-
फिजिकल वेपर डिपोजिशन सिस्टम के लिए एल्यूमिना पीवीडी इन्सुलेशन रिंग
सेंट सेरा की पीवीडी इन्सुलेशन रिंग 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित है और इसका उपयोग फिजिकल वेपर डिपोजिशन (PVD) सिस्टम में किया जाता है। यह रिंग चैम्बर घटकों के बीच विद्युत पृथक्करण प्रदान करती है, जिससे आर्क उत्पन्न होने से बचाव होता है और प्लाज्मा का स्थिर संचालन सुनिश्चित होता है। इसके प्रमुख गुणों में उच्च परावैद्युत सामर्थ्य (15×10⁶ V/m), विशिष्ट प्रतिरोध >10¹⁴ Ω·mm²/m और 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता शामिल हैं। हमारी सटीक मशीनिंग क्षमताओं के कारण बाहरी व्यास 600mm तक, आंतरिक व्यास 0.2mm तक, समतलता 0.003mm और सतह परिष्करण Ra0.1 प्राप्त किया जा सकता है। रिंग की शून्य सरंध्रता और रासायनिक निष्क्रियता आक्रामक स्पटरिंग वातावरण में दीर्घकालिक विश्वसनीयता सुनिश्चित करती है।
-
ई-गन वाष्पीकरण प्रणालियों के लिए एल्यूमिना सिरेमिक पार्ट्स
सेंट सेरा उच्च शुद्धता वाले 99.8% एल्यूमिना सिरेमिक घटकों का निर्माण करती है, जिन्हें विशेष रूप से इलेक्ट्रॉन बीम (ई-गन) वाष्पीकरण प्रणालियों के लिए डिज़ाइन किया गया है। इन घटकों में क्रूसिबल लाइनर, बीम डिफ्लेक्टर शील्ड, इंसुलेटर और माउंटिंग फिक्स्चर शामिल हैं। यह सामग्री उच्च परावैद्युत सामर्थ्य (15×10⁶ V/m), 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता और वाष्पीकृत पदार्थों से होने वाले ऊष्मीय झटके और रासायनिक आक्रमण के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान करती है। हमारी सटीक मशीनिंग क्षमताएं न्यूनतम 0.2 मिमी आकार, 0.003 मिमी समतलता और Ra0.1 सतह परिष्करण के साथ जटिल ज्यामितियों को प्राप्त करती हैं। प्रत्येक घटक की आयामी सटीकता के लिए 100% सीएमएम जांच की जाती है।
-
सेमीकंडक्टर और औद्योगिक उपकरणों के लिए बड़े आकार की एल्यूमिना सिरेमिक प्लेट
सेंट सेरा 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से बनी बड़े आकार की सिरेमिक प्लेटों का निर्माण करती है, जिनकी अधिकतम लंबाई 1500 मिमी और चौड़ाई 600 मिमी तक होती है। हमारी सटीक ग्राइंडिंग क्षमता 100 मिमी पर 0.003 मिमी की समतलता और 0.002 मिमी की समानांतरता प्राप्त करती है, जिससे बड़े क्षेत्रफल वाले अनुप्रयोगों के लिए सतह की गुणवत्ता एक समान बनी रहती है। मोटाई 100 मिमी तक और सतह की फिनिशिंग Ra0.1 तक होती है। ये प्लेटें सेमीकंडक्टर, डिस्प्ले और फोटोवोल्टिक निर्माण में वैक्यूम चक बेस, हीटर प्लेटन, विद्युत इन्सुलेशन पैनल और प्रोसेस चैंबर फ्लोर के रूप में उपयोग की जाती हैं। इनमें थ्रू-होल्स, काउंटरबोर्स और एज प्रोफाइलिंग की सुविधा उपलब्ध है।
-
सीलिंग, इन्सुलेशन और फिक्सचरिंग के लिए परिशुद्ध एल्यूमिना सिरेमिक रिंग
