səhifə_banneri

Məhsullar

  • Al2O3 Keramik Vafli Çakının Xüsusi Emalı

    Al2O3 Keramik Vafli Çakının Xüsusi Emalı

    Soyuq izostatik presləmə və yüksək temperatur altında sinterləmə yolu ilə formalaşdırılan, daha sonra dəqiq emal və cilalama yolu ilə hazırlanan keramika ehtiyat hissələri aşınma müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, aşağı istilik genişlənməsi və izolyasiya xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici avadanlıqların istənilən ciddi tələblərinə cavab verə bilər. Keramika uzun müddət yüksək temperatur, vakuum və ya korroziyalı qaz şəraitində bir çox növ yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarında işləyə bilər.

    Soyuq izostatik presləmə, yüksək temperaturda sinterləmə və dəqiq işləmə ilə işlənmiş yüksək təmizlikli alüminium oksidi tozundan hazırlanmış bu material, ölçü tolerantlığına ±0.001 mm, səth örtüyü Ra 0.1, temperatur müqavimətinə 1600℃ çata bilər.

  • ST.CERA Xüsusi Yarımkeçirici Avadanlıq Seramik Plitə

    ST.CERA Xüsusi Yarımkeçirici Avadanlıq Seramik Plitə

    Soyuq izostatik presləmə və yüksək temperatur altında sinterləmə yolu ilə formalaşdırılan, daha sonra dəqiq emal və cilalama yolu ilə hazırlanan keramika ehtiyat hissələri aşınma müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, aşağı istilik genişlənməsi və izolyasiya xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici avadanlıqların istənilən ciddi tələblərinə cavab verə bilər. Keramika uzun müddət yüksək temperatur, vakuum və ya korroziyalı qaz şəraitində bir çox növ yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarında işləyə bilər.

    Soyuq izostatik presləmə, yüksək temperaturda sinterləmə və dəqiq işləmə ilə işlənmiş yüksək təmizlikli alüminium oksidi tozundan hazırlanmış bu material, ölçü tolerantlığına ±0.001 mm, səth örtüyü Ra 0.1, temperatur müqavimətinə 1600℃ çata bilər.

  • 300 mm lövhə emalı üçün 12 düymlük alüminium ərintisi vakuum çubuğu

    300 mm lövhə emalı üçün 12 düymlük alüminium ərintisi vakuum çubuğu

    St.Cera-nın 12 düymlük vakuum patronu, 300 mm lövhənin idarə olunması üçün 99,8% yüksək təmizlikli alüminium oksidindən (Al₂O₃) dəqiqliklə hazırlanmışdır. Patron, bütün 300 mm diametrdə vakuumun vahid paylanmasını təmin etmək üçün incə yivli bir səthə (yiv eni 0,5–1,0 mm, addım 2–3 mm) malikdir. Düzlük 5 μm daxilində saxlanılır ki, bu da doğrama, arxa üyütmə və yoxlama zamanı lövhənin əyilmədən fiksasiyasına imkan verir. Materialın yüksək əyilmə möhkəmliyi (361 MPa) və sərtliyi (16 GPa) təkrarlanan vakuum dövrləri altında belə uzunmüddətli ölçülü sabitliyi təmin edir.

  • İnteqrasiya olunmuş Vakuum Kanalları ilə Alüminium Oksidli Keramika Son Effektoru

    İnteqrasiya olunmuş Vakuum Kanalları ilə Alüminium Oksidli Keramika Son Effektoru

    St.Cera-nın alüminium oksidi vakuum uc effektoru dəqiq işlənmiş vakuum kanallarını və emiş dəliklərini birbaşa 99,8% yüksək təmizlikli alüminium oksidi gövdəsinə birləşdirir. Bu dizayn xarici vakuum yastıqlarını aradan qaldırır və vahid tutma qüvvəsi ilə lövhənin birbaşa tutulmasına imkan verir. Materialın yüksək əyilmə gücü (361 MPa) və sərtliyi (16 GPa) təkrarlanan vakuum dövrləri altında uzunmüddətli ölçülü sabitliyi təmin edir. Yastıq sahəsi boyunca düzlük 10 μm daxilində saxlanılır və lövhənin gərginliyinin və qırılmasının qarşısını alır. OEM robot qolları ilə asan inteqrasiya üçün vakuum portları arxa montaj flanşında yerləşir.

