-
Anpassad bearbetning av Al2O3 keramisk waferchuck
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
ST.CERA Anpassad halvledarutrustning Keramisk platta
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
12-tums vakuumchuck av aluminiumoxid för 300 mm waferbearbetning
St.Ceras 12-tums vakuumchuck är precisionstillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) för hantering av wafers på 300 mm. Chucken har en fint räfflad yta (spårbredd 0,5–1,0 mm, stigning 2–3 mm) för att säkerställa jämn vakuumfördelning över hela 300 mm diametern. Planheten bibehålls inom 5 μm, vilket möjliggör vridfri waferfixering under tärning, baksideslipning och inspektion. Materialets höga böjhållfasthet (361 MPa) och hårdhet (16 GPa) garanterar långsiktig dimensionsstabilitet även under upprepade vakuumcykler.
-
Ändeffektor av aluminiumoxidkeramisk material med integrerade vakuumkanaler
St.Ceras vakuumändeffektor av aluminiumoxid integrerar precisionsbearbetade vakuumkanaler och sughål direkt i kroppen av 99,8 % hög renhet av aluminiumoxid. Denna design eliminerar externa vakuumdynor, vilket möjliggör direkt waferupptagning med enhetlig hållkraft. Materialets höga böjhållfasthet (361 MPa) och hårdhet (16 GPa) säkerställer långsiktig dimensionsstabilitet under upprepade vakuumcykler. Planheten över dynans yta bibehålls inom 10 μm, vilket förhindrar waferspänning och brott. Vakuumportar är placerade på den bakre monteringsflänsen för enkel integration med OEM-robotarmar.
-
ESD-säkra aluminiumoxidkeramiska delar för hantering av statiskt känsliga wafers
St.Ceras ESD-säkra (elektrostatiska urladdnings) keramiska delar av aluminiumoxid är tillverkade av 99,8 % högrent Al₂O₃ med en skräddarsydd ytresistivitet på 10⁶–10⁹ Ω/kvadrat, uppnådd genom en patentskyddad dopnings- eller beläggningsprocess. Dessa delar avleder effektivt statisk laddning och förhindrar elektrostatisk skada på känsliga halvledarskivor och komponenter. Basmaterialet behåller sin höga böjhållfasthet (361 MPa), hårdhet (16 GPa) och dielektriska hållfasthet (15×10⁶ V/m). ESD-säkra keramiska delar inkluderar ändeffektorer, lyftstift, styrskenor och anpassade fixturer för FAB-automation.
-
Keramiska reservdelar för halvledarprobutrustning
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Halvledarutrustningsbärare för keramisk platta
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Reservdelar till halvledarutrustning för keramiska delar
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Keramisk tätningsring av hög renhet aluminiumoxid för tätning av kammare vid hög temperatur
St.Ceras keramiska tätningsring är utformad som ett alternativ till polymer-O-ringar i extrema miljöer där elastomerer bryts ner. Tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) används denna styva tätningsring i statiska tätningsapplikationer – vanligtvis i kombination med en mjuk metall- eller grafitpackning – för att ge tillförlitlig vakuum- eller gasinneslutning vid temperaturer upp till 800 °C och i aggressiva plasma- eller kemiska miljöer. Materialet erbjuder noll avgasning, hög tryckhållfasthet (underliggande böjhållfasthet 361 MPa) och kemisk inertitet (beständig mot halogener, syror och alkalier förutom HF). Precisionsöverlappade tätningsytor (planhet ≤5 μm, ytjämnhet Ra ≤0,2 μm) säkerställer läckagetät kontakt med anslutna metall- eller keramiska komponenter.
-
Fokusring i kammare med hög renhet av aluminiumoxid för plasmaetsning och CVD-system
St.Ceras fokusring är en kritisk processkomponent som används i plasmaetsning, CVD och PVD-halvledarutrustning. Ringen är tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) och omger skivans kant för att begränsa plasmat och optimera jonernas vinkelfördelning, vilket förbättrar etsningens enhetlighet över skivans yta. Materialet erbjuder exceptionell plasmaresistens, hög dielektrisk hållfasthet (15×10⁶ V/m) och termisk stabilitet upp till 1600°C, vilket säkerställer långsiktig tillförlitlighet i aggressiva fluor- eller klorbaserade plasmamiljöer. Precisionsslipad ID/OD och planhet (≤10 μm) möjliggör korrekt positionering av skivans kant, vilket minskar kantdefekter och partikelgenerering.
-
Högren aluminiumoxidkeramisk ring för CVD/PVD-processkamrar
St.Ceras keramiska ring är speciellt utformad för användning i CVD- (kemisk ångdeponering) och PVD- (fysisk ångdeponering) processkamrar. Tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) fungerar denna ring som kammarfoder, fokusring eller processkitkomponent för att innesluta plasma och skydda kammarväggar från erosion. Materialet erbjuder utmärkt plasmaresistens, hög dielektrisk hållfasthet (15×10⁶ V/m) och termisk stabilitet upp till 1600 °C, vilket säkerställer lång livslängd i aggressiva fluorbaserade plasmamiljöer. Exakta dimensionstoleranser (±0,05 mm på innerdiameter/ytterdiameter) och planhet (≤10 μm) möjliggör konsekvent positionering av skivkanterna, vilket förbättrar deponeringens jämnhet och minskar partikelgenereringen.
-
Bernoulli keramisk ändeffektor — Kontaktlös hantering av wafers för tunna och ömtåliga wafers
St.Ceras Bernoulli keramiska ändeffektor använder aerodynamisk lyftkraft för att hantera wafers utan fysisk kontakt. Tillverkad av högren 99,8 % aluminiumoxid (Al₂O₃) eller kiselkarbid (SiC) har den precisionsbearbetade munstycken som matar ut trycksatt gas för att skapa en tunn luftfilm mellan ändeffektorn och wafern. Denna kontaktfria princip eliminerar kontaminering på baksidan, kantflisning och ytskador, vilket gör den idealisk för tunna (≤100 μm), ömtåliga eller skeva wafers. Det keramiska substratet ger hög böjhållfasthet (361 MPa för Al₂O₃; upp till 550–600 MPa för SiC), låg massa och utmärkt dimensionsstabilitet, vilket säkerställer repeterbar positionering i höghastighetswaferöverföringsrobotar.
