-
फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन सिस्टीमसाठी ॲल्युमिना पीव्हीडी इन्सुलेशन रिंग
सेंट.सेराची PVD इन्सुलेशन रिंग फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन (PVD) सिस्टीममध्ये वापरण्यासाठी ९९.८% उच्च-शुद्धतेच्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून बनवली जाते. ही रिंग चेंबरच्या घटकांमध्ये विद्युत अलगीकरण प्रदान करते, ज्यामुळे आर्किंग टाळले जाते आणि प्लाझ्माचे स्थिर कार्य सुनिश्चित होते. याच्या प्रमुख वैशिष्ट्यांमध्ये उच्च डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य (१५×१०⁶ V/m), विशिष्ट रोध >१०¹⁴ Ω·mm²/m, आणि १६००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता यांचा समावेश आहे. आमच्या अचूक मशीनिंग क्षमतेमुळे ६०० मिमी पर्यंत बाह्य व्यास, ०.२ मिमी पर्यंतचा अंतर्गत व्यास, ०.००३ मिमीची सपाटता आणि Ra०.१ चा पृष्ठभाग परिष्करण (सरफेस फिनिश) साध्य करता येतो. रिंगची शून्य सच्छिद्रता आणि रासायनिक निष्क्रियता आक्रमक स्पटरिंग वातावरणात दीर्घकालीन विश्वसनीयता सुनिश्चित करते.
-
ई-गन बाष्पीभवन प्रणालीसाठी ॲल्युमिना सिरेमिक भाग
सेंट.सेरा विशेषतः इलेक्ट्रॉन बीम (ई-गन) बाष्पीभवन प्रणालींसाठी डिझाइन केलेले उच्च-शुद्धतेचे ९९.८% ॲल्युमिना सिरेमिक घटक तयार करते. या भागांमध्ये क्रुसिबल लायनर्स, बीम डिफ्लेक्टर शील्ड्स, इन्सुलेटर आणि माउंटिंग फिक्स्चर यांचा समावेश आहे. हे मटेरियल उच्च डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य (१५×१०⁶ V/m), १६००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता आणि बाष्पीभवन झालेल्या पदार्थांपासून होणाऱ्या औष्णिक धक्क्याला व रासायनिक हल्ल्याला उत्कृष्ट प्रतिकारशक्ती देते. आमच्या अचूक मशीनिंग क्षमतेमुळे ०.२ मिमी किमान फीचर आकार, ०.००३ मिमी सपाटपणा आणि Ra०.१ पृष्ठभाग फिनिशसह जटिल भूमिती साध्य करता येते. प्रत्येक भागाची आयामी अचूकतेसाठी १००% CMM तपासणी केली जाते.
-
सेमीकंडक्टर आणि औद्योगिक फिक्स्चरसाठी मोठ्या आकाराची ॲल्युमिना सिरेमिक प्लेट
सेंट.सेरा ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून मोठ्या आकाराच्या सिरॅमिक प्लेट्स बनवते, ज्यांची कमाल लांबी १५०० मिमी आणि रुंदी ६०० मिमी पर्यंत असते. आमच्या अचूक ग्राइंडिंग क्षमतेमुळे १०० मिमीवर ०.००३ मिमी सपाटपणा आणि ०.००२ मिमी समांतरता साधता येते, ज्यामुळे मोठ्या क्षेत्रातील वापरासाठी पृष्ठभागाची सातत्यपूर्ण गुणवत्ता सुनिश्चित होते. जाडी १०० मिमी पर्यंत, आणि पृष्ठभागाची फिनिशिंग Ra0.1 पर्यंत. या प्लेट्स सेमीकंडक्टर, डिस्प्ले आणि फोटोव्होल्टेइक उत्पादनामध्ये व्हॅक्यूम चक बेस, हीटर प्लॅटेन्स, इलेक्ट्रिकल इन्सुलेशन पॅनेल्स आणि प्रोसेस चेंबर फ्लोअर्स म्हणून वापरल्या जातात. थ्रू-होल्स, काउंटरबोअर्स आणि एज प्रोफाइलिंग उपलब्ध आहेत.
