-
Pemprosesan Tersuai bagi Chuck Wafer Seramik Al2O3
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Plat Seramik Peralatan Semikonduktor Tersuai ST.CERA
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Chuck Vakum Alumina 12-Inci untuk Pemprosesan Wafer 300mm
Chuck vakum 12 inci St.Cera direka bentuk dengan tepat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃) untuk pengendalian wafer 300mm. Chuck ini mempunyai permukaan beralur halus (lebar alur 0.5–1.0 mm, pic 2–3 mm) untuk memastikan pengagihan vakum yang seragam merentasi keseluruhan diameter 300mm. Kerataan dikekalkan dalam lingkungan 5 μm, membolehkan penetapan wafer bebas meleding semasa pemotongan dadu, pengisaran bahagian belakang dan pemeriksaan. Kekuatan lenturan bahan yang tinggi (361 MPa) dan kekerasan (16 GPa) menjamin kestabilan dimensi jangka panjang walaupun di bawah kitaran vakum berulang.
-
Pengesan Hujung Seramik Alumina dengan Saluran Vakum Bersepadu
Efektor hujung vakum alumina St.Cera mengintegrasikan saluran vakum mesin jitu dan lubang sedutan terus ke dalam badan alumina ketulenan tinggi 99.8%. Reka bentuk ini menghapuskan pad vakum luaran, membolehkan pengambilan wafer langsung dengan daya pegangan seragam. Kekuatan lenturan bahan yang tinggi (361 MPa) dan kekerasan (16 GPa) memastikan kestabilan dimensi jangka panjang di bawah kitaran vakum berulang. Kerataan merentasi kawasan pad dikekalkan dalam lingkungan 10 μm, mencegah tekanan wafer dan kerosakan. Port vakum terletak pada bebibir pelekap belakang untuk penyepaduan mudah dengan lengan robot OEM.
-
Bahagian Seramik Alumina Selamat ESD untuk Pengendalian Wafer Sensitif Statik
Bahagian seramik alumina selamat ESD (penyalaan elektrostatik) St.Cera dihasilkan daripada 99.8% Al₂O₃ berketulenan tinggi dengan kerintangan permukaan tersuai 10⁶–10⁹ Ω/sq, dicapai melalui proses doping atau salutan proprietari. Bahagian-bahagian ini berkesan menghilangkan cas statik, mencegah kerosakan elektrostatik pada wafer dan peranti semikonduktor sensitif. Bahan asas mengekalkan kekuatan lenturan yang tinggi (361 MPa), kekerasan (16 GPa), dan kekuatan dielektrik (15×10⁶ V/m). Bahagian seramik selamat ESD termasuk efektor hujung, pin angkat, rel panduan dan lekapan tersuai untuk automasi FAB.
-
Alat Ganti Seramik untuk Peralatan Probe Semikonduktor
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Pembawa Peralatan Semikonduktor Plat Seramik
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Alat Ganti Seramik Peralatan Semikonduktor
Dibentuk melalui penekanan isostatik sejuk dan disinter di bawah suhu tinggi, kemudian dimesin dan digilap dengan tepat, alat ganti seramik ini dapat memenuhi sebarang keperluan ketat peralatan semikonduktor dengan ciri-ciri rintangan haus, rintangan kakisan, pengembangan haba yang rendah, dan penebat. Seramik boleh berfungsi dalam pelbagai jenis peralatan pengeluaran semikonduktor dengan keadaan suhu tinggi, vakum atau gas menghakis untuk masa yang lama.
Diperbuat daripada serbuk alumina berketulenan tinggi, diproses melalui penekanan isostatik sejuk, pensinteran suhu tinggi dan kemasan ketepatan, ia boleh mencapai toleransi dimensi hingga ±0.001 mm, kemasan permukaan Ra 0.1, rintangan suhu 1600℃.
