-
Fanodinana namboarina manokana ny "Al2O3 Ceramic Wafer Chuck"
Namboarina tamin'ny alalan'ny fanerena isostatika mangatsiaka ary nosinterina tamin'ny hafanana avo, avy eo nokarakaraina sy nopolesina tamim-pitandremana tsara, ireo kojakoja seramika ireo dia afaka mahafeno ny fepetra takiana henjana amin'ny fitaovana semiconductor miaraka amin'ny toetrany toy ny fanoherana ny fikikisana, ny fanoherana ny harafesina, ny fivelaran'ny hafanana ambany, ary ny insulation. Ny seramika dia afaka miasa amin'ny karazana fitaovana famokarana semiconductor maro miaraka amin'ny mari-pana avo, banga na entona manimba mandritra ny fotoana maharitra.
Vita avy amin'ny vovoka alumina madio avo lenta, karakaraina amin'ny alàlan'ny fanerena isostatic mangatsiaka, sintering amin'ny mari-pana avo ary famaranana mazava tsara, mety hahatratra ny fandeferana refy hatramin'ny ±0.001 mm, famaranana ny velarana Ra 0.1, fanoherana ny mari-pana 1600 ℃.
-
Fitaovana Semiconductor namboarina manokana an'ny ST.CERA ho an'ny takelaka seramika
Namboarina tamin'ny alalan'ny fanerena isostatika mangatsiaka ary nosinterina tamin'ny hafanana avo, avy eo nokarakaraina sy nopolesina tamim-pitandremana tsara, ireo kojakoja seramika ireo dia afaka mahafeno ny fepetra takiana henjana amin'ny fitaovana semiconductor miaraka amin'ny toetrany toy ny fanoherana ny fikikisana, ny fanoherana ny harafesina, ny fivelaran'ny hafanana ambany, ary ny insulation. Ny seramika dia afaka miasa amin'ny karazana fitaovana famokarana semiconductor maro miaraka amin'ny mari-pana avo, banga na entona manimba mandritra ny fotoana maharitra.
Vita avy amin'ny vovoka alumina madio avo lenta, karakaraina amin'ny alàlan'ny fanerena isostatic mangatsiaka, sintering amin'ny mari-pana avo ary famaranana mazava tsara, mety hahatratra ny fandeferana refy hatramin'ny ±0.001 mm, famaranana ny velarana Ra 0.1, fanoherana ny mari-pana 1600 ℃.
-
Chuck banga Alumina 12-Inch ho an'ny fanodinana Wafer 300mm
Ny "vacuum chuck" 12 santimetatra an'ny St.Cera dia namboarina tamin'ny fomba tena tsara avy amin'ny alumina madio 99.8% (Al₂O₃) ho an'ny fikirakirana "wafer" 300mm. Ny "chuck" dia manana velarana tsara (sakany 0.5–1.0 mm, elanelana 2–3 mm) mba hahazoana antoka fa mizara mitovy ny "vacuum" manerana ny savaivony 300mm. Voatazona ao anatin'ny 5 μm ny fisaka, ahafahana miraikitra tsara ny "wafer" mandritra ny fanapahana, ny fikosoham-bary ary ny fizahana. Ny tanjaky ny "flexural" avo lenta (361 MPa) sy ny hamafin'ny (16 GPa) an'ny fitaovana dia miantoka ny fahamarinan'ny refy maharitra na dia amin'ny tsingerin'ny "vacuum" miverimberina aza.
-
Mpanamboatra faran'ny seramika alumina miaraka amin'ny fantsona banga mitambatra
Ny "aspirateur" vita amin'ny ...
-
Kojakoja Seramika Alumina Azo Antoka ESD ho an'ny Fitantanana Wafer Saro-pady Statika
Ny kojakoja seramika alumina azo antoka amin'ny ESD (electrostatic discharge) an'ny St.Cera dia vita amin'ny Al₂O₃ madio 99.8% miaraka amin'ny fanoherana ny velarana namboarina manokana 10⁶–10⁹ Ω/sq, izay tratrarina amin'ny alàlan'ny dingana doping na coating manokana. Ireo kojakoja ireo dia manaparitaka tsara ny fiampangana static, misoroka ny fahasimbana elektrostatika amin'ny wafers sy fitaovana semiconductor saro-pady. Ny akora fototra dia mitazona ny tanjany avo lenta (361 MPa), ny hamafiny (16 GPa), ary ny tanjany dielectric (15×10⁶ V/m). Ny kojakoja seramika azo antoka amin'ny ESD dia misy ny end effectors, lift pins, guide rails, ary kojakoja namboarina manokana ho an'ny automation FAB.
