-
Al2O3 සෙරමික් වේෆර් චක් අභිරුචිකරණය කළ සැකසුම්
සීතල සමස්ථානික පීඩනය මගින් සාදන ලද අතර ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ සින්ටර් කර, පසුව නිරවද්‍යතාවයෙන් යන්ත්‍රගත කර ඔප දැමූ සෙරමික් අමතර කොටස්, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, අඩු තාප ප්‍රසාරණය සහ පරිවරණය යන ලක්ෂණ සහිත අර්ධ සන්නායක උපකරණවල ඕනෑම දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලිය හැකිය. පිඟන් මැටිවලට දිගු කාලයක් ඉහළ උෂ්ණත්වය, රික්තය හෝ විඛාදන වායුව සහිත බොහෝ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන උපකරණවල වැඩ කළ හැකිය.
ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා කුඩු වලින් සාදන ලද, සීතල සමස්ථානික එබීම, ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීම සහ නිරවද්‍ය නිමාව මගින් සකසන ලද, එය ± 0.001 mm දක්වා මාන ඉවසීම, මතුපිට නිමාව Ra 0.1, උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය 1600℃ දක්වා ළඟා විය හැකිය.
-
ST.CERA අභිරුචිකරණය කළ අර්ධ සන්නායක උපකරණ සෙරමික් තහඩුව
සීතල සමස්ථානික පීඩනය මගින් සාදන ලද අතර ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ සින්ටර් කර, පසුව නිරවද්‍යතාවයෙන් යන්ත්‍රගත කර ඔප දැමූ සෙරමික් අමතර කොටස්, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, අඩු තාප ප්‍රසාරණය සහ පරිවරණය යන ලක්ෂණ සහිත අර්ධ සන්නායක උපකරණවල ඕනෑම දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලිය හැකිය. පිඟන් මැටිවලට දිගු කාලයක් ඉහළ උෂ්ණත්වය, රික්තය හෝ විඛාදන වායුව සහිත බොහෝ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන උපකරණවල වැඩ කළ හැකිය.
ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා කුඩු වලින් සාදන ලද, සීතල සමස්ථානික එබීම, ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීම සහ නිරවද්‍ය නිමාව මගින් සකසන ලද, එය ± 0.001 mm දක්වා මාන ඉවසීම, මතුපිට නිමාව Ra 0.1, උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය 1600℃ දක්වා ළඟා විය හැකිය.
-
300mm වේෆර් සැකසුම් සඳහා අඟල් 12 ඇලුමිනා වැකුම් චක්
St.Cera හි අඟල් 12 රික්ත චක් එක 300mm වේෆර් හැසිරවීම සඳහා 99.8% අධි-පිරිසිදු ඇලුමිනා (Al₂O₃) වලින් නිරවද්‍යතාවයෙන් නිර්මාණය කර ඇත. මුළු 300mm විෂ්කම්භය පුරා ඒකාකාර රික්ත ව්‍යාප්තිය සහතික කිරීම සඳහා චක් එකේ සියුම් කට්ට සහිත මතුපිටක් (වල පළල 0.5–1.0 mm, තාරතාව 2–3 mm) ඇත. කැට කැපීම, පිටුපස ඇඹරීම සහ පරීක්ෂා කිරීමේදී විකෘති-නිදහස් වේෆර් සවි කිරීම සක්‍රීය කරමින් 5 μm තුළ පැතලි බව පවත්වා ගනී. ද්‍රව්‍යයේ ඉහළ නම්‍යශීලී ශක්තිය (361 MPa) සහ දෘඪතාව (16 GPa) නැවත නැවත රික්ත චක්‍ර යටතේ වුවද දිගුකාලීන මාන ස්ථාවරත්වය සහතික කරයි.