-
सीलिंग, इन्सुलेशन आणि फिक्स्चरिंगसाठी अचूक ॲल्युमिना सिरेमिक रिंग
सेंट.सेराची सिरेमिक रिंग ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून अचूकपणे मशीन केली जाते. ही रिंग उच्च झीज-प्रतिरोध, विद्युतरोधकता आणि १६००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरतेची आवश्यकता असलेल्या अनुप्रयोगांसाठी वापरली जाते. आमच्या उत्पादन क्षमतेनुसार ६०० मिमी पर्यंत बाह्य व्यास, १०० मिमी पर्यंत जाडी आणि ०.२ मिमी इतका लहान आंतरिक व्यास तयार करता येतो. यामध्ये ०.००३ मिमी सपाटपणा, ०.००२ मिमी समांतरता आणि ०.०१ मिमी एककेंद्रता असते. ही रिंग सील रिंग, स्पेसर रिंग, रिटेनिंग रिंग किंवा सानुकूलित प्रोफाइलमध्ये उपलब्ध आहे. या सामग्रीची शून्य सच्छिद्रता आणि रासायनिक निष्क्रियता यांमुळे ती तीव्र रासायनिक आणि प्लाझ्मा वातावरणासाठी योग्य ठरते.
-
उच्च तापमान आणि क्षरणकारी वातावरणासाठी उच्च-शुद्धतेची ॲल्युमिना सिरेमिक ट्यूब
सेंट.सेराची सिरेमिक ट्यूब ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून बनवली जाते, जी १६००°C पर्यंत उत्कृष्ट औष्णिक स्थिरता, उच्च डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य (१५×१०⁶ V/m) आणि उत्तम रासायनिक प्रतिकारशक्ती प्रदान करते. आमच्या अचूक मशीनिंग क्षमतेमुळे ०.२ मिमी इतका लहान आतील व्यास, ६०० मिमी पर्यंतचा बाहेरील व्यास आणि १५०० मिमी पर्यंतची लांबी शक्य होते, ज्यामध्ये ०.००५ मिमी सरळपणा, ०.०१ मिमी एककेंद्रता आणि Ra०.१ चा पृष्ठभाग परिष्करण असतो. ट्यूबची शून्य सच्छिद्रता (०% पाणी शोषण) निर्वात वातावरणात वायू उत्सर्जन रोखते, ज्यामुळे ती सेमीकंडक्टर डिफ्यूजन फर्नेस, थर्मोकपल संरक्षण आणि रासायनिक प्रक्रियेसाठी आदर्श ठरते. गरजेनुसार भिंतीची जाडी आणि टोकांची रचना (सपाट, निमुळती, फ्लॅंज्ड) उपलब्ध आहे.
-
सेमीकंडक्टर आणि औद्योगिक उपकरणांसाठी सानुकूलित ॲल्युमिना सिरेमिक भाग
सेंट.सेरा ग्राहकांच्या रेखाचित्रांनुसार ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून सानुकूलित सिरेमिक भागांचे उत्पादन करते. आमची सुविधा अचूक ग्राइंडिंग मशीन आणि सीएनसी मशीनिंग सेंटर्सने सुसज्ज आहे, ज्यामुळे उच्च अचूकतेसह जटिल सिरेमिक घटकांचे उत्पादन करणे शक्य होते. सामान्य भागांमध्ये इन्सुलेटर, बेअरिंग बॉल्स, सील रिंग्स, बुशिंग्ज, सानुकूलित फिक्स्चर आणि जटिल भूमिती यांचा समावेश होतो. आमच्या उत्पादन क्षमता समर्थन देतात.
-
उच्च तापमानातील वायू/द्रव इंजेक्शनासाठी ॲल्युमिना सिरेमिक नोझल
सेंट.सेराचे सिरेमिक नोझल ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून अचूकपणे मशीन केलेले आहे, जे उच्च झीज-प्रतिरोध (विकर्स १६ GPa), रासायनिक निष्क्रियता आणि १६००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता प्रदान करते. आमच्या अचूक मशीनिंग क्षमतेमुळे ०.२ मिमी इतका लहान आतील व्यास, ०.००५ मिमी सरळपणा आणि ०.०१ मिमी समकेंद्रता प्राप्त होते, ज्यामुळे सातत्यपूर्ण प्रवाह आणि अचूक द्रव/वायू वितरण सुनिश्चित होते. नोझलमध्ये Ra0.1 पृष्ठभाग फिनिशसह एक गुळगुळीत आतील छिद्र आहे, जे प्रवाहाचा प्रतिरोध कमी करते आणि अडथळा कमी करते. ०.२ मिमी ते ५.० मिमी पर्यंतच्या छिद्रांचे व्यास, सरळ, निमुळते किंवा बहु-छिद्र आउटलेटसह सानुकूल भूमितीमध्ये उपलब्ध आहेत. प्रत्येक नोझलची आयामी तपासणी केली जाते आणि प्रवाहाच्या एकसमानतेसाठी तपासले जाते.
