-
پردازش سفارشی چاک ویفر سرامیکی Al2O3
قطعات یدکی سرامیکی که با پرس ایزواستاتیک سرد شکل داده شده و در دمای بالا تف جوشی میشوند، سپس با دقت ماشینکاری و صیقل داده میشوند، میتوانند با ویژگیهای مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، انبساط حرارتی کم و عایق بودن، هرگونه الزامات سختگیرانه تجهیزات نیمههادی را برآورده کنند. سرامیکها میتوانند در انواع مختلفی از تجهیزات تولید نیمههادی در شرایط دمای بالا، خلاء یا گاز خورنده برای مدت طولانی کار کنند.
این محصول از پودر آلومینای با خلوص بالا ساخته شده، با پرس ایزواستاتیک سرد، تفجوشی در دمای بالا و پرداخت دقیق فرآوری شده است و میتواند به تلرانس ابعادی ±0.001 میلیمتر، پرداخت سطحی Ra 0.1 و مقاومت دمایی 1600 درجه سانتیگراد برسد.
-
بشقاب سرامیکی تجهیزات نیمه هادی سفارشی ST.CERA
قطعات یدکی سرامیکی که با پرس ایزواستاتیک سرد شکل داده شده و در دمای بالا تف جوشی میشوند، سپس با دقت ماشینکاری و صیقل داده میشوند، میتوانند با ویژگیهای مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، انبساط حرارتی کم و عایق بودن، هرگونه الزامات سختگیرانه تجهیزات نیمههادی را برآورده کنند. سرامیکها میتوانند در انواع مختلفی از تجهیزات تولید نیمههادی در شرایط دمای بالا، خلاء یا گاز خورنده برای مدت طولانی کار کنند.
این محصول از پودر آلومینای با خلوص بالا ساخته شده، با پرس ایزواستاتیک سرد، تفجوشی در دمای بالا و پرداخت دقیق فرآوری شده است و میتواند به تلرانس ابعادی ±0.001 میلیمتر، پرداخت سطحی Ra 0.1 و مقاومت دمایی 1600 درجه سانتیگراد برسد.
-
سه نظام خلاء آلومینایی ۱۲ اینچی برای پردازش ویفر ۳۰۰ میلیمتری
سه نظام خلاء ۱۲ اینچی St.Cera با دقت از ۹۹.۸٪ آلومینای با خلوص بالا (Al₂O₃) برای جابجایی ویفر ۳۰۰ میلیمتری ساخته شده است. این سه نظام دارای سطح شیاردار ریز (عرض شیار ۰.۵ تا ۱.۰ میلیمتر، گام ۲ تا ۳ میلیمتر) است تا توزیع یکنواخت خلاء در کل قطر ۳۰۰ میلیمتر تضمین شود. صافی در محدوده ۵ میکرومتر حفظ میشود و امکان تثبیت بدون تاب ویفر را در حین خرد کردن، سنگزنی از پشت و بازرسی فراهم میکند. استحکام خمشی بالای این ماده (۳۶۱ مگاپاسکال) و سختی (۱۶ گیگاپاسکال) پایداری ابعادی طولانی مدت را حتی تحت چرخههای مکرر خلاء تضمین میکند.
-
افکتور انتهایی سرامیکی آلومینا با کانالهای خلاء یکپارچه
ابزار انتهایی خلاء آلومینایی St.Cera، کانالهای خلاء ماشینکاریشده با دقت و سوراخهای مکش را مستقیماً در بدنه آلومینای با خلوص بالای ۹۹.۸٪ ادغام میکند. این طراحی، پدهای خلاء خارجی را حذف میکند و امکان برداشت مستقیم ویفر با نیروی نگهدارنده یکنواخت را فراهم میکند. استحکام خمشی بالای این ماده (۳۶۱ مگاپاسکال) و سختی (۱۶ گیگاپاسکال) پایداری ابعادی بلندمدت را تحت چرخههای مکرر خلاء تضمین میکند. صافی در سراسر ناحیه پد در محدوده ۱۰ میکرومتر حفظ میشود و از تنش و شکستگی ویفر جلوگیری میکند. درگاههای خلاء برای ادغام آسان با بازوهای ربات OEM در فلنج نصب عقب قرار دارند.
