-
Aangepaste verwerking van Al2O3 keramiek wafer chuck
Gevorm deur koue isostatiese persing en gesinter onder hoë temperatuur, dan presisie-bewerk en gepoleer, kan die keramiek-onderdele aan enige streng vereistes van halfgeleiertoerusting voldoen met sy eienskappe van slytasiebestandheid, korrosieweerstand, lae termiese uitsetting en isolasie. Keramiek kan vir 'n lang tyd in baie soorte halfgeleierproduksietoerusting werk onder toestande van hoë temperatuur, vakuum of korrosiewe gas.
Gemaak van hoë-suiwerheid aluminapoeier, verwerk deur koue isostatiese persing, hoë temperatuur sintering en presisie-afwerking, kan dit die dimensietoleransie van ±0.001 mm bereik, oppervlakafwerking Ra 0.1, temperatuurweerstand 1600 ℃.
-
ST.CERA Aangepaste Halfgeleiertoerusting Keramiekplaat
Gevorm deur koue isostatiese persing en gesinter onder hoë temperatuur, dan presisie-bewerk en gepoleer, kan die keramiek-onderdele aan enige streng vereistes van halfgeleiertoerusting voldoen met sy eienskappe van slytasiebestandheid, korrosieweerstand, lae termiese uitsetting en isolasie. Keramiek kan vir 'n lang tyd in baie soorte halfgeleierproduksietoerusting werk onder toestande van hoë temperatuur, vakuum of korrosiewe gas.
Gemaak van hoë-suiwerheid aluminapoeier, verwerk deur koue isostatiese persing, hoë temperatuur sintering en presisie-afwerking, kan dit die dimensietoleransie van ±0.001 mm bereik, oppervlakafwerking Ra 0.1, temperatuurweerstand 1600 ℃.
-
12-duim alumina-vakuumkop vir 300 mm waferverwerking
St.Cera se 12-duim vakuumklauwplaat is presisie-ontwerp van 99.8% hoë-suiwerheid alumina (Al₂O₃) vir 300 mm waferhantering. Die klauwplaat het 'n fyn gegroefde oppervlak (groefwydte 0.5–1.0 mm, steek 2–3 mm) om eenvormige vakuumverspreiding oor die hele 300 mm-deursnee te verseker. Platheid word binne 5 μm gehandhaaf, wat krommingvrye waferfiksasie tydens sny, agterkantslyp en inspeksie moontlik maak. Die materiaal se hoë buigsterkte (361 MPa) en hardheid (16 GPa) waarborg langtermyn dimensionele stabiliteit, selfs onder herhaalde vakuumsiklusse.
-
Alumina Keramiek Eindeffektor met Geïntegreerde Vakuumkanale
St.Cera se alumina-vakuum-eindeffektor integreer presisie-bewerkte vakuumkanale en suiggate direk in die 99.8% hoë-suiwerheid alumina-liggaam. Hierdie ontwerp elimineer eksterne vakuumkussings, wat direkte wafer-optel met eenvormige houkrag moontlik maak. Die materiaal se hoë buigsterkte (361 MPa) en hardheid (16 GPa) verseker langtermyn-dimensionele stabiliteit onder herhaalde vakuumsiklusse. Platheid oor die kussingarea word binne 10 μm gehandhaaf, wat waferspanning en -breking voorkom. Vakuumpoorte is by die agterste monteringsflens geleë vir maklike integrasie met OEM-robotarms.
-
ESD-veilige alumina-keramiekonderdele vir staties-sensitiewe waferhantering
St.Cera se ESD (elektrostatiese ontlading) veilige alumina keramiek onderdele word vervaardig van 99.8% hoë-suiwerheid Al₂O₃ met 'n aangepaste oppervlakweerstand van 10⁶–10⁹ Ω/vk, bereik deur 'n gepatenteerde doping- of bedekkingsproses. Hierdie onderdele versprei statiese lading effektief, wat elektrostatiese skade aan sensitiewe halfgeleierwafers en -toestelle voorkom. Die basismateriaal behou sy hoë buigsterkte (361 MPa), hardheid (16 GPa) en diëlektriese sterkte (15×10⁶ V/m). ESD-veilige keramiek onderdele sluit eindeffektore, hefpenne, geleidingsrails en aangepaste toebehore vir FAB-outomatisering in.
-
Keramiese Onderdele vir Halfgeleier-Probetoerusting
Gevorm deur koue isostatiese persing en gesinter onder hoë temperatuur, dan presisie-bewerk en gepoleer, kan die keramiek-onderdele aan enige streng vereistes van halfgeleiertoerusting voldoen met sy eienskappe van slytasiebestandheid, korrosieweerstand, lae termiese uitsetting en isolasie. Keramiek kan vir 'n lang tyd in baie soorte halfgeleierproduksietoerusting werk onder toestande van hoë temperatuur, vakuum of korrosiewe gas.
Gemaak van hoë-suiwerheid aluminapoeier, verwerk deur koue isostatiese persing, hoë temperatuur sintering en presisie-afwerking, kan dit die dimensietoleransie van ±0.001 mm bereik, oppervlakafwerking Ra 0.1, temperatuurweerstand 1600 ℃.