-
अचूक लॅपिंगसाठी उच्च-शुद्धता असलेली ॲल्युमिना सिरेमिक ग्राइंडिंग प्लेट
सेंट.सेराची सिरेमिक ग्राइंडिंग प्लेट अचूक लॅपिंग आणि ग्राइंडिंग ॲप्लिकेशन्ससाठी ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून बनवली जाते. आमच्या अचूक ग्राइंडिंग क्षमतेमुळे ०.००३ मिमी सपाटपणा, ०.००२ मिमी समांतरता आणि Ra०.१ चा पृष्ठभाग परिष्करण (सरफेस फिनिश) साध्य होतो, ज्यामुळे प्लेटच्या संपूर्ण पृष्ठभागावरून एकसमान मटेरियल काढले जाण्याची खात्री होते. ही प्लेट उत्कृष्ट झीज-प्रतिरोध (विकर्स १६ GPa), उच्च लवचिक शक्ती (३६१ MPa) आणि ८००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता प्रदान करते. ६०० मिमी व्यासापर्यंतच्या गोल आकारात आणि १५०० मिमी लांबीपर्यंतच्या आयताकृती प्लेट्समध्ये उपलब्ध आहे. लॅपिंग प्रक्रियेमध्ये स्लरीच्या वितरणासाठी खोबणी असलेले पृष्ठभाग (खोबणीची रुंदी ०.५–२.० मिमी) उपलब्ध आहेत. प्रत्येक प्लेटची लेझर इंटरफेरोमीटरने तपासणी केली जाते आणि त्यासोबत एक अचूक मापन अहवाल पुरवला जातो.
-
वेफर हाताळणी रोबोटसाठी उच्च-शुद्धता ॲल्युमिना सिरेमिक एंड इफेक्टर
सेंट.सेराचा ॲल्युमिना सिरेमिक एंड इफेक्टर, प्रगत ५-ॲक्सिस सीएनसी ग्राइंडिंग उपकरणांचा वापर करून ९९.८% उच्च-शुद्धतेच्या Al₂O₃ पासून अचूकपणे मशीन केला जातो. आमच्या उत्पादन क्षमतेमध्ये अचूक ग्राइंडिंग मशीन्स आणि सीएनसी मशीनिंग सेंटर्सचा समावेश आहे, ज्यामुळे उच्च अचूकतेसह जटिल भूमिती तयार करणे शक्य होते. या एंड इफेक्टरमध्ये पातळ प्रोफाइल (१.५ मिमी इतके पातळ) असून, वेफर सहजपणे आत घालण्यासाठी त्याला निमुळती पुढची कडा (टॅपर्ड लीडिंग एज) आहे. हे मटेरियल उच्च कडकपणा (यंग्स मॉड्युलस ३८० GPa), उत्कृष्ट झीज-प्रतिरोधकता आणि ८००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता प्रदान करते. प्रत्येक युनिटला ०.००३ मिमी सपाटपणा, ०.००२ मिमी समांतरता आणि Ra0.1 पृष्ठभाग परिष्करण (सरफेस फिनिश) प्राप्त करण्यासाठी अचूकपणे ग्राइंड केले जाते, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर फॅब वातावरणात सातत्यपूर्ण वेफर संपर्क आणि कण-मुक्त कार्यप्रणाली सुनिश्चित होते. हे १५० मिमी ते ४५० मिमी पर्यंतच्या लांबीमध्ये, कस्टम टिप भूमिती (एज ग्रिप, बर्नोली, फ्लॅट) आणि ओईएम (OEM) रोबोट्सना बसवण्यासाठी माउंटिंग फ्लँजेससह उपलब्ध आहे. पृष्ठभागाच्या फिनिशच्या पर्यायांमध्ये लॅप्ड, पॉलिश्ड किंवा ESD डिसिपेटिव्ह कोटिंग (10⁶–10⁹ Ω/sq) यांचा समावेश आहे.