-
Kojakoja seramika ho an'ny fitaovana fandrefesana semiconductor
Namboarina tamin'ny alalan'ny fanerena isostatika mangatsiaka ary nosinterina tamin'ny hafanana avo, avy eo nokarakaraina sy nopolesina tamim-pitandremana tsara, ireo kojakoja seramika ireo dia afaka mahafeno ny fepetra takiana henjana amin'ny fitaovana semiconductor miaraka amin'ny toetrany toy ny fanoherana ny fikikisana, ny fanoherana ny harafesina, ny fivelaran'ny hafanana ambany, ary ny insulation. Ny seramika dia afaka miasa amin'ny karazana fitaovana famokarana semiconductor maro miaraka amin'ny mari-pana avo, banga na entona manimba mandritra ny fotoana maharitra.
Vita avy amin'ny vovoka alumina madio avo lenta, karakaraina amin'ny alàlan'ny fanerena isostatic mangatsiaka, sintering amin'ny mari-pana avo ary famaranana mazava tsara, mety hahatratra ny fandeferana refy hatramin'ny ±0.001 mm, famaranana ny velarana Ra 0.1, fanoherana ny mari-pana 1600 ℃.
-
Fitaovana mpitatitra takelaka seramika ho an'ny semiconductor
Namboarina tamin'ny alalan'ny fanerena isostatika mangatsiaka ary nosinterina tamin'ny hafanana avo, avy eo nokarakaraina sy nopolesina tamim-pitandremana tsara, ireo kojakoja seramika ireo dia afaka mahafeno ny fepetra takiana henjana amin'ny fitaovana semiconductor miaraka amin'ny toetrany toy ny fanoherana ny fikikisana, ny fanoherana ny harafesina, ny fivelaran'ny hafanana ambany, ary ny insulation. Ny seramika dia afaka miasa amin'ny karazana fitaovana famokarana semiconductor maro miaraka amin'ny mari-pana avo, banga na entona manimba mandritra ny fotoana maharitra.
Vita avy amin'ny vovoka alumina madio avo lenta, karakaraina amin'ny alàlan'ny fanerena isostatic mangatsiaka, sintering amin'ny mari-pana avo ary famaranana mazava tsara, mety hahatratra ny fandeferana refy hatramin'ny ±0.001 mm, famaranana ny velarana Ra 0.1, fanoherana ny mari-pana 1600 ℃.
-
Fitaovana Semiconductor, Kojakoja Seramika
Namboarina tamin'ny alalan'ny fanerena isostatika mangatsiaka ary nosinterina tamin'ny hafanana avo, avy eo nokarakaraina sy nopolesina tamim-pitandremana tsara, ireo kojakoja seramika ireo dia afaka mahafeno ny fepetra takiana henjana amin'ny fitaovana semiconductor miaraka amin'ny toetrany toy ny fanoherana ny fikikisana, ny fanoherana ny harafesina, ny fivelaran'ny hafanana ambany, ary ny insulation. Ny seramika dia afaka miasa amin'ny karazana fitaovana famokarana semiconductor maro miaraka amin'ny mari-pana avo, banga na entona manimba mandritra ny fotoana maharitra.
Vita avy amin'ny vovoka alumina madio avo lenta, karakaraina amin'ny alàlan'ny fanerena isostatic mangatsiaka, sintering amin'ny mari-pana avo ary famaranana mazava tsara, mety hahatratra ny fandeferana refy hatramin'ny ±0.001 mm, famaranana ny velarana Ra 0.1, fanoherana ny mari-pana 1600 ℃.
-
Peratra Seramika Alumina Madio Avo ho an'ny Famehezana Efitrano amin'ny Mari-pana Avo
Ny peratra tombo-kase seramika avy amin'ny St.Cera dia natao ho solon'ny peratra O-polymer amin'ny tontolo iainana tafahoatra izay mihasimba ny elastomera. Vita amin'ny alumina madio 99.8% (Al₂O₃), ity peratra tombo-kase henjana ity dia ampiasaina amin'ny fampiharana tombo-kase static - matetika ampiarahina amin'ny metaly malefaka na gasket grafita - mba hanomezana fitazonana azo antoka amin'ny banga na entona amin'ny mari-pana hatramin'ny 800°C ary amin'ny tontolo plasma na simika mahery vaika. Ity fitaovana ity dia manolotra tsy misy entona mivoaka, tanjaka avo lenta (tanjaka miondrika fototra 361 MPa), ary tsy mihetsika simika (mahatanty halogen, asidra ary alkali afa-tsy HF). Ny velaran-tombo-kase voapetaka tsara (fisaka ≤5 μm, harafesina Ra ≤0.2 μm) dia miantoka ny fifandraisana tsy mitete amin'ny metaly na singa seramika mifamatotra.
