतर बनी रहती है, जिससे वेफर पर तनाव और टूटना रोका जा सकता है। OEM रोबोट आर्म्स के साथ आसान एकीकरण के लिए वैक्यूम पोर्ट पीछे के माउंटिंग फ्लेंज पर स्थित हैं।
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स्थिर-संवेदनशील वेफर हैंडलिंग के लिए ESD-सुरक्षित एल्यूमिना सिरेमिक पार्ट्स
सेंट सेरा के ईएसडी (इलेक्ट्रोस्टैटिक डिस्चार्ज) सुरक्षित एल्यूमिना सिरेमिक पुर्जे 99.8% उच्च-शुद्धता वाले Al₂O₃ से निर्मित होते हैं, जिनकी सतह प्रतिरोधकता 10⁶–10⁹ Ω/sq होती है, जो एक विशेष डोपिंग या कोटिंग प्रक्रिया के माध्यम से प्राप्त की जाती है। ये पुर्जे स्थैतिक आवेश को प्रभावी ढंग से नष्ट कर देते हैं, जिससे संवेदनशील सेमीकंडक्टर वेफर्स और उपकरणों को इलेक्ट्रोस्टैटिक क्षति से बचाया जा सकता है। आधार सामग्री अपनी उच्च फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (361 MPa), कठोरता (16 GPa) और डाइइलेक्ट्रिक स्ट्रेंथ (15×10⁶ V/m) को बरकरार रखती है। ईएसडी-सुरक्षित सिरेमिक पुर्जों में एंड इफेक्टर्स, लिफ्ट पिन, गाइड रेल और एफएबी स्वचालन के लिए कस्टम फिक्स्चर शामिल हैं।
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सेमीकंडक्टर प्रोब उपकरण के लिए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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सिरेमिक प्लेट सेमीकंडक्टर उपकरण वाहक
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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सेमीकंडक्टर उपकरण सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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उच्च तापमान वाले कक्षों की सीलिंग के लिए उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक सील रिंग
सेंट सेरा की सिरेमिक सील रिंग को ऐसे चरम वातावरणों में पॉलिमर ओ-रिंग के विकल्प के रूप में डिज़ाइन किया गया है जहाँ इलास्टोमर खराब हो जाते हैं। 99.8% उच्च-शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित, यह कठोर सील रिंग स्थिर सीलिंग अनुप्रयोगों में उपयोग की जाती है - आमतौर पर एक नरम धातु या ग्रेफाइट गैस्केट के साथ - 800°C तक के तापमान पर और आक्रामक प्लाज्मा या रासायनिक वातावरण में विश्वसनीय वैक्यूम या गैस अवरोधन प्रदान करने के लिए। यह सामग्री शून्य गैस उत्सर्जन, उच्च संपीडन शक्ति (अंतर्निहित फ्लेक्सुरल शक्ति 361 MPa) और रासायनिक निष्क्रियता (HF को छोड़कर हैलोजन, अम्ल और क्षार के प्रति प्रतिरोधी) प्रदान करती है। सटीक रूप से लैप्ड सीलिंग सतहें (समतलता ≤5 μm, सतह खुरदरापन Ra ≤0.2 μm) धातु या सिरेमिक घटकों के साथ रिसाव-रोधी संपर्क सुनिश्चित करती हैं।
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प्लाज्मा एचिंग और सीवीडी सिस्टम के लिए उच्च-शुद्धता एल्यूमिना चैम्बर फोकस रिंग
सेंट सेरा का चैम्बर फोकस रिंग प्लाज्मा एचिंग, सीवीडी और पीवीडी सेमीकंडक्टर उपकरणों में उपयोग होने वाला एक महत्वपूर्ण प्रोसेस किट घटक है। 99.8% उच्च-शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित यह रिंग वेफर के किनारे को घेरकर प्लाज्मा को सीमित करता है और आयन कोणीय वितरण को अनुकूलित करता है, जिससे वेफर की सतह पर एचिंग की एकरूपता में सुधार होता है। यह सामग्री असाधारण प्लाज्मा प्रतिरोध, उच्च परावैद्युत सामर्थ्य (15×10⁶ V/m) और 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करती है, जो आक्रामक फ्लोरीन- या क्लोरीन-आधारित प्लाज्मा वातावरण में दीर्घकालिक विश्वसनीयता सुनिश्चित करती है। सटीक ग्राउंडेड आईडी/ओडी और समतलता (≤10 μm) वेफर के किनारे की सटीक स्थिति को सक्षम बनाती है, जिससे किनारे के दोष और कणों का निर्माण कम होता है।
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सीवीडी/पीवीडी प्रक्रिया कक्षों के लिए उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक रिंग
सेंट सेरा की सिरेमिक रिंग विशेष रूप से सीवीडी (केमिकल वेपर डिपोजिशन) और पीवीडी (फिजिकल वेपर डिपोजिशन) प्रोसेस चैंबरों में उपयोग के लिए डिज़ाइन की गई है। 99.8% उच्च-शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित, यह रिंग चैंबर लाइनर, फोकस रिंग या प्रोसेस किट घटक के रूप में प्लाज्मा को सीमित करने और चैंबर की दीवारों को क्षरण से बचाने का काम करती है। यह सामग्री उत्कृष्ट प्लाज्मा प्रतिरोध, उच्च परावैद्युत शक्ति (15×10⁶ V/m) और 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करती है, जिससे आक्रामक फ्लोरीन-आधारित प्लाज्मा वातावरण में इसकी लंबी सेवा अवधि सुनिश्चित होती है। सटीक आयामी सहनशीलता (ID/OD पर ±0.05 mm) और समतलता (≤10 μm) वेफर के किनारों की सुसंगत स्थिति सुनिश्चित करती है, जिससे जमाव की एकरूपता में सुधार होता है और कणों का निर्माण कम होता है।
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बर्नौली सिरेमिक एंड इफेक्टर — पतले और नाजुक वेफर्स के लिए गैर-संपर्क वेफर हैंडलिंग
सेंट सेरा का बर्नौली सिरेमिक एंड इफ़ेक्टर, वेफर्स को बिना किसी भौतिक संपर्क के स्थानांतरित करने के लिए वायुगतिकीय उत्प्लावन का उपयोग करता है। उच्च शुद्धता वाले 99.8% एल्यूमिना (Al₂O₃) या सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) से निर्मित, इसमें सटीक रूप से निर्मित नोजल होते हैं जो दबावयुक्त गैस को बाहर निकालकर एंड इफ़ेक्टर और वेफर के बीच एक पतली वायु परत बनाते हैं। यह गैर-संपर्क सिद्धांत पीछे की ओर संदूषण, किनारों के टूटने और सतह की क्षति को रोकता है, जिससे यह पतले (≤100 μm), नाजुक या मुड़े हुए वेफर्स के लिए आदर्श बन जाता है। सिरेमिक सब्सट्रेट उच्च लचीलापन शक्ति (Al₂O₃ के लिए 361 MPa; SiC के लिए 550–600 MPa तक), कम द्रव्यमान और उत्कृष्ट आयामी स्थिरता प्रदान करता है, जिससे उच्च गति वाले वेफर स्थानांतरण रोबोटों में बार-बार सटीक स्थिति सुनिश्चित होती है।
