-
Персонализирана обработка на керамичен патронник от Al2O3
Формирани чрез студено изостатично пресоване и синтеровани при висока температура, след което прецизно обработени и полирани, керамичните резервни части могат да отговорят на всички строги изисквания на полупроводниковото оборудване със своите характеристики като износоустойчивост, устойчивост на корозия, ниско термично разширение и изолация. Керамиката може да работи в много видове оборудване за производство на полупроводници при условия на висока температура, вакуум или корозивен газ за дълго време.
Изработен от високочист алуминиев прах, обработен чрез студено изостатично пресоване, високотемпературно синтероване и прецизна обработка, той може да достигне толеранс на размерите до ±0,001 мм, повърхностна обработка Ra 0,1, температурна устойчивост 1600℃.
-
ST.CERA Керамична плоча за полупроводниково оборудване
Формирани чрез студено изостатично пресоване и синтеровани при висока температура, след което прецизно обработени и полирани, керамичните резервни части могат да отговорят на всички строги изисквания на полупроводниковото оборудване със своите характеристики като износоустойчивост, устойчивост на корозия, ниско термично разширение и изолация. Керамиката може да работи в много видове оборудване за производство на полупроводници при условия на висока температура, вакуум или корозивен газ за дълго време.
Изработен от високочист алуминиев прах, обработен чрез студено изостатично пресоване, високотемпературно синтероване и прецизна обработка, той може да достигне толеранс на размерите до ±0,001 мм, повърхностна обработка Ra 0,1, температурна устойчивост 1600℃.
-
12-инчов вакуумен патронник от алуминиев оксид за обработка на 300 мм пластини
12-инчовият вакуумен патронник на St.Cera е прецизно изработен от 99,8% алуминиев оксид (Al₂O₃) с висока чистота за работа с пластини с диаметър 300 мм. Патронникът е с фино набраздена повърхност (ширина на канала 0,5–1,0 мм, стъпка 2–3 мм), за да се осигури равномерно разпределение на вакуума по целия диаметър от 300 мм. Плоскостта се поддържа в рамките на 5 μm, което позволява фиксиране на пластините без деформации по време на рязане, шлайфане на задната страна и проверка. Високата якост на огъване (361 MPa) и твърдост (16 GPa) на материала гарантират дългосрочна размерна стабилност дори при многократни цикли на вакуумиране.
-
Алуминиево-керамичен краен ефектор с интегрирани вакуумни канали
Вакуумният краен ефектор от алуминиев оксид на St.Cera интегрира прецизно обработени вакуумни канали и смукателни отвори директно в тялото от алуминиев оксид с висока чистота 99,8%. Този дизайн елиминира външните вакуумни подложки, което позволява директно поемане на пластината с равномерна сила на задържане. Високата якост на огъване (361 MPa) и твърдост (16 GPa) на материала осигуряват дългосрочна размерна стабилност при многократни цикли на вакуумиране. Равността по площта на подложката се поддържа в рамките на 10 μm, предотвратявайки напрежение и счупване на пластината. Вакуумните отвори са разположени на задния монтажен фланец за лесна интеграция с OEM роботизирани рамена.
-
ESD-безопасни алуминиево-керамични части за работа с чувствителни към статично електричество пластини
Алуминиево-керамичните части на St.Cera, безопасни за ESD (електростатично разреждане), са произведени от 99,8% Al₂O₃ с висока чистота и специално повърхностно съпротивление от 10⁶–10⁹ Ω/sq, постигнато чрез патентован процес на легиране или покритие. Тези части ефективно разсейват статичния заряд, предотвратявайки електростатично увреждане на чувствителни полупроводникови пластини и устройства. Основният материал запазва високата си якост на огъване (361 MPa), твърдост (16 GPa) и диелектрична якост (15×10⁶ V/m). ESD-безопасните керамични части включват крайни ефектори, повдигащи щифтове, направляващи релси и персонализирани приспособления за FAB автоматизация.
-
Керамични резервни части за полупроводниково сондиращо оборудване
Формирани чрез студено изостатично пресоване и синтеровани при висока температура, след което прецизно обработени и полирани, керамичните резервни части могат да отговорят на всички строги изисквания на полупроводниковото оборудване със своите характеристики като износоустойчивост, устойчивост на корозия, ниско термично разширение и изолация. Керамиката може да работи в много видове оборудване за производство на полупроводници при условия на висока температура, вакуум или корозивен газ за дълго време.
Изработен от високочист алуминиев прах, обработен чрез студено изостатично пресоване, високотемпературно синтероване и прецизна обработка, той може да достигне толеранс на размерите до ±0,001 мм, повърхностна обработка Ra 0,1, температурна устойчивост 1600℃.
-
Носач за полупроводниково оборудване с керамична плоча
Формирани чрез студено изостатично пресоване и синтеровани при висока температура, след което прецизно обработени и полирани, керамичните резервни части могат да отговорят на всички строги изисквания на полупроводниковото оборудване със своите характеристики като износоустойчивост, устойчивост на корозия, ниско термично разширение и изолация. Керамиката може да работи в много видове оборудване за производство на полупроводници при условия на висока температура, вакуум или корозивен газ за дълго време.
