-
Procesamento personalizado de mandril de oblea de cerámica de Al2O3
Formadas por prensado isostático en frío e sinterizadas a alta temperatura, logo mecanizadas e pulidas con precisión, as pezas de reposto cerámicas poden cumprir calquera requisito estrito dos equipos semicondutores coas súas características de resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión, baixa expansión térmica e illamento. A cerámica pode funcionar en moitos tipos de equipos de produción de semicondutores con condicións de alta temperatura, baleiro ou gas corrosivo durante moito tempo.
Feito de po de alúmina de alta pureza, procesado por prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura e acabado de precisión, pode alcanzar unha tolerancia de dimensión de ±0,001 mm, acabado superficial Ra 0,1, resistencia á temperatura de 1600 ℃.
-
Placa cerámica para equipos semicondutores personalizados de ST.CERA
Formadas por prensado isostático en frío e sinterizadas a alta temperatura, logo mecanizadas e pulidas con precisión, as pezas de reposto cerámicas poden cumprir calquera requisito estrito dos equipos semicondutores coas súas características de resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión, baixa expansión térmica e illamento. A cerámica pode funcionar en moitos tipos de equipos de produción de semicondutores con condicións de alta temperatura, baleiro ou gas corrosivo durante moito tempo.
Feito de po de alúmina de alta pureza, procesado por prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura e acabado de precisión, pode alcanzar unha tolerancia de dimensión de ±0,001 mm, acabado superficial Ra 0,1, resistencia á temperatura de 1600 ℃.
-
Mandril de baleiro de alúmina de 12 polgadas para procesamento de obleas de 300 mm
O mandril de baleiro de 12 polgadas de St.Cera está fabricado con precisión a partir de alúmina de alta pureza (Al₂O₃) ao 99,8 % para a manipulación de obleas de 300 mm. O mandril presenta unha superficie con ranuras finas (ancho da ranura de 0,5 a 1,0 mm, paso de 2 a 3 mm) para garantir unha distribución uniforme do baleiro en todo o diámetro de 300 mm. A planitude mantense dentro dos 5 μm, o que permite unha fixación da oblea sen deformacións durante o corte en dados, a moenda traseira e a inspección. A alta resistencia á flexión (361 MPa) e a dureza (16 GPa) do material garanten estabilidade dimensional a longo prazo mesmo en ciclos de baleiro repetidos.
-
Efector final de cerámica de alúmina con canles de baleiro integradas
O efector final de baleiro de alúmina de St.Cera integra canles de baleiro e orificios de succión mecanizados con precisión directamente no corpo de alúmina de alta pureza ao 99,8 %. Este deseño elimina as almofadas de baleiro externas, o que permite a recollida directa da oblea cunha forza de suxeición uniforme. A alta resistencia á flexión (361 MPa) e a dureza (16 GPa) do material garanten a estabilidade dimensional a longo prazo en ciclos de baleiro repetidos. A planitude na área da almofada mantense dentro dos 10 μm, o que evita a tensión e a rotura da oblea. Os portos de baleiro están situados na brida de montaxe traseira para unha fácil integración cos brazos robóticos OEM.
-
Pezas cerámicas de alúmina seguras contra descargas electrostáticas para a manipulación de obleas sensibles á electricidade estática
As pezas cerámicas de alúmina seguras para descargas electrostáticas (ESD) de St.Cera fabrícanse con Al₂O₃ de alta pureza ao 99,8 % cunha resistividade superficial personalizada de 10⁶–10⁹ Ω/sq, conseguida mediante un proceso de dopado ou revestimento patentado. Estas pezas disipan eficazmente a carga estática, evitando danos electrostáticos en obleas e dispositivos semicondutores sensibles. O material base mantén a súa alta resistencia á flexión (361 MPa), dureza (16 GPa) e resistencia dieléctrica (15×10⁶ V/m). As pezas cerámicas seguras para ESD inclúen efectores finais, pasadores de elevación, carrís guía e accesorios personalizados para a automatización de FAB.
-
Pezas de reposto cerámicas para equipos de sonda semicondutora
Formadas por prensado isostático en frío e sinterizadas a alta temperatura, logo mecanizadas e pulidas con precisión, as pezas de reposto cerámicas poden cumprir calquera requisito estrito dos equipos semicondutores coas súas características de resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión, baixa expansión térmica e illamento. A cerámica pode funcionar en moitos tipos de equipos de produción de semicondutores con condicións de alta temperatura, baleiro ou gas corrosivo durante moito tempo.
Feito de po de alúmina de alta pureza, procesado por prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura e acabado de precisión, pode alcanzar unha tolerancia de dimensión de ±0,001 mm, acabado superficial Ra 0,1, resistencia á temperatura de 1600 ℃.
-
Portador de equipos de semicondutores de placas de cerámica
Formadas por prensado isostático en frío e sinterizadas a alta temperatura, logo mecanizadas e pulidas con precisión, as pezas de reposto cerámicas poden cumprir calquera requisito estrito dos equipos semicondutores coas súas características de resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión, baixa expansión térmica e illamento. A cerámica pode funcionar en moitos tipos de equipos de produción de semicondutores con condicións de alta temperatura, baleiro ou gas corrosivo durante moito tempo.