-
Cincin Meterai Seramik Alumina Ketulenan Tinggi untuk Pengedap Ruang Suhu Tinggi
Cincin pengedap seramik St.Cera direka bentuk sebagai alternatif kepada cincin-O polimer dalam persekitaran ekstrem di mana elastomer terdegradasi. Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin pengedap tegar ini digunakan dalam aplikasi pengedap statik — biasanya dipasangkan dengan logam lembut atau gasket grafit — untuk menyediakan pembendungan vakum atau gas yang boleh dipercayai pada suhu sehingga 800°C dan dalam persekitaran plasma atau kimia yang agresif. Bahan ini menawarkan sifar gas keluar, kekuatan mampatan yang tinggi (kekuatan lenturan asas 361 MPa), dan inert kimia (tahan terhadap halogen, asid dan alkali kecuali HF). Permukaan pengedap yang dilekatkan dengan ketepatan (kerataan ≤5 μm, kekasaran permukaan Ra ≤0.2 μm) memastikan sentuhan kedap bocor dengan komponen logam atau seramik yang sepadan.
-
Cincin Fokus Kebuk Alumina Ketulenan Tinggi untuk Sistem Etsa Plasma & CVD
Cincin fokus ruang St.Cera ialah komponen kit proses kritikal yang digunakan dalam peralatan semikonduktor etsa plasma, CVD dan PVD. Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin ini mengelilingi tepi wafer untuk mengurung plasma dan mengoptimumkan taburan sudut ion, sekali gus meningkatkan keseragaman etsa merentasi permukaan wafer. Bahan ini menawarkan rintangan plasma yang luar biasa, kekuatan dielektrik yang tinggi (15×10⁶ V/m), dan kestabilan haba sehingga 1600°C, memastikan kebolehpercayaan jangka panjang dalam persekitaran plasma berasaskan fluorin atau klorin yang agresif. ID/OD dan kerataan pembumian ketepatan (≤10 μm) membolehkan kedudukan tepi wafer yang tepat, mengurangkan kecacatan tepi dan penjanaan zarah.
-
Cincin Seramik Alumina Ketulenan Tinggi untuk Ruang Proses CVD / PVD
Cincin seramik St.Cera direka khusus untuk digunakan dalam ruang proses CVD (Pemendapan Wap Kimia) dan PVD (Pemendapan Wap Fizikal). Diperbuat daripada 99.8% alumina ketulenan tinggi (Al₂O₃), cincin ini berfungsi sebagai pelapik ruang, cincin fokus atau komponen kit proses untuk mengurung plasma dan melindungi dinding ruang daripada hakisan. Bahan ini menawarkan rintangan plasma yang sangat baik, kekuatan dielektrik yang tinggi (15×10⁶ V/m), dan kestabilan haba sehingga 1600°C, memastikan hayat perkhidmatan yang panjang dalam persekitaran plasma berasaskan fluorin yang agresif. Toleransi dimensi yang tepat (±0.05 mm pada ID/OD) dan kerataan (≤10 μm) membolehkan kedudukan tepi wafer yang konsisten, meningkatkan keseragaman pemendapan dan mengurangkan penjanaan zarah.
-
Efektor Hujung Seramik Bernoulli — Pengendalian Wafer Tanpa Sentuhan untuk Wafer Nipis & Rapuh
Efektor hujung seramik Bernoulli St.Cera menggunakan daya angkat aerodinamik untuk mengendalikan wafer tanpa sentuhan fizikal. Diperbuat daripada alumina (Al₂O₃) atau silikon karbida (SiC) 99.8% ketulenan tinggi, ia mempunyai muncung mesin jitu yang mengeluarkan gas bertekanan untuk menghasilkan filem udara nipis antara efektor hujung dan wafer. Prinsip tanpa sentuhan ini menghapuskan pencemaran bahagian belakang, keretakan tepi dan kerosakan permukaan, menjadikannya sesuai untuk wafer nipis (≤100 μm), rapuh atau melengkung. Substrat seramik memberikan kekuatan lenturan yang tinggi (361 MPa untuk Al₂O₃; sehingga 550–600 MPa untuk SiC), jisim rendah dan kestabilan dimensi yang sangat baik, memastikan kedudukan berulang dalam robot pemindahan wafer berkelajuan tinggi.