-
قطعات سرامیکی آلومینا ESD-Safe برای جابجایی ویفر حساس به الکتریسیته ساکن
قطعات سرامیکی آلومینای ایمن در برابر ESD (تخلیه الکترواستاتیک) شرکت St.Cera از Al₂O₃ با خلوص بالای ۹۹.۸٪ و مقاومت سطحی مناسب ۱۰⁶–۱۰⁹ Ω/sq ساخته شدهاند که از طریق یک فرآیند دوپینگ یا پوشش اختصاصی حاصل میشود. این قطعات به طور موثر بار ساکن را پراکنده میکنند و از آسیب الکترواستاتیک به ویفرها و دستگاههای نیمههادی حساس جلوگیری میکنند. ماده پایه، استحکام خمشی بالا (۳۶۱ مگاپاسکال)، سختی (۱۶ گیگاپاسکال) و استحکام دیالکتریک (۱۵×۱۰⁶ ولت بر متر) خود را حفظ میکند. قطعات سرامیکی ایمن در برابر ESD شامل قطعات انتهایی، پینهای بالابر، ریلهای راهنما و فیکسچرهای سفارشی برای اتوماسیون FAB هستند.
-
قطعات یدکی سرامیکی برای تجهیزات کاوشگر نیمه هادی
قطعات یدکی سرامیکی که با پرس ایزواستاتیک سرد شکل داده شده و در دمای بالا تف جوشی میشوند، سپس با دقت ماشینکاری و صیقل داده میشوند، میتوانند با ویژگیهای مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، انبساط حرارتی کم و عایق بودن، هرگونه الزامات سختگیرانه تجهیزات نیمههادی را برآورده کنند. سرامیکها میتوانند در انواع مختلفی از تجهیزات تولید نیمههادی در شرایط دمای بالا، خلاء یا گاز خورنده برای مدت طولانی کار کنند.
این محصول از پودر آلومینای با خلوص بالا ساخته شده، با پرس ایزواستاتیک سرد، تفجوشی در دمای بالا و پرداخت دقیق فرآوری شده است و میتواند به تلرانس ابعادی ±0.001 میلیمتر، پرداخت سطحی Ra 0.1 و مقاومت دمایی 1600 درجه سانتیگراد برسد.
-
حامل تجهیزات نیمه هادی صفحه سرامیکی
قطعات یدکی سرامیکی که با پرس ایزواستاتیک سرد شکل داده شده و در دمای بالا تف جوشی میشوند، سپس با دقت ماشینکاری و صیقل داده میشوند، میتوانند با ویژگیهای مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، انبساط حرارتی کم و عایق بودن، هرگونه الزامات سختگیرانه تجهیزات نیمههادی را برآورده کنند. سرامیکها میتوانند در انواع مختلفی از تجهیزات تولید نیمههادی در شرایط دمای بالا، خلاء یا گاز خورنده برای مدت طولانی کار کنند.
این محصول از پودر آلومینای با خلوص بالا ساخته شده، با پرس ایزواستاتیک سرد، تفجوشی در دمای بالا و پرداخت دقیق فرآوری شده است و میتواند به تلرانس ابعادی ±0.001 میلیمتر، پرداخت سطحی Ra 0.1 و مقاومت دمایی 1600 درجه سانتیگراد برسد.
-
قطعات یدکی سرامیک تجهیزات نیمه هادی
قطعات یدکی سرامیکی که با پرس ایزواستاتیک سرد شکل داده شده و در دمای بالا تف جوشی میشوند، سپس با دقت ماشینکاری و صیقل داده میشوند، میتوانند با ویژگیهای مقاومت در برابر سایش، مقاومت در برابر خوردگی، انبساط حرارتی کم و عایق بودن، هرگونه الزامات سختگیرانه تجهیزات نیمههادی را برآورده کنند. سرامیکها میتوانند در انواع مختلفی از تجهیزات تولید نیمههادی در شرایط دمای بالا، خلاء یا گاز خورنده برای مدت طولانی کار کنند.
این محصول از پودر آلومینای با خلوص بالا ساخته شده، با پرس ایزواستاتیک سرد، تفجوشی در دمای بالا و پرداخت دقیق فرآوری شده است و میتواند به تلرانس ابعادی ±0.001 میلیمتر، پرداخت سطحی Ra 0.1 و مقاومت دمایی 1600 درجه سانتیگراد برسد.