Feito de po de alúmina de alta pureza, procesado por prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura e acabado de precisión, pode alcanzar unha tolerancia de dimensión de ±0,001 mm, acabado superficial Ra 0,1, resistencia á temperatura de 1600 ℃.
-
Pezas de reposto cerámicas para equipos semicondutores
Formadas por prensado isostático en frío e sinterizadas a alta temperatura, logo mecanizadas e pulidas con precisión, as pezas de reposto cerámicas poden cumprir calquera requisito estrito dos equipos semicondutores coas súas características de resistencia ao desgaste, resistencia á corrosión, baixa expansión térmica e illamento. A cerámica pode funcionar en moitos tipos de equipos de produción de semicondutores con condicións de alta temperatura, baleiro ou gas corrosivo durante moito tempo.
Feito de po de alúmina de alta pureza, procesado por prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura e acabado de precisión, pode alcanzar unha tolerancia de dimensión de ±0,001 mm, acabado superficial Ra 0,1, resistencia á temperatura de 1600 ℃.
-
Anel de selado cerámico de alúmina de alta pureza para o selado de cámaras de alta temperatura
A xunta de selado cerámica de St.Cera está deseñada como alternativa ás xuntas tóricas de polímero en ambientes extremos onde os elastómeros se degradan. Fabricada con alúmina de alta pureza (Al₂O₃) ao 99,8 %, esta xunta de selado ríxida utilízase en aplicacións de selado estático (normalmente combinada cunha xunta de metal brando ou grafito) para proporcionar unha contención fiable de baleiro ou gas a temperaturas de ata 800 °C e en ambientes agresivos de plasma ou químicos. O material ofrece cero desgasificación, alta resistencia á compresión (resistencia á flexión subxacente de 361 MPa) e inercia química (resistente a halóxenos, ácidos e álcalis, excepto HF). As superficies de selado solapadas con precisión (planitude ≤5 μm, rugosidade superficial Ra ≤0,2 μm) garanten un contacto hermético cos compoñentes metálicos ou cerámicos de acoplamento.
-
Anel de enfoque da cámara de alúmina de alta pureza para sistemas de gravado por plasma e CVD
O anel de enfoque da cámara de St.Cera é un compoñente crítico do kit de proceso que se emprega en equipos de semicondutores de gravado por plasma, CVD e PVD. Fabricado con alúmina de alta pureza (Al₂O₃) ao 99,8 %, o anel rodea o bordo da oblea para confinar o plasma e optimizar a distribución angular dos ións, mellorando así a uniformidade do gravado en toda a superficie da oblea. O material ofrece unha resistencia ao plasma excepcional, unha alta resistencia dieléctrica (15 × 10⁶ V/m) e unha estabilidade térmica de ata 1600 °C, o que garante a fiabilidade a longo prazo en ambientes de plasma agresivos con flúor ou cloro. O diámetro interior/exterior e a planitude (≤10 μm) rectificados con precisión permiten un posicionamento preciso do bordo da oblea, o que reduce os defectos no bordo e a xeración de partículas.
-
Anel cerámico de alúmina de alta pureza para cámaras de proceso CVD/PVD
O anel cerámico de St.Cera está deseñado especificamente para o seu uso en cámaras de proceso CVD (deposición química de vapor) e PVD (deposición física de vapor). Fabricado con alúmina de alta pureza (Al₂O₃) ao 99,8 %, este anel serve como revestimento da cámara, anel de enfoque ou compoñente do kit de proceso para confinar o plasma e protexer as paredes da cámara da erosión. O material ofrece unha excelente resistencia ao plasma, unha alta resistencia dieléctrica (15 × 10⁶ V/m) e estabilidade térmica de ata 1600 °C, o que garante unha longa vida útil en ambientes de plasma agresivos baseados en flúor. As tolerancias dimensionais precisas (±0,05 mm en diámetro interior/exterior) e a planitude (≤10 μm) permiten un posicionamento consistente do bordo da oblea, mellorando a uniformidade da deposición e reducindo a xeración de partículas.
-
Efector final cerámico de Bernoulli: manipulación de obleas sen contacto para obleas finas e fráxiles
O efector final cerámico Bernoulli de St.Cera emprega a sustentación aerodinámica para manipular obleas sen contacto físico. Fabricado con alúmina (Al₂O₃) ou carburo de silicio (SiC) de alta pureza ao 99,8 %, conta con boquillas mecanizadas con precisión que expulsan gas presurizado para crear unha fina película de aire entre o efector final e a oblea. Este principio sen contacto elimina a contaminación da parte traseira, o desconchado dos bordos e os danos superficiais, o que o fai ideal para obleas delgadas (≤100 μm), fráxiles ou deformadas. O substrato cerámico proporciona unha alta resistencia á flexión (361 MPa para Al₂O₃; ata 550–600 MPa para SiC), baixa masa e excelente estabilidade dimensional, o que garante un posicionamento repetible en robots de transferencia de obleas de alta velocidade.
