ਪੇਜ_ਬੈਨਰ

ਉਤਪਾਦ

  • ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੀਆਂ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਡਿਸਕਾਂ

    ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੀਆਂ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਡਿਸਕਾਂ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਆਰਮ

    ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਆਰਮ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ਸਿਰੇਮਿਕ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਰਿੰਗ ਸਿਰੇਮਿਕ ਫੋਕਸਿੰਗ ਰਿੰਗ

    ਸਿਰੇਮਿਕ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਰਿੰਗ ਸਿਰੇਮਿਕ ਫੋਕਸਿੰਗ ਰਿੰਗ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ST.CERA ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕਲੈਂਪ ਰਿੰਗ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰੋਟੈਕਸ਼ਨ

    ST.CERA ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕਲੈਂਪ ਰਿੰਗ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰੋਟੈਕਸ਼ਨ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ਵੇਫਰ ਹੈਂਡਲਿੰਗ ਲਈ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲਾ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰੋਬੋਟ ਆਰਮ

    ਵੇਫਰ ਹੈਂਡਲਿੰਗ ਲਈ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲਾ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰੋਬੋਟ ਆਰਮ

    ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦਾ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰੋਬੋਟ ਆਰਮ 99.8% ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ Al₂O₃ (ਐਲੂਮਿਨਾ) ਤੋਂ ਸ਼ੁੱਧਤਾ-ਇੰਜੀਨੀਅਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ ਬੇਮਿਸਾਲ ਲਚਕਦਾਰ ਤਾਕਤ (361 MPa), ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ (16 GPa), ਅਤੇ ਘੱਟ ਘਣਤਾ (3.93 g/cm³) ਨੂੰ ਜੋੜਦਾ ਹੈ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਵੇਫਰ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਲਈ ਇੱਕ ਹਲਕਾ ਪਰ ਸਖ਼ਤ ਆਰਮ ਬਣਦਾ ਹੈ। ਸਮੱਗਰੀ ਦਾ ਥਰਮਲ ਐਕਸਪੈਂਸ਼ਨ ਗੁਣਾਂਕ (7.2×10⁻⁶/°C) ਸਿਲੀਕਾਨ ਨਾਲ ਨੇੜਿਓਂ ਮੇਲ ਖਾਂਦਾ ਹੈ, ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਥਰਮਲ ਬੇਮੇਲ ਨੂੰ ਘੱਟ ਕਰਦਾ ਹੈ।

  • ਐਲੂਮਿਨਾ ਹਾਈ-ਪ੍ਰੀਸੀਜ਼ਨ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰਿੰਗ ਸਿਰੇਮਿਕ ਪਾਰਟਸ

    ਐਲੂਮਿਨਾ ਹਾਈ-ਪ੍ਰੀਸੀਜ਼ਨ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰਿੰਗ ਸਿਰੇਮਿਕ ਪਾਰਟਸ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ST.CERA ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣ ਸਿਰੇਮਿਕ ਚੱਕ

    ST.CERA ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣ ਸਿਰੇਮਿਕ ਚੱਕ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (SiC) ਸਿਰੇਮਿਕ ਐਂਡ ਇਫੈਕਟਰ - ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਵਾਲੇ ਵੇਫਰ ਹੈਂਡਲਿੰਗ ਲਈ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ

    ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (SiC) ਸਿਰੇਮਿਕ ਐਂਡ ਇਫੈਕਟਰ - ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਵਾਲੇ ਵੇਫਰ ਹੈਂਡਲਿੰਗ ਲਈ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ

    ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦਾ SiC ਸਿਰੇਮਿਕ ਐਂਡ ਇਫੈਕਟਰ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (SiC ਸਮੱਗਰੀ 99.72%, ਮੁਫ਼ਤ Si 0.05%) ਤੋਂ S1111 ਬੈਚ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ ਬੇਮਿਸਾਲ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦਾ ਹੈ: ਲਚਕਦਾਰ ਤਾਕਤ 449 MPa (ਮਾਪਿਆ ਗਿਆ), ਲਚਕੀਲਾ ਮਾਡਿਊਲਸ 457 GPa (ਮਾਪਿਆ ਗਿਆ), ਅਤੇ ਵਿਕਰਸ ਕਠੋਰਤਾ 25–28 GPa (ਆਮ)। ਘੱਟ ਘਣਤਾ (3.10–3.15 g/cm³, ਆਮ) ਇੱਕ ਉੱਚ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਕਠੋਰਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਹਾਈ-ਸਪੀਡ ਵੇਫਰ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਰੋਬੋਟਾਂ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਹੈ। 120–150 W/m·K (ਆਮ) ਦੀ ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ ਅਤੇ 4.0–4.5×10⁻⁶/℃ (ਆਮ) ਦੇ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਗੁਣਾਂਕ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਹ ਐਂਡ ਇਫੈਕਟਰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਗਰਮੀ ਨੂੰ ਖਤਮ ਕਰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਹੈਂਡਲਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਅਯਾਮੀ ਸਥਿਰਤਾ ਬਣਾਈ ਰੱਖਦਾ ਹੈ (1600–1700°C ਤੱਕ, ਕੋਈ ਲੋਡ ਨਹੀਂ)। ਕਾਲਾ/ਸਲੇਟੀ ਰੰਗ ਅਤੇ ਜ਼ੀਰੋ ਪਾਣੀ ਸੋਖਣ ਕਲੀਨਰੂਮ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।

  • ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਅਤੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਵਾਤਾਵਰਣ ਲਈ ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (SiC) ਅਧਾਰਤ ਵੈਕਿਊਮ ਚੱਕ

    ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਅਤੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਵਾਤਾਵਰਣ ਲਈ ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (SiC) ਅਧਾਰਤ ਵੈਕਿਊਮ ਚੱਕ

    ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦਾ SiC-ਅਧਾਰਤ ਸਿਰੇਮਿਕ ਚੱਕ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਕਾਰਬਾਈਡ (ਬੈਚ S1111, SiC 99.72%, ਮੁਫ਼ਤ Si 0.05%) ਤੋਂ ਬਣਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ 449 MPa ਦੀ ਮਾਪੀ ਗਈ ਲਚਕਦਾਰ ਤਾਕਤ, 3.12 MPa·m¹/² ਦੀ ਫ੍ਰੈਕਚਰ ਕਠੋਰਤਾ, ਅਤੇ 457 GPa ਦਾ ਲਚਕੀਲਾ ਮਾਡਿਊਲਸ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਆਮ ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ (120–150 W/m·K) ਅਤੇ ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ (4.0–4.5×10⁻⁶/℃) ਥਰਮਲ ਸਾਈਕਲਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਤੇਜ਼ ਤਾਪਮਾਨ ਰੈਂਪਿੰਗ ਅਤੇ ਘੱਟੋ-ਘੱਟ ਵੇਫਰ ਵਾਰਪੇਜ ਨੂੰ ਸਮਰੱਥ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ। ਚੱਕ ਨੂੰ ਇੱਕ ਪੋਰਸ ਵੈਕਿਊਮ ਚੱਕ (ਇਕਸਾਰ ਗੈਸ ਪ੍ਰਵਾਹ) ਜਾਂ ਇੱਕ ਗਰੂਵਡ ਸਟੈਂਡਰਡ ਚੱਕ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਸੰਰਚਿਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। 1600–1700°C (ਕੋਈ ਲੋਡ ਨਹੀਂ) ਦੇ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਵਰਤੋਂ ਤਾਪਮਾਨ ਅਤੇ ਅਸਧਾਰਨ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਇਰੋਸ਼ਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਹ ਚੱਕ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਵੇਫਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ (ਐਨੀਲਿੰਗ, RTP) ਅਤੇ ਹਮਲਾਵਰ ਐਚ ਚੈਂਬਰਾਂ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਚੱਕ ਘਟਦੇ ਹਨ।

  • ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣ ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੈਰੀਅਰ

    ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣ ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੈਰੀਅਰ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।

  • ਉੱਚ-ਕਠੋਰਤਾ ਵਾਲੇ ਲੈਪਿੰਗ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਧਾਤੂ-ਬੈਕਡ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਪੀਸਣ ਵਾਲੀ ਰਿੰਗ

    ਉੱਚ-ਕਠੋਰਤਾ ਵਾਲੇ ਲੈਪਿੰਗ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਧਾਤੂ-ਬੈਕਡ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਪੀਸਣ ਵਾਲੀ ਰਿੰਗ

    ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦੀ ਧਾਤ ਅਧਾਰਤ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪੀਸਣ ਵਾਲੀ ਰਿੰਗ ਇੱਕ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ (99.8% Al₂O₃) ਸਿਰੇਮਿਕ ਵੀਅਰ ਲੇਅਰ ਨੂੰ ਇੱਕ ਸ਼ੁੱਧਤਾ-ਮਸ਼ੀਨ ਵਾਲੀ ਧਾਤ ਦੀ ਬੈਕਿੰਗ (ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਜਾਂ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ) ਨਾਲ ਜੋੜਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਡਿਜ਼ਾਈਨ ਪੀਸਣ ਵਾਲੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਸਿਰੇਮਿਕ ਦੀ ਬੇਮਿਸਾਲ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਜੜਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਧਾਤ ਦਾ ਅਧਾਰ ਮਕੈਨੀਕਲ ਤਾਕਤ, ਆਸਾਨ ਮਾਊਂਟਿੰਗ ਅਤੇ ਭੁਰਭੁਰਾ ਫ੍ਰੈਕਚਰ ਪ੍ਰਤੀ ਵਿਰੋਧ ਜੋੜਦਾ ਹੈ। ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਰਤ 361 MPa ਦੀ ਲਚਕਦਾਰ ਤਾਕਤ, 16 GPa ਦੀ ਵਿਕਰਸ ਕਠੋਰਤਾ, ਅਤੇ 800°C ਤੱਕ ਥਰਮਲ ਸਥਿਰਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਧਾਤ ਦੇ ਅਧਾਰ ਨੂੰ ਲੈਪਿੰਗ ਮਸ਼ੀਨਾਂ, ਗ੍ਰਹਿ ਗ੍ਰਾਈਂਡਰਾਂ ਅਤੇ CMP ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਏਕੀਕਰਨ ਲਈ ਮਾਊਂਟਿੰਗ ਹੋਲ, ਲੋਕੇਟਿੰਗ ਪਿੰਨ, ਜਾਂ ਚੁੰਬਕੀ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨਾਲ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ।

  • ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਪ੍ਰੋਬ ਸਟੇਸ਼ਨ ਉਪਕਰਣ ਲਈ ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ

    ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਪ੍ਰੋਬ ਸਟੇਸ਼ਨ ਉਪਕਰਣ ਲਈ ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ

    ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।

    ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।