-
حلقه آببندی سرامیکی آلومینا با خلوص بالا برای آببندی محفظه در دمای بالا
حلقه آببندی سرامیکی St.Cera به عنوان جایگزینی برای حلقههای O پلیمری در محیطهای سخت که الاستومرها تخریب میشوند، طراحی شده است. این حلقه آببندی سفت و سخت که از 99.8٪ آلومینای با خلوص بالا (Al₂O₃) ساخته شده است، در کاربردهای آببندی استاتیک - که معمولاً با یک واشر فلزی نرم یا گرافیتی جفت میشود - برای فراهم کردن خلاء یا مهار گاز قابل اعتماد در دماهای تا 800 درجه سانتیگراد و در محیطهای پلاسما یا شیمیایی تهاجمی استفاده میشود. این ماده بدون خروج گاز، مقاومت فشاری بالا (مقاومت خمشی اساسی 361 مگاپاسکال) و بیاثری شیمیایی (مقاوم در برابر هالوژنها، اسیدها و قلیاها به جز HF) را ارائه میدهد. سطوح آببندی دقیق (صاف بودن ≤5 میکرومتر، زبری سطح Ra ≤0.2 میکرومتر) تماس بدون نشت با اجزای فلزی یا سرامیکی جفت شده را تضمین میکند.
-
حلقه فوکوس محفظه آلومینای با خلوص بالا برای سیستمهای اچ پلاسما و CVD
حلقه فوکوس محفظه St.Cera یک جزء حیاتی کیت فرآیند است که در تجهیزات نیمههادی حکاکی پلاسما، CVD و PVD استفاده میشود. این حلقه که از 99.8٪ آلومینای با خلوص بالا (Al₂O₃) ساخته شده است، لبه ویفر را احاطه میکند تا پلاسما را محدود کرده و توزیع زاویهای یون را بهینه کند و در نتیجه یکنواختی حکاکی را در سطح ویفر بهبود بخشد. این ماده مقاومت پلاسمایی استثنایی، استحکام دیالکتریک بالا (15×10⁶ V/m) و پایداری حرارتی تا 1600 درجه سانتیگراد را ارائه میدهد و قابلیت اطمینان طولانی مدت را در محیطهای پلاسمای تهاجمی مبتنی بر فلوئور یا کلر تضمین میکند. قطر داخلی/خارجی دقیق زمین شده و صافی (≤10 میکرومتر) امکان موقعیتیابی دقیق لبه ویفر را فراهم میکند و عیوب لبه و تولید ذرات را کاهش میدهد.
-
حلقه سرامیکی آلومینا با خلوص بالا برای محفظههای فرآیند CVD / PVD
حلقه سرامیکی St.Cera به طور خاص برای استفاده در محفظههای فرآیند CVD (رسوب شیمیایی بخار) و PVD (رسوب فیزیکی بخار) طراحی شده است. این حلقه که از آلومینای با خلوص بالا (Al₂O₃) با ۹۹.۸٪ ساخته شده است، به عنوان آستر محفظه، حلقه فوکوس یا جزء کیت فرآیند برای محدود کردن پلاسما و محافظت از دیوارههای محفظه در برابر فرسایش عمل میکند. این ماده مقاومت عالی در برابر پلاسما، استحکام دیالکتریک بالا (۱۵×۱۰⁶ V/m) و پایداری حرارتی تا ۱۶۰۰ درجه سانتیگراد را ارائه میدهد و عمر طولانی در محیطهای پلاسمای تهاجمی مبتنی بر فلوئور را تضمین میکند. تلرانسهای ابعادی دقیق (±۰.۰۵ میلیمتر در قطر داخلی/قطر خارجی) و مسطح بودن (≤۱۰ میکرومتر) امکان قرارگیری لبه ویفر ثابت، بهبود یکنواختی رسوب و کاهش تولید ذرات را فراهم میکند.
-
افکتور انتهایی سرامیکی برنولی - جابجایی ویفر بدون تماس برای ویفرهای نازک و شکننده
ابزار انتهایی سرامیکی برنولی St.Cera از نیروی بالابر آیرودینامیکی برای جابجایی ویفرها بدون تماس فیزیکی استفاده میکند. این ابزار که از آلومینای با خلوص بالای ۹۹.۸٪ (Al₂O₃) یا کاربید سیلیکون (SiC) ساخته شده است، دارای نازلهای ماشینکاری شده دقیقی است که گاز تحت فشار را خارج میکنند تا یک لایه نازک هوا بین ابزار انتهایی و ویفر ایجاد شود. این اصل عدم تماس، آلودگی پشتی، لبپریدگی لبهها و آسیب سطحی را از بین میبرد و آن را برای ویفرهای نازک (≤۱۰۰ میکرومتر)، شکننده یا تابدار ایدهآل میکند. زیرلایه سرامیکی، استحکام خمشی بالا (۳۶۱ مگاپاسکال برای Al₂O₃؛ تا ۵۵۰-۶۰۰ مگاپاسکال برای SiC)، جرم کم و پایداری ابعادی عالی را فراهم میکند و موقعیتیابی تکرارپذیر را در رباتهای انتقال ویفر با سرعت بالا تضمین میکند.
