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उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक डिस्क
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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एल्यूमिना सिरेमिक भुजा
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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सिरेमिक इन्सुलेशन रिंग सिरेमिक फोकसिंग रिंग
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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ST.CERA एल्यूमिना सिरेमिक क्लैम्प रिंग इन्सुलेशन सुरक्षा
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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वेफर हैंडलिंग के लिए उच्च-शुद्धता एल्यूमिना सिरेमिक रोबोट आर्म
सेंट सेरा का एल्यूमिना सिरेमिक रोबोट आर्म 99.8% उच्च शुद्धता वाले Al₂O₃ (एल्यूमिना) से सटीक इंजीनियरिंग द्वारा निर्मित है। इसमें असाधारण लचीलापन (361 MPa), उच्च कठोरता (16 GPa) और कम घनत्व (3.93 g/cm³) का संयोजन है, जिसके परिणामस्वरूप सेमीकंडक्टर वेफर स्थानांतरण के लिए एक हल्का लेकिन मजबूत आर्म बनता है। इस सामग्री का तापीय विस्तार गुणांक (7.2×10⁻⁶/°C) सिलिकॉन के लगभग समान है, जिससे प्रसंस्करण के दौरान तापीय असंतुलन कम से कम होता है।
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एल्यूमिना उच्च परिशुद्धता सिरेमिक रिंग सिरेमिक पार्ट्स
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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ST.CERA द्वारा अनुकूलित सेमीकंडक्टर उपकरण सिरेमिक चक
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सिरेमिक एंड इफेक्टर – उच्च तापमान पर वेफर हैंडलिंग के लिए उच्च कठोरता
सेंट सेरा का SiC सिरेमिक एंड इफ़ेक्टर उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड (SiC सामग्री 99.72%, मुक्त Si 0.05%) से S1111 बैच सामग्री का उपयोग करके निर्मित किया जाता है। यह असाधारण यांत्रिक गुण प्रदान करता है: फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ 449 MPa (मापा गया), इलास्टिक मॉड्यूलस 457 GPa (मापा गया), और विकर्स कठोरता 25–28 GPa (विशिष्ट)। कम घनत्व (3.10–3.15 g/cm³, विशिष्ट) उच्च विशिष्ट कठोरता प्रदान करता है, जो उच्च गति वाले वेफर ट्रांसफर रोबोट के लिए आदर्श है। 120–150 W/m·K (विशिष्ट) की तापीय चालकता और 4.0–4.5×10⁻⁶/℃ (विशिष्ट) के तापीय विस्तार गुणांक के साथ, यह एंड इफ़ेक्टर उच्च तापमान पर संचालन (1600–1700°C तक, बिना भार के) के दौरान ऊष्मा को प्रभावी ढंग से अपव्ययित करता है और आयामी स्थिरता बनाए रखता है। इसका काला/धूसर रंग और शून्य जल अवशोषण इसे क्लीनरूम के अनुकूल बनाता है।
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उच्च तापमान और प्लाज्मा वातावरण के लिए सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) आधारित वैक्यूम चक
सेंट सेरा का SiC-आधारित सिरेमिक चक उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड (बैच S1111, SiC 99.72%, मुक्त Si 0.05%) से निर्मित है। इसकी मापी गई फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ 449 MPa, फ्रैक्चर टफनेस 3.12 MPa·m¹/² और इलास्टिक मॉडुलस 457 GPa है। इस सामग्री की विशिष्ट थर्मल चालकता (120–150 W/m·K) और कम थर्मल विस्तार (4.0–4.5×10⁻⁶/℃) तीव्र तापमान वृद्धि और थर्मल साइक्लिंग के दौरान न्यूनतम वेफर विरूपण को सक्षम बनाते हैं। चक को पोरस वैक्यूम चक (समान गैस प्रवाह) या ग्रूव्ड स्टैंडर्ड चक के रूप में कॉन्फ़िगर किया जा सकता है। 1600-1700 डिग्री सेल्सियस (बिना लोड के) के अधिकतम उपयोग तापमान और असाधारण प्लाज्मा क्षरण प्रतिरोध के साथ, यह चक उच्च तापमान वाले वेफर प्रसंस्करण (एनीलिंग, आरटीपी) और आक्रामक एचिंग चैंबरों के लिए आदर्श है जहां एल्यूमिना चक खराब हो जाते हैं।
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सेमीकंडक्टर उपकरण, सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, सिरेमिक कैरियर
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
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उच्च कठोरता वाले लैपिंग अनुप्रयोगों के लिए धातु-समर्थित एल्यूमिना सिरेमिक ग्राइंडिंग रिंग
सेंट सेरा की धातु आधारित एल्यूमिना ग्राइंडिंग रिंग में उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना (99.8% Al₂O₃) सिरेमिक वियर लेयर को सटीक रूप से निर्मित धातु बैकिंग (आमतौर पर एल्यूमीनियम या स्टेनलेस स्टील) के साथ संयोजित किया गया है। यह हाइब्रिड डिज़ाइन ग्राइंडिंग सतह पर सिरेमिक के असाधारण घिसाव प्रतिरोध और रासायनिक निष्क्रियता प्रदान करता है, जबकि धातु का आधार यांत्रिक मजबूती, आसान माउंटिंग और भंगुरता से बचाव प्रदान करता है। एल्यूमिना लेयर 361 MPa की फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ, 16 GPa की विकर्स कठोरता और 800°C तक की थर्मल स्थिरता प्रदान करती है। धातु के आधार को माउंटिंग होल, लोकेटिंग पिन या चुंबकीय गुणों के साथ अनुकूलित किया जा सकता है ताकि इसे लैपिंग मशीन, प्लेनेटरी ग्राइंडर और सीएमपी उपकरण में एकीकृत किया जा सके।
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सेमीकंडक्टर प्रोब स्टेशन उपकरण के लिए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स
कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग द्वारा निर्मित और उच्च तापमान पर सिंटर्ड, फिर सटीक मशीनिंग और पॉलिश किए गए सिरेमिक स्पेयर पार्ट्स, घिसाव प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, कम तापीय विस्तार और इन्सुलेशन जैसी विशेषताओं के साथ, सेमीकंडक्टर उपकरणों की किसी भी सख्त आवश्यकता को पूरा कर सकते हैं। सिरेमिक उच्च तापमान, निर्वात या संक्षारक गैस की स्थिति में भी लंबे समय तक कई प्रकार के सेमीकंडक्टर उत्पादन उपकरणों में काम कर सकते हैं।
उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना पाउडर से निर्मित, जिसे कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग और सटीक फिनिशिंग द्वारा संसाधित किया जाता है, यह ±0.001 मिमी की आयामी सहनशीलता, Ra 0.1 की सतह फिनिश और 1600℃ के तापमान प्रतिरोध तक पहुंच सकता है।