सेंट सेरा की सिरेमिक रिंग 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से सटीक मशीनिंग द्वारा निर्मित है, जो उच्च घिसाव प्रतिरोध, विद्युत इन्सुलेशन और 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है। हमारी विनिर्माण क्षमता 600 मिमी तक के बाहरी व्यास, 100 मिमी तक की मोटाई और 0.2 मिमी तक के आंतरिक व्यास को संभव बनाती है, जिसमें 0.003 मिमी की समतलता, 0.002 मिमी की समानांतरता और 0.01 मिमी की संकेंद्रता होती है। यह सील रिंग, स्पेसर रिंग, रिटेनिंग रिंग या कस्टम प्रोफाइल के रूप में उपलब्ध है। सामग्री की शून्य सरंध्रता और रासायनिक निष्क्रियता इसे आक्रामक रासायनिक और प्लाज्मा वातावरण के लिए उपयुक्त बनाती है।
-
उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण के लिए उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक ट्यूब
सेंट सेरा की सिरेमिक ट्यूब 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित है, जो 1600°C तक उत्कृष्ट तापीय स्थिरता, उच्च परावैद्युत सामर्थ्य (15×10⁶ V/m) और श्रेष्ठ रासायनिक प्रतिरोध प्रदान करती है। हमारी सटीक मशीनिंग क्षमताओं के कारण 0.2 मिमी जितना छोटा आंतरिक व्यास, 600 मिमी तक का बाहरी व्यास और 1500 मिमी तक की लंबाई वाली ट्यूबें बनाई जा सकती हैं, जिनकी सरलता 0.005 मिमी, संकेंद्रण 0.01 मिमी और सतह परिष्करण Ra0.1 है। ट्यूब की शून्य सरंध्रता (0% जल अवशोषण) निर्वात वातावरण में गैस उत्सर्जन को रोकती है, जिससे यह अर्धचालक प्रसार भट्टियों, थर्मोकपल सुरक्षा और रासायनिक प्रसंस्करण के लिए आदर्श है। अनुकूलित दीवार मोटाई और अंत विन्यास (सपाट, पतला, निकला हुआ) उपलब्ध हैं।
-
सेमीकंडक्टर और औद्योगिक उपकरणों के लिए अनुकूलित एल्यूमिना सिरेमिक पार्ट्स
सेंट सेरा ग्राहकों के निर्देशों के अनुसार 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से अनुकूलित सिरेमिक पुर्जे बनाती है। हमारी सुविधा सटीक ग्राइंडिंग मशीनों और सीएनसी मशीनिंग केंद्रों से सुसज्जित है, जिससे जटिल सिरेमिक घटकों का उच्च परिशुद्धता के साथ उत्पादन संभव हो पाता है। विशिष्ट पुर्जों में इंसुलेटर, बेयरिंग बॉल, सील रिंग, बुशिंग, अनुकूलित फिक्स्चर और जटिल ज्यामितियाँ शामिल हैं। हमारी विनिर्माण क्षमताएँ ग्राहकों की आवश्यकताओं का समर्थन करती हैं।
-
उच्च तापमान पर गैस/द्रव इंजेक्शन के लिए एल्यूमिना सिरेमिक नोजल
सेंट सेरा का सिरेमिक नोजल 99.8% उच्च-शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से सटीक रूप से मशीनीकृत किया गया है, जो उच्च घिसाव प्रतिरोध (विकर्स 16 GPa), रासायनिक निष्क्रियता और 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करता है। हमारी सटीक मशीनिंग क्षमताओं से 0.2 मिमी जितना छोटा आंतरिक व्यास, 0.005 मिमी की सीधी रेखा और 0.01 मिमी की संकेंद्रता प्राप्त होती है, जो निरंतर प्रवाह और सटीक द्रव/गैस वितरण सुनिश्चित करती है। नोजल में Ra0.1 की सतह फिनिश के साथ एक चिकना आंतरिक बोर होता है, जो प्रवाह प्रतिरोध को कम करता है और अवरोध को रोकता है। छिद्र व्यास 0.2 मिमी से 5.0 मिमी तक उपलब्ध हैं, साथ ही सीधी, टेपर वाली या बहु-छिद्रित आउटलेट सहित अनुकूलित ज्यामिति भी उपलब्ध हैं। प्रत्येक नोजल का आयामी निरीक्षण किया जाता है और प्रवाह की एकरूपता की जाँच की जाती है।