-
Peratra fifantohana amin'ny efitrano alumina madio avo lenta ho an'ny rafitra Plasma Etch & CVD
Ny peratra fifantohana efitrano an'ny St.Cera dia singa iray tena ilaina amin'ny kitapo fanodinana plasma, CVD, ary fitaovana semiconductor PVD. Vita amin'ny alumina madio 99.8% (Al₂O₃) avo lenta, ny peratra dia manodidina ny sisin'ny wafer mba hamerana ny plasma sy hanatsara ny fizarana zoro ion, ka hanatsara ny fitoviana amin'ny etsa manerana ny velaran'ny wafer. Ny fitaovana dia manolotra fanoherana plasma miavaka, tanjaka dielektrika avo lenta (15 × 10⁶ V/m), ary fahamarinan-toerana mafana hatramin'ny 1600°C, izay miantoka ny fahatokisana maharitra amin'ny tontolo plasma mahery vaika mifototra amin'ny fluorine na chlore. Ny ID/OD amin'ny tany sy ny fisaka (≤10 μm) dia ahafahana mametraka tsara ny sisin'ny wafer, mampihena ny lesoka amin'ny sisiny ary ny famokarana poti-javatra.
-
Peratra Seramika Alumina Madio Avo ho an'ny Efitrano Fizotry ny CVD / PVD
Ny peratra seramika an'ny St.Cera dia natao manokana hampiasaina amin'ny efitrano fanodinana CVD (Chemical Vapor Deposition) sy PVD (Physical Vapor Deposition). Vita amin'ny alumina madio 99.8% (Al₂O₃), ity peratra ity dia miasa ho toy ny fonony efitrano, peratra fifantohana, na singa kitapo fanodinana mba hanakanana ny plasma sy hiarovana ny rindrin'ny efitrano amin'ny fahasimbana. Ity fitaovana ity dia manolotra fanoherana plasma tsara dia tsara, tanjaka dielektrika avo lenta (15 × 10⁶ V/m), ary fahamarinan-toerana mafana hatramin'ny 1600°C, izay miantoka ny faharetan'ny fampiasana azy amin'ny tontolo plasma mahery vaika mifototra amin'ny fluorine. Ny fandeferana refy mazava (± 0.05 mm amin'ny ID/OD) sy ny fisaka (≤ 10 μm) dia ahafahana mametraka ny sisin'ny wafer tsy miovaova, manatsara ny fitoviana amin'ny fametrahana ary mampihena ny famokarana poti-javatra.
-
Mpanamboatra Tendrony Seramika Bernoulli — Fitantanana Wafer Tsy Mifandray amin'ny Wafer Manify sy Mora Mora
Mampiasa fiakarana aerodinamika ny "effector" seramika Bernoulli an'ny St.Cera mba hikirakirana ireo "wafer" tsy misy fifandraisana ara-batana. Vita amin'ny alumina (Al₂O₃) na karbida silikônina (SiC) 99.8% madio tsara izy io, ary misy "nozzles" voalamina tsara izay mamoaka entona misy tsindry mba hamoronana sarimihetsika rivotra manify eo anelanelan'ny "effector" sy ny "wafer". Ity fitsipika tsy fifandraisana ity dia manafoana ny loto ao ambadika, ny fikikisana amin'ny sisiny, ary ny fahasimban'ny amboniny, ka mahatonga azy io ho tsara indrindra ho an'ny "wafer" manify (≤100 μm), marefo, na miolakolaka. Ny "substrate" seramika dia manome tanjaka avo lenta amin'ny fiolahana (361 MPa ho an'ny Al₂O₃; hatramin'ny 550–600 MPa ho an'ny SiC), lanja ambany, ary fahamarinan-toerana tsara dia tsara, izay miantoka ny toerana azo averina amin'ny robot famindrana "wafer" haingam-pandeha.