-
अचूक डायसिंग आणि ग्राइंडिंगसाठी अॅल्युमिना व्हॅक्यूम चक
सेंट.सेराचा ॲल्युमिना व्हॅक्यूम चक ९९.८% उच्च-शुद्धतेच्या Al₂O₃ पासून बनवला जातो, ज्यावर अचूकपणे मशीन केलेले व्हॅक्यूम ग्रूव्ह्स असतात. आमच्या अचूक ग्राइंडिंग क्षमतेमुळे ०.००३ मिमी सपाटपणा आणि ०.००२ मिमी समांतरता साधली जाते, ज्यामुळे डायसिंग, बॅकसाइड ग्राइंडिंग आणि तपासणी दरम्यान वेफर वाकल्याशिवाय स्थिर राहते. हे मटेरियल उच्च लवचिक शक्ती (३६१ MPa), कठोरता (१६ GPa) आणि ८००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता प्रदान करते. हे ६०० मिमी बाह्य व्यासापर्यंत (OD) गोलाकार आणि १५०० मिमी लांबीपर्यंत आयताकृती आकारात उपलब्ध आहे. विशिष्ट प्रक्रियेच्या गरजेनुसार व्हॅक्यूम ग्रूव्ह्स सानुकूलित (केंद्री, त्रिज्यीय किंवा ग्रिड पॅटर्नमध्ये) डिझाइन केले जातात. प्रत्येक चकची लेझर इंटरफेरोमीटरने तपासणी केली जाते आणि त्यासोबत सपाटपणा पडताळणी अहवाल दिला जातो.
-
वाकलेल्या आणि पातळ वेफर्स हाताळण्यासाठी मेटल-बॅक्ड पोरस SiC व्हॅक्यूम चक.
सेंट.सेराच्या मेटल-आधारित सिरेमिक व्हॅक्यूम चकमध्ये सच्छिद्र सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) सिरेमिक थर आणि अचूकपणे मशीन केलेला मेटल बेस (ॲल्युमिनियम किंवा स्टेनलेस स्टील) यांचा संयोग असतो. सच्छिद्र SiC मटेरियल (निळा-काळा, सच्छिद्रता ३५-४०%, छिद्रांचा आकार २०-३० μm, पारगम्यता ६० ml/cm²·min) संपूर्ण वेफरच्या पृष्ठभागावर एकसमान, सौम्य व्हॅक्यूम वितरण प्रदान करते, ज्यामुळे एज मार्किंग टाळले जाते आणि पातळ (≤१०० μm) किंवा वाकलेल्या वेफर्सना नॉन-कॉन्टॅक्ट सपोर्ट देणे शक्य होते. SiC थर कमी थर्मल विस्तार (३.५×१०⁻⁶/℃), १०००°C पर्यंत थर्मल स्थिरता आणि मध्यम फ्लेक्झुरल स्ट्रेंथ (३२-३५ MPa) प्रदान करतो. मेटल बेस स्ट्रक्चरल मजबुती, थ्रेडेड छिद्रांद्वारे सुलभ माउंटिंग आणि ठिसूळ फ्रॅक्चरपासून संरक्षण प्रदान करतो. हा चक बॅकसाइड ग्राइंडिंग, डायसिंग आणि उच्च-तापमान वेफर प्रोसेसिंगसाठी आदर्श आहे, जिथे एकसमान व्हॅक्यूम आणि थर्मल सुसंगतता महत्त्वपूर्ण असते.
-
उच्च-शुद्धता ॲल्युमिना सिरेमिक प्लेट – उष्णतारोधन आणि उच्च-तापमान फिक्स्चरसाठी
सेंट.सेराची सिरेमिक प्लेट ९९.८% उच्च-शुद्धता असलेल्या ॲल्युमिना (Al₂O₃) पासून बनवली जाते, जी उच्च डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य (१५×१०⁶ V/m), १६००°C पर्यंत औष्णिक स्थिरता आणि उत्कृष्ट झीज-प्रतिरोधकता प्रदान करते. १०० मिमीवर ≤५ μm सपाटपणा आणि Ra ≤०.४ μm पृष्ठभागाची खडबडपणा मिळवण्यासाठी प्लेट्स अचूकपणे लॅप केल्या जातात. १ मिमी ते २० मिमी पर्यंतच्या प्रमाणित जाडीमध्ये, तसेच ५००×५०० मिमी पर्यंतच्या सानुकूल आकारात उपलब्ध. यांचा वापर विद्युतरोधक, हीटर बेस, चेंबर लायनर आणि व्हॅक्यूम चक सबस्ट्रेट म्हणून केला जातो.