  • Statik Həssas Plitələr İşlənməsi üçün ESD-Təhlükəsiz Alüminium Oksid Seramik Hissələri

    Statik Həssas Plitələr İşlənməsi üçün ESD-Təhlükəsiz Alüminium Oksid Seramik Hissələri

    St.Cera şirkətinin ESD (elektrostatik boşalma) üçün təhlükəsiz alüminium oksidi keramika hissələri, xüsusi dopinq və ya örtük prosesi vasitəsilə əldə edilən 10⁶–10⁹ Ω/kv xüsusi səth müqaviməti ilə 99,8% yüksək təmizlikli Al₂O₃-dan istehsal olunur. Bu hissələr həssas yarımkeçirici lövhələrə və cihazlara elektrostatik zərərin qarşısını alaraq statik yükü effektiv şəkildə dağıdır. Əsas material yüksək əyilmə möhkəmliyini (361 MPa), sərtliyini (16 GPa) və dielektrik möhkəmliyini (15 × 10⁶ V/m) saxlayır. ESD üçün təhlükəsiz keramika hissələrinə son effektorlar, qaldırıcı sancaqlar, istiqamətləndirici raylar və FAB avtomatlaşdırması üçün xüsusi qurğular daxildir.

  • Yarımkeçirici Zond Avadanlığı üçün Seramik Ehtiyat Hissələri

    Yarımkeçirici Zond Avadanlığı üçün Seramik Ehtiyat Hissələri

    Soyuq izostatik presləmə və yüksək temperatur altında sinterləmə yolu ilə formalaşdırılan, daha sonra dəqiq emal və cilalama yolu ilə hazırlanan keramika ehtiyat hissələri aşınma müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, aşağı istilik genişlənməsi və izolyasiya xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici avadanlıqların istənilən ciddi tələblərinə cavab verə bilər. Keramika uzun müddət yüksək temperatur, vakuum və ya korroziyalı qaz şəraitində bir çox növ yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarında işləyə bilər.

    Soyuq izostatik presləmə, yüksək temperaturda sinterləmə və dəqiq işləmə ilə işlənmiş yüksək təmizlikli alüminium oksidi tozundan hazırlanmış bu material, ölçü tolerantlığına ±0.001 mm, səth örtüyü Ra 0.1, temperatur müqavimətinə 1600℃ çata bilər.

  • Keramik Plitə Yarımkeçirici Avadanlıq Daşıyıcısı

    Keramik Plitə Yarımkeçirici Avadanlıq Daşıyıcısı

    Soyuq izostatik presləmə və yüksək temperatur altında sinterləmə yolu ilə formalaşdırılan, daha sonra dəqiq emal və cilalama yolu ilə hazırlanan keramika ehtiyat hissələri aşınma müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, aşağı istilik genişlənməsi və izolyasiya xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici avadanlıqların istənilən ciddi tələblərinə cavab verə bilər. Keramika uzun müddət yüksək temperatur, vakuum və ya korroziyalı qaz şəraitində bir çox növ yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarında işləyə bilər.

    Soyuq izostatik presləmə, yüksək temperaturda sinterləmə və dəqiq işləmə ilə işlənmiş yüksək təmizlikli alüminium oksidi tozundan hazırlanmış bu material, ölçü tolerantlığına ±0.001 mm, səth örtüyü Ra 0.1, temperatur müqavimətinə 1600℃ çata bilər.

  • Yarımkeçirici Avadanlıqlar Keramika Ehtiyat Hissələri

    Yarımkeçirici Avadanlıqlar Keramika Ehtiyat Hissələri

    Soyuq izostatik presləmə və yüksək temperatur altında sinterləmə yolu ilə formalaşdırılan, daha sonra dəqiq emal və cilalama yolu ilə hazırlanan keramika ehtiyat hissələri aşınma müqaviməti, korroziyaya davamlılıq, aşağı istilik genişlənməsi və izolyasiya xüsusiyyətləri ilə yarımkeçirici avadanlıqların istənilən ciddi tələblərinə cavab verə bilər. Keramika uzun müddət yüksək temperatur, vakuum və ya korroziyalı qaz şəraitində bir çox növ yarımkeçirici istehsal avadanlıqlarında işləyə bilər.

    Soyuq izostatik presləmə, yüksək temperaturda sinterləmə və dəqiq işləmə ilə işlənmiş yüksək təmizlikli alüminium oksidi tozundan hazırlanmış bu material, ölçü tolerantlığına ±0.001 mm, səth örtüyü Ra 0.1, temperatur müqavimətinə 1600℃ çata bilər.