-
ඒකාබද්ධ රික්ත නාලිකා සහිත ඇලුමිනා සෙරමික් අන්ත ප්‍රයෝගකය
St.Cera හි ඇලුමිනා රික්ත අන්ත ප්‍රයෝගකය නිරවද්‍යතාවයෙන්-යන්ත්‍රගත කරන ලද රික්ත නාලිකා සහ චූෂණ සිදුරු සෘජුවම 99.8% අධි-සංශුද්ධතා ඇලුමිනා ශරීරයට ඒකාබද්ධ කරයි. මෙම සැලසුම බාහිර රික්ත පෑඩ් ඉවත් කරයි, ඒකාකාර රඳවා ගැනීමේ බලයක් සහිත සෘජු වේෆර් පිකප් සක්‍රීය කරයි. ද්‍රව්‍යයේ ඉහළ නම්‍යශීලී ශක්තිය (361 MPa) සහ දෘඪතාව (16 GPa) නැවත නැවත රික්ත චක්‍ර යටතේ දිගුකාලීන මාන ස්ථායිතාව සහතික කරයි. පෑඩ් ප්‍රදේශය පුරා පැතලි බව 10 μm තුළ පවත්වා ගෙන යන අතර, වේෆර් ආතතිය සහ කැඩීම වළක්වයි. OEM රොබෝ ආයුධ සමඟ පහසුවෙන් ඒකාබද්ධ කිරීම සඳහා රික්තක වරායන් පසුපස සවිකිරීමේ ෆ්ලැන්ජ් හි පිහිටා ඇත.
-
ස්ථිතික-සංවේදී වේෆර් හැසිරවීම සඳහා ESD-ආරක්ෂිත ඇලුමිනා සෙරමික් කොටස්
St.Cera's ESD (විද්‍යුත් ස්ථිතික විසර්ජනය) ආරක්ෂිත ඇලුමිනා සෙරමික් කොටස් 99.8% අධි-පිරිසිදු Al₂O₃ වලින් නිෂ්පාදනය කර ඇති අතර එය 10⁶–10⁹ Ω/sq ක සකස් කළ මතුපිට ප්‍රතිරෝධයක් සහිත වන අතර එය හිමිකාර මාත්‍රණ හෝ ආලේපන ක්‍රියාවලියක් හරහා ලබා ගනී. මෙම කොටස් ස්ථිතික ආරෝපණය ඵලදායී ලෙස විසුරුවා හරින අතර, සංවේදී අර්ධ සන්නායක වේෆර් සහ උපාංගවලට විද්‍යුත් ස්ථිතික හානි වළක්වයි. මූලික ද්‍රව්‍යය එහි ඉහළ නම්‍යශීලී ශක්තිය (361 MPa), දෘඪතාව (16 GPa) සහ පාර විද්‍යුත් ශක්තිය (15×10⁶ V/m) රඳවා ගනී. ESD-ආරක්ෂිත සෙරමික් කොටස් අතර අවසාන ප්‍රයෝගක, එසවුම් අල්ෙපෙනති, මාර්ගෝපදේශ රේල් සහ FAB ස්වයංක්‍රීයකරණය සඳහා අභිරුචි සවිකිරීම් ඇතුළත් වේ.
-
අර්ධ සන්නායක පරීක්ෂණ උපකරණ සඳහා සෙරමික් අමතර කොටස්
සීතල සමස්ථානික පීඩනය මගින් සාදන ලද අතර ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ සින්ටර් කර, පසුව නිරවද්‍යතාවයෙන් යන්ත්‍රගත කර ඔප දැමූ සෙරමික් අමතර කොටස්, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, අඩු තාප ප්‍රසාරණය සහ පරිවරණය යන ලක්ෂණ සහිත අර්ධ සන්නායක උපකරණවල ඕනෑම දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලිය හැකිය. පිඟන් මැටිවලට දිගු කාලයක් ඉහළ උෂ්ණත්වය, රික්තය හෝ විඛාදන වායුව සහිත බොහෝ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන උපකරණවල වැඩ කළ හැකිය.
ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා කුඩු වලින් සාදන ලද, සීතල සමස්ථානික එබීම, ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීම සහ නිරවද්‍ය නිමාව මගින් සකසන ලද, එය ± 0.001 mm දක්වා මාන ඉවසීම, මතුපිට නිමාව Ra 0.1, උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය 1600℃ දක්වා ළඟා විය හැකිය.
-
සෙරමික් තහඩු අර්ධ සන්නායක උපකරණ වාහකය
සීතල සමස්ථානික පීඩනය මගින් සාදන ලද අතර ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ සින්ටර් කර, පසුව නිරවද්‍යතාවයෙන් යන්ත්‍රගත කර ඔප දැමූ සෙරමික් අමතර කොටස්, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, අඩු තාප ප්‍රසාරණය සහ පරිවරණය යන ලක්ෂණ සහිත අර්ධ සන්නායක උපකරණවල ඕනෑම දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලිය හැකිය. පිඟන් මැටිවලට දිගු කාලයක් ඉහළ උෂ්ණත්වය, රික්තය හෝ විඛාදන වායුව සහිත බොහෝ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන උපකරණවල වැඩ කළ හැකිය.
ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා කුඩු වලින් සාදන ලද, සීතල සමස්ථානික එබීම, ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීම සහ නිරවද්‍ය නිමාව මගින් සකසන ලද, එය ± 0.001 mm දක්වා මාන ඉවසීම, මතුපිට නිමාව Ra 0.1, උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය 1600℃ දක්වා ළඟා විය හැකිය.
-
අර්ධ සන්නායක උපකරණ සෙරමික් අමතර කොටස්
සීතල සමස්ථානික පීඩනය මගින් සාදන ලද අතර ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ සින්ටර් කර, පසුව නිරවද්‍යතාවයෙන් යන්ත්‍රගත කර ඔප දැමූ සෙරමික් අමතර කොටස්, ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, අඩු තාප ප්‍රසාරණය සහ පරිවරණය යන ලක්ෂණ සහිත අර්ධ සන්නායක උපකරණවල ඕනෑම දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලිය හැකිය. පිඟන් මැටිවලට දිගු කාලයක් ඉහළ උෂ්ණත්වය, රික්තය හෝ විඛාදන වායුව සහිත බොහෝ අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන උපකරණවල වැඩ කළ හැකිය.
ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා කුඩු වලින් සාදන ලද, සීතල සමස්ථානික එබීම, ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීම සහ නිරවද්‍ය නිමාව මගින් සකසන ලද, එය ± 0.001 mm දක්වා මාන ඉවසීම, මතුපිට නිමාව Ra 0.1, උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය 1600℃ දක්වා ළඟා විය හැකිය.
-
ඉහළ උෂ්ණත්ව කුටීර මුද්‍රා තැබීම සඳහා ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඇලුමිනා සෙරමික් මුද්‍රා මුද්ද
St.Cera හි සෙරමික් මුද්‍රා මුද්ද, ඉලාස්ටෝමර් දිරාපත් වන ආන්තික පරිසරවල පොලිමර් O-මුදු සඳහා විකල්පයක් ලෙස නිර්මාණය කර ඇත. 99.8% අධි-පිරිසිදු ඇලුමිනා (Al₂O₃) වලින් නිෂ්පාදනය කරන ලද මෙම දෘඩ මුද්‍රා මුද්ද ස්ථිතික මුද්‍රා තැබීමේ යෙදුම්වල භාවිතා වේ - සාමාන්‍යයෙන් මෘදු ලෝහයක් හෝ ග්‍රැෆයිට් ගෑස්කට් එකක් සමඟ යුගලනය කර ඇත - 800°C දක්වා උෂ්ණත්වවලදී සහ ආක්‍රමණශීලී ප්ලාස්මා හෝ රසායනික පරිසරවල විශ්වාසදායක රික්තයක් හෝ වායුවක් අඩංගු කිරීම සඳහා. ද්‍රව්‍යය ශුන්‍ය වායු පිටවීම, ඉහළ සම්පීඩ්‍යතා ශක්තිය (යටින් පවතින නම්‍යශීලී ශක්තිය 361 MPa) සහ රසායනික නිෂ්ක්‍රීයතාව (HF හැර හැලජන්, අම්ල සහ ක්ෂාර වලට ප්‍රතිරෝධී) ලබා දෙයි. නිරවද්‍යතාවයෙන් යුත් මුද්‍රා තැබීමේ මතුපිට (පැතලි බව ≤5 μm, මතුපිට රළු බව Ra ≤0.2 μm) සංසර්ග ලෝහ හෝ සෙරමික් සංරචක සමඟ කාන්දු-තද සම්බන්ධතා සහතික කරයි.