Изработен от високочист алуминиев прах, обработен чрез студено изостатично пресоване, високотемпературно синтероване и прецизна обработка, той може да достигне толеранс на размерите до ±0,001 мм, повърхностна обработка Ra 0,1, температурна устойчивост 1600℃.
-
Керамични резервни части за полупроводниково оборудване
Формирани чрез студено изостатично пресоване и синтеровани при висока температура, след което прецизно обработени и полирани, керамичните резервни части могат да отговорят на всички строги изисквания на полупроводниковото оборудване със своите характеристики като износоустойчивост, устойчивост на корозия, ниско термично разширение и изолация. Керамиката може да работи в много видове оборудване за производство на полупроводници при условия на висока температура, вакуум или корозивен газ за дълго време.
Изработен от високочист алуминиев прах, обработен чрез студено изостатично пресоване, високотемпературно синтероване и прецизна обработка, той може да достигне толеранс на размерите до ±0,001 мм, повърхностна обработка Ra 0,1, температурна устойчивост 1600℃.
-
Керамичен уплътнителен пръстен с висока чистота от алуминиев оксид за уплътняване на камери с висока температура
Керамичният уплътнителен пръстен на St.Cera е проектиран като алтернатива на полимерните О-пръстени в екстремни среди, където еластомерите се разграждат. Изработен от 99,8% алуминиев оксид с висока чистота (Al₂O₃), този твърд уплътнителен пръстен се използва в приложения за статично уплътняване — обикновено в комбинация с меко метално или графитно уплътнение — за да осигури надеждно вакуумно или газово задържане при температури до 800°C и в агресивна плазмена или химическа среда. Материалът предлага нулево отделяне на газове, висока якост на натиск (основна якост на огъване 361 MPa) и химическа инертност (устойчив на халогени, киселини и основи, с изключение на HF). Прецизно прилепналите уплътнителни повърхности (плоскост ≤5 μm, грапавост на повърхността Ra ≤0,2 μm) осигуряват херметичен контакт със свързващите метални или керамични компоненти.
-
Фокусиращ пръстен от високочиста алуминиева камера за системи за плазмено ецване и CVD
Фокусиращият пръстен на St.Cera е критичен компонент от технологичния комплект, използван в полупроводниковото оборудване за плазмено ецване, CVD и PVD. Изработен от 99,8% алуминиев оксид с висока чистота (Al₂O₃), пръстенът обгражда ръба на пластината, за да ограничи плазмата и да оптимизира ъгловото разпределение на йоните, като по този начин подобрява равномерността на ецването по цялата повърхност на пластината. Материалът предлага изключителна плазмена устойчивост, висока диелектрична якост (15×10⁶ V/m) и термична стабилност до 1600°C, осигурявайки дългосрочна надеждност в агресивни плазмени среди на базата на флуор или хлор. Прецизно шлифованият вътрешен/външен диаметър и плоскост (≤10 μm) позволяват точно позициониране на ръбовете на пластината, намалявайки дефектите по ръбовете и генерирането на частици.
-
Керамичен пръстен от алуминиев оксид с висока чистота за CVD/PVD технологични камери
Керамичният пръстен на St.Cera е специално проектиран за употреба в CVD (химическо отлагане от пари) и PVD (физическо отлагане от пари) технологични камери. Изработен от 99,8% алуминиев оксид (Al₂O₃) с висока чистота, този пръстен служи като облицовка на камерата, фокусиращ пръстен или компонент на технологичен комплект за ограничаване на плазмата и защита на стените на камерата от ерозия. Материалът предлага отлична плазмена устойчивост, висока диелектрична якост (15×10⁶ V/m) и термична стабилност до 1600°C, осигурявайки дълъг експлоатационен живот в агресивни плазмени среди на базата на флуор. Прецизните размерни допуски (±0,05 mm на вътрешен/външен диаметър) и плоскост (≤10 μm) позволяват постоянно позициониране на ръбовете на пластината, подобрявайки равномерността на отлагането и намалявайки генерирането на частици.
-
Керамичен краен ефектор Bernoulli — безконтактно боравене с тънки и крехки пластини
Керамичният краен ефектор Bernoulli на St.Cera използва аеродинамична подемна сила за работа с пластини без физически контакт. Изработен от високочист 99,8% алуминиев оксид (Al₂O₃) или силициев карбид (SiC), той е снабден с прецизно обработени дюзи, които изхвърлят газ под налягане, за да създадат тънък въздушен филм между крайния ефектор и пластината. Този принцип на безконтактно действие елиминира замърсяването на задната страна, отчупването на ръбовете и повредите на повърхността, което го прави идеален за тънки (≤100 μm), крехки или изкривени пластини. Керамичната основа осигурява висока якост на огъване (361 MPa за Al₂O₃; до 550–600 MPa за SiC), ниска маса и отлична размерна стабилност, осигурявайки повторяемо позициониране във високоскоростни роботи за трансфер на пластини.