-
सटीक लैपिंग के लिए उच्च-शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक ग्राइंडिंग प्लेट
सेंट सेरा की सिरेमिक ग्राइंडिंग प्लेट 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित है, जो सटीक लैपिंग और ग्राइंडिंग अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है। हमारी सटीक ग्राइंडिंग क्षमता 0.003 मिमी की समतलता, 0.002 मिमी की समानांतरता और Ra0.1 की सतह फिनिश प्राप्त करती है, जिससे पूरी प्लेट की सतह पर एक समान सामग्री निष्कासन सुनिश्चित होता है। यह प्लेट उत्कृष्ट घिसाव प्रतिरोध (विकर्स 16 GPa), उच्च फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (361 MPa) और 800°C तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करती है। यह 600 मिमी व्यास तक के गोल आकार और 1500 मिमी लंबाई तक की आयताकार प्लेटों में उपलब्ध है। लैपिंग प्रक्रियाओं में स्लरी वितरण के लिए खांचेदार सतहें (खांचे की चौड़ाई 0.5–2.0 मिमी) भी उपलब्ध हैं। प्रत्येक प्लेट का लेजर इंटरफेरोमीटर से निरीक्षण किया जाता है और इसके साथ एक सटीक माप रिपोर्ट प्रदान की जाती है।
-
वेफर हैंडलिंग रोबोट के लिए उच्च-शुद्धता एल्यूमिना सिरेमिक एंड इफेक्टर
सेंट सेरा का एल्यूमिना सिरेमिक एंड इफ़ेक्टर उन्नत 5-एक्सिस सीएनसी ग्राइंडिंग उपकरण का उपयोग करके 99.8% उच्च-शुद्धता वाले Al₂O₃ से सटीक रूप से मशीनीकृत किया जाता है। हमारी विनिर्माण क्षमताओं में सटीक ग्राइंडिंग मशीनें और सीएनसी मशीनिंग सेंटर शामिल हैं, जो उच्च परिशुद्धता के साथ जटिल ज्यामितियों को संभव बनाते हैं। एंड इफ़ेक्टर में एक पतला प्रोफ़ाइल (1.5 मिमी जितना पतला) होता है, जिसमें वेफर को आसानी से डालने के लिए एक टेपर्ड लीडिंग एज होता है। यह सामग्री उच्च कठोरता (यंग्स मॉड्यूलस 380 GPa), उत्कृष्ट घिसाव प्रतिरोध और 800°C तक ऊष्मीय स्थिरता प्रदान करती है। प्रत्येक इकाई को 0.003 मिमी की समतलता, 0.002 मिमी की समानांतरता और Ra0.1 की सतह फिनिश प्राप्त करने के लिए सटीक रूप से ग्राइंड किया जाता है, जो सेमीकंडक्टर एफएबी वातावरण में लगातार वेफर संपर्क और कण-मुक्त संचालन सुनिश्चित करता है। यह 150 मिमी से 450 मिमी तक की लंबाई में, कस्टम टिप ज्यामितियों (एज ग्रिप, बर्नौली, फ्लैट) और OEM रोबोटों में फिट होने के लिए माउंटिंग फ्लैंज के साथ उपलब्ध है। सतह की फिनिशिंग के विकल्पों में लैप्ड, पॉलिश या ईएसडी डिसिपेटिव कोटिंग (10⁶–10⁹ Ω/sq) शामिल हैं।