-
ප්ලාස්මා එච්ච් සහ සීවීඩී පද්ධති සඳහා අධි-සංශුද්ධතා ඇලුමිනා කුටීර නාභිගත වළල්ල
St.Cera's chamber focus ring යනු ප්ලාස්මා etch, CVD සහ PVD අර්ධ සන්නායක උපකරණවල භාවිතා වන තීරණාත්මක ක්‍රියාවලි කට්ටල සංරචකයකි. 99.8% අධි-පිරිසිදු ඇලුමිනා (Al₂O₃) වලින් නිෂ්පාදනය කරන ලද මෙම වළල්ල, ප්ලාස්මා සීමා කිරීමට සහ අයන කෝණික ව්‍යාප්තිය ප්‍රශස්ත කිරීමට වේෆර් දාරය වට කර ඇති අතර එමඟින් වේෆර් මතුපිට පුරා එච් ඒකාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කරයි. ද්‍රව්‍යය සුවිශේෂී ප්ලාස්මා ප්‍රතිරෝධය, ඉහළ පාර විද්‍යුත් ශක්තිය (15×10⁶ V/m) සහ 1600°C දක්වා තාප ස්ථායිතාව ලබා දෙන අතර, ආක්‍රමණශීලී ෆ්ලෝරීන් හෝ ක්ලෝරීන් මත පදනම් වූ ප්ලාස්මා පරිසරවල දිගුකාලීන විශ්වසනීයත්වය සහතික කරයි. නිරවද්‍ය-බිම් ID/OD සහ පැතලි බව (≤10 μm) නිවැරදි වේෆර් දාර ස්ථානගත කිරීම, දාර දෝෂ සහ අංශු උත්පාදනය අඩු කරයි.
-
CVD / PVD ක්‍රියාවලි කුටි සඳහා අධි-සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් ඇලුමිනා සෙරමික් වළල්ල
St.Cera හි සෙරමික් වළල්ල CVD (රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම) සහ PVD (භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම) ක්‍රියාවලි කුටිවල භාවිතය සඳහා විශේෂයෙන් නිර්මාණය කර ඇත. 99.8% අධි සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් ඇලුමිනා (Al₂O₃) වලින් නිෂ්පාදනය කරන ලද මෙම වළල්ල, ප්ලාස්මා සීමා කිරීමට සහ කුටි බිත්ති ඛාදනයෙන් ආරක්ෂා කිරීමට කුටි ලයිනර්, නාභිගත වළල්ලක් හෝ ක්‍රියාවලි කට්ටල සංරචකයක් ලෙස සේවය කරයි. ද්‍රව්‍යය විශිෂ්ට ප්ලාස්මා ප්‍රතිරෝධයක්, ඉහළ පාර විද්‍යුත් ශක්තියක් (15×10⁶ V/m) සහ 1600°C දක්වා තාප ස්ථායිතාව ලබා දෙන අතර, ආක්‍රමණශීලී ෆ්ලෝරීන් මත පදනම් වූ ප්ලාස්මා පරිසරයන්හි දිගු සේවා කාලය සහතික කරයි. නිරවද්‍ය මාන ඉවසීම් (ID/OD මත ±0.05 mm) සහ පැතලි බව (≤10 μm) ස්ථාවර වේෆර් දාර ස්ථානගත කිරීම, තැන්පත් කිරීමේ ඒකාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කිරීම සහ අංශු උත්පාදනය අඩු කිරීම සක්‍රීය කරයි.
-
බර්නූලි සෙරමික් අන්ත ප්‍රයෝගකය — තුනී සහ බිඳෙන සුළු වේෆර් සඳහා ස්පර්ශ නොවන වේෆර් හැසිරවීම
ශාන්ත සෙරා හි බර්නූලි සෙරමික් අන්ත ප්‍රයෝගකය භෞතික ස්පර්ශයකින් තොරව වේෆර් හැසිරවීමට වායුගතික සෝපානය භාවිතා කරයි. ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් 99.8% ඇලුමිනා (Al₂O₃) හෝ සිලිකන් කාබයිඩ් (SiC) වලින් නිෂ්පාදනය කරන ලද එය, අන්ත ප්‍රයෝගකය සහ වේෆර් අතර තුනී වායු පටලයක් නිර්මාණය කිරීම සඳහා පීඩන වායුව පිට කරන නිරවද්‍ය යන්ත්‍රගත තුණ්ඩ වලින් සමන්විත වේ. මෙම ස්පර්ශ නොවන මූලධර්මය පිටුපස දූෂණය, දාර චිපින් සහ මතුපිට හානි ඉවත් කරයි, එය තුනී (≤100 μm), බිඳෙනසුලු හෝ විකෘති වූ වේෆර් සඳහා වඩාත් සුදුසු වේ. සෙරමික් උපස්ථරය ඉහළ නම්‍යශීලී ශක්තියක් (Al₂O₃ සඳහා 361 MPa; SiC සඳහා 550–600 MPa දක්වා), අඩු ස්කන්ධයක් සහ විශිෂ්ට මාන ස්ථාවරත්වයක් ලබා දෙයි, අධිවේගී වේෆර් හුවමාරු රොබෝවරුන් තුළ නැවත නැවත ස්ථානගත කිරීම සහතික කරයි.