-
Keramiekplaat Halfgeleier Toerustingdraer
Gevorm deur koue isostatiese persing en gesinter onder hoë temperatuur, dan presisie-bewerk en gepoleer, kan die keramiek-onderdele aan enige streng vereistes van halfgeleiertoerusting voldoen met sy eienskappe van slytasiebestandheid, korrosieweerstand, lae termiese uitsetting en isolasie. Keramiek kan vir 'n lang tyd in baie soorte halfgeleierproduksietoerusting werk onder toestande van hoë temperatuur, vakuum of korrosiewe gas.
Gemaak van hoë-suiwerheid aluminapoeier, verwerk deur koue isostatiese persing, hoë temperatuur sintering en presisie-afwerking, kan dit die dimensietoleransie van ±0.001 mm bereik, oppervlakafwerking Ra 0.1, temperatuurweerstand 1600 ℃.
-
Keramiek Onderdele vir Halfgeleiertoerusting
Gevorm deur koue isostatiese persing en gesinter onder hoë temperatuur, dan presisie-bewerk en gepoleer, kan die keramiek-onderdele aan enige streng vereistes van halfgeleiertoerusting voldoen met sy eienskappe van slytasiebestandheid, korrosieweerstand, lae termiese uitsetting en isolasie. Keramiek kan vir 'n lang tyd in baie soorte halfgeleierproduksietoerusting werk onder toestande van hoë temperatuur, vakuum of korrosiewe gas.
Gemaak van hoë-suiwerheid aluminapoeier, verwerk deur koue isostatiese persing, hoë temperatuur sintering en presisie-afwerking, kan dit die dimensietoleransie van ±0.001 mm bereik, oppervlakafwerking Ra 0.1, temperatuurweerstand 1600 ℃.
-
Hoë-suiwerheid alumina keramiek seëlring vir hoë-temperatuur kamer verseëling
St.Cera se keramiek seëlring is ontwerp as 'n alternatief vir polimeer O-ringe in uiterste omgewings waar elastomere afbreek. Vervaardig van 99.8% hoë-suiwer alumina (Al₂O₃), word hierdie stewige seëlring gebruik in statiese seëltoepassings - tipies gepaard met 'n sagte metaal- of grafietpakking - om betroubare vakuum- of gasinsluiting te bied by temperature tot 800°C en in aggressiewe plasma- of chemiese omgewings. Die materiaal bied geen uitgassing, hoë druksterkte (onderliggende buigsterkte 361 MPa), en chemiese traagheid (bestand teen halogene, sure en alkalieë behalwe HF). Presisie-oorlappende seëloppervlaktes (platheid ≤5 μm, oppervlakruheid Ra ≤0.2 μm) verseker lekdigte kontak met bypassende metaal- of keramiekkomponente.
-
Hoë-Suiwerheid Alumina Kamer Fokusring vir Plasma Etch & CVD Stelsels
St.Cera se kamerfokusring is 'n kritieke proseskomponent wat in plasma-ets-, CVD- en PVD-halfgeleiertoerusting gebruik word. Vervaardig van 99.8% hoë-suiwer alumina (Al₂O₃), omring die ring die waferrand om plasma te beperk en ioonhoekverspreiding te optimaliseer, waardeur die etsuniformiteit oor die waferoppervlak verbeter word. Die materiaal bied uitsonderlike plasmaweerstand, hoë diëlektriese sterkte (15×10⁶ V/m) en termiese stabiliteit tot 1600°C, wat langtermynbetroubaarheid in aggressiewe fluoor- of chloorgebaseerde plasma-omgewings verseker. Presisiegeslypte ID/OD en platheid (≤10 μm) maak akkurate waferrandposisionering moontlik, wat randdefekte en deeltjiegenerering verminder.
-
Hoë-suiwerheid alumina keramiek ring vir CVD / PVD proseskamers
St.Cera se keramiekring is spesifiek ontwerp vir gebruik in CVD (Chemiese Vapor Deposition) en PVD (Fisiese Vapor Deposition) proseskamers. Vervaardig van 99.8% hoë-suiwer alumina (Al₂O₃), dien hierdie ring as 'n kamervoering, fokusring of prosesstelkomponent om plasma te beperk en kamerwande teen erosie te beskerm. Die materiaal bied uitstekende plasmaweerstand, hoë diëlektriese sterkte (15×10⁶ V/m), en termiese stabiliteit tot 1600°C, wat lang lewensduur in aggressiewe fluoor-gebaseerde plasma-omgewings verseker. Presiese dimensionele toleransies (±0.05 mm op ID/OD) en platheid (≤10 μm) maak konsekwente waferrandposisionering moontlik, wat afsettingseenvormigheid verbeter en deeltjiegenerering verminder.
-
Bernoulli Keramiese Eindeffektor — Kontaklose Waferhantering vir Dun & Bros Wafers
St.Cera se Bernoulli-keramiek-eindeffektor gebruik aërodinamiese hefkrag om wafers sonder fisiese kontak te hanteer. Vervaardig van hoë-suiwerheid 99.8% alumina (Al₂O₃) of silikonkarbied (SiC), beskik dit oor presisie-bewerkte spuitstukke wat drukgas uitwerp om 'n dun lugfilm tussen die eindeffektor en die wafer te skep. Hierdie kontaklose beginsel elimineer agterkantkontaminasie, randskyfies en oppervlakskade, wat dit ideaal maak vir dun (≤100 μm), brose of kromgetrekte wafers. Die keramiek-substraat bied hoë buigsterkte (361 MPa vir Al₂O₃; tot 550–600 MPa vir SiC), lae massa en uitstekende dimensionele stabiliteit, wat herhaalbare posisionering in hoëspoed-wafer-oordragrobotte verseker.