-
सटीक कटाई और पीसने के लिए एल्यूमिना वैक्यूम चक
सेंट सेरा का एल्यूमिना वैक्यूम चक 99.8% उच्च शुद्धता वाले Al₂O₃ से निर्मित है, जिसमें सटीक रूप से मशीनीकृत वैक्यूम ग्रूव हैं। हमारी सटीक ग्राइंडिंग क्षमता 0.003 मिमी की समतलता और 0.002 मिमी की समानांतरता प्राप्त करती है, जिससे डाइसिंग, बैकसाइड ग्राइंडिंग और निरीक्षण के दौरान वेफर का विरूपण-मुक्त फिक्सेशन सुनिश्चित होता है। यह सामग्री उच्च फ्लेक्सुरल स्ट्रेंथ (361 एमपीए), कठोरता (16 जीपीए) और 800°C तक थर्मल स्थिरता प्रदान करती है। यह 600 मिमी बाहरी व्यास (OD) तक के गोल आकार और 1500 मिमी लंबाई तक के आयताकार आकार में उपलब्ध है। वैक्यूम ग्रूव को विशिष्ट प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुरूप कस्टम-डिज़ाइन (कंसेंट्रिक, रेडियल या ग्रिड पैटर्न) किया जाता है। प्रत्येक चक का लेजर इंटरफेरोमीटर से निरीक्षण किया जाता है और इसके साथ एक समतलता सत्यापन रिपोर्ट प्रदान की जाती है।
-
टेढ़ी-मेढ़ी और पतली वेफर को संभालने के लिए धातु-समर्थित छिद्रयुक्त SiC वैक्यूम चक
सेंट सेरा का धातु आधारित सिरेमिक वैक्यूम चक एक छिद्रयुक्त सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सिरेमिक परत को सटीक रूप से निर्मित धातु आधार (एल्यूमीनियम या स्टेनलेस स्टील) के साथ जोड़ता है। छिद्रयुक्त SiC पदार्थ (नीला-काला, सरंध्रता 35-40%, छिद्र का आकार 20-30 μm, पारगम्यता 60 ml/cm²·min) पूरी वेफर सतह पर एक समान और सौम्य वैक्यूम वितरण प्रदान करता है, जिससे किनारों पर निशान नहीं पड़ते और पतले (≤100 μm) या मुड़े हुए वेफर्स के लिए गैर-संपर्क सहायता संभव हो पाती है। SiC परत कम तापीय विस्तार (3.5×10⁻⁶/℃), 1000°C तक तापीय स्थिरता और मध्यम लचीलापन (32-35 MPa) प्रदान करती है। धातु आधार संरचनात्मक मजबूती, थ्रेडेड छेदों के माध्यम से आसान माउंटिंग और भंगुर फ्रैक्चर से सुरक्षा प्रदान करता है। यह चक बैकसाइड ग्राइंडिंग, डाइसिंग और उच्च तापमान वाले वेफर प्रोसेसिंग के लिए आदर्श है, जहां एकसमान वैक्यूम और थर्मल अनुकूलता महत्वपूर्ण हैं।
-
उच्च शुद्धता वाली एल्यूमिना सिरेमिक प्लेट – इन्सुलेशन और उच्च तापमान वाले उपकरणों के लिए
सेंट सेरा की सिरेमिक प्लेट 99.8% उच्च शुद्धता वाले एल्यूमिना (Al₂O₃) से निर्मित होती है, जो उच्च परावैद्युत सामर्थ्य (15×10⁶ V/m), 1600°C तक ऊष्मीय स्थिरता और उत्कृष्ट घिसाव प्रतिरोध प्रदान करती है। प्लेटों को 100 मिमी से अधिक लंबाई में ≤5 μm की समतलता और ≤0.4 μm की सतह खुरदरापन Ra प्राप्त करने के लिए सटीक रूप से लैप किया जाता है। ये 1 मिमी से 20 मिमी तक की मानक मोटाई में और 500×500 मिमी तक के अनुकूलित आकारों में उपलब्ध हैं। इनका उपयोग विद्युत इन्सुलेटर, हीटर बेस, चैम्बर लाइनर और वैक्यूम चक सब्सट्रेट के रूप में किया जाता है।