  • Yüksək Temperaturlu Kamera Mühürləməsi üçün Yüksək Saflıqlı Alüminium Keramika Mühür Halqası

    Yüksək Temperaturlu Kamera Mühürləməsi üçün Yüksək Saflıqlı Alüminium Keramika Mühür Halqası

    St.Cera-nın keramika möhürləyici halqası, elastomerlərin parçalandığı ekstremal mühitlərdə polimer O-halqalarına alternativ olaraq hazırlanmışdır. 99,8% yüksək təmizlikli alüminium oksidindən (Al₂O₃) istehsal olunan bu sərt möhürləyici halqa, 800°C-yə qədər temperaturda və aqressiv plazma və ya kimyəvi mühitlərdə etibarlı vakuum və ya qaz saxlama təmin etmək üçün adətən yumşaq metal və ya qrafit contası ilə birləşdirilərək statik möhürləmə tətbiqlərində istifadə olunur. Material sıfır qaz çıxışı, yüksək sıxılma gücü (əsas əyilmə gücü 361 MPa) və kimyəvi inertlik (HF istisna olmaqla, halogenlərə, turşulara və qələvilərə davamlılıq) təklif edir. Dəqiq örtüklü möhürləyici səthlər (düzlük ≤5 μm, səth pürüzlülüyü Ra ≤0,2 μm) birləşən metal və ya keramika komponentləri ilə sızmaya davamlı təmas təmin edir.

  • Plazma Aşındırma və Ürək-Dərman Sistemləri üçün Yüksək Saflıqlı Alüminium Oksid Kamerası Fokus Halqası

    Plazma Aşındırma və Ürək-Dərman Sistemləri üçün Yüksək Saflıqlı Alüminium Oksid Kamerası Fokus Halqası

    St.Cera-nın kamera fokus halqası plazma aşındırma, CVD və PVD yarımkeçirici avadanlıqlarında istifadə olunan vacib bir proses dəsti komponentidir. 99,8% yüksək təmizlikli alüminium oksidindən (Al₂O₃) istehsal olunan halqa, plazmanı məhdudlaşdırmaq və ion bucaq paylanmasını optimallaşdırmaq üçün lövhə kənarını əhatə edir və bununla da lövhə səthində aşındırma vahidliyini artırır. Material müstəsna plazma müqaviməti, yüksək dielektrik möhkəmlik (15 × 10⁶ V/m) və 1600°C-yə qədər istilik stabilliyi təklif edir, aqressiv flüor və ya xlor əsaslı plazma mühitlərində uzunmüddətli etibarlılığı təmin edir. Dəqiq torpaqlama ID/OD və düzlük (≤10 μm) lövhə kənarının dəqiq yerləşdirilməsini təmin edir, kənar qüsurlarını və hissəciklərin əmələ gəlməsini azaldır.

  • CVD / PVD proses kameraları üçün yüksək təmizlikli alüminium keramika halqası

    CVD / PVD proses kameraları üçün yüksək təmizlikli alüminium keramika halqası

    St.Cera-nın keramika halqası xüsusi olaraq CVD (Kimyəvi Buxar Çökməsi) və PVD (Fiziki Buxar Çökməsi) proses kameralarında istifadə üçün hazırlanmışdır. 99,8% yüksək təmizlikli alüminium oksidindən (Al₂O₃) istehsal olunan bu halqa, plazmanı məhdudlaşdırmaq və kamera divarlarını eroziyadan qorumaq üçün kamera layneri, fokus halqası və ya proses dəsti komponenti kimi xidmət edir. Material əla plazma müqaviməti, yüksək dielektrik möhkəmlik (15 × 10⁶ V/m) və 1600°C-yə qədər istilik stabilliyi təklif edir, aqressiv flüor əsaslı plazma mühitlərində uzun xidmət müddətini təmin edir. Dəqiq ölçülü toleranslar (ID/OD-də ±0,05 mm) və düzlük (≤10 μm) lövhə kənarlarının ardıcıl yerləşdirilməsinə imkan verir, çökmə vahidliyini artırır və hissəciklərin əmələ gəlməsini azaldır.

  • Bernoulli Keramika Uc Effektoru — Nazik və Kövrək Vaflilər üçün Təmassız Vafli İşləməsi

    Bernoulli Keramika Uc Effektoru — Nazik və Kövrək Vaflilər üçün Təmassız Vafli İşləməsi

    St.Cera-nın Bernoulli keramika son effektoru, fiziki təmas olmadan lövhələri idarə etmək üçün aerodinamik qaldırıcıdan istifadə edir. Yüksək təmizlikli 99,8% alüminium oksidindən (Al₂O₃) və ya silikon karbiddən (SiC) istehsal olunan bu cihaz, son effektorla lövhə arasında nazik hava təbəqəsi yaratmaq üçün təzyiqli qaz buraxan dəqiq işlənmiş burunlara malikdir. Bu təmassız prinsip arxa çirklənməni, kənarların qırılmasını və səth zədələnməsini aradan qaldırır və bu da onu nazik (≤100 μm), kövrək və ya əyri lövhələr üçün ideal edir. Keramika substratı yüksək əyilmə möhkəmliyi (Al₂O₃ üçün 361 MPa; SiC üçün 550–600 MPa-ya qədər), aşağı kütlə və əla ölçülü sabitlik təmin edir və yüksək sürətli lövhə ötürmə robotlarında təkrarlana bilən yerləşdirməni təmin edir.