pagina_banner

Producten

  • Aluminiumoxide keramische schijven met hoge zuiverheid

    Aluminiumoxide keramische schijven met hoge zuiverheid

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • aluminiumoxide keramische arm

    aluminiumoxide keramische arm

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • Keramische isolatieringen Keramische focusringen

    Keramische isolatieringen Keramische focusringen

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • ST.CERA Aluminiumoxide Keramische Klemring Isolatiebescherming

    ST.CERA Aluminiumoxide Keramische Klemring Isolatiebescherming

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • Robotarm van zeer zuiver aluminiumoxidekeramiek voor het hanteren van wafers

    Robotarm van zeer zuiver aluminiumoxidekeramiek voor het hanteren van wafers

    De robotarm van St.Cera, vervaardigd uit 99,8% zuiver aluminiumoxide (Al₂O₃), combineert een uitzonderlijke buigsterkte (361 MPa), hoge hardheid (16 GPa) en lage dichtheid (3,93 g/cm³), wat resulteert in een lichtgewicht maar toch stijve arm voor het transporteren van halfgeleiderwafers. De thermische uitzettingscoëfficiënt van het materiaal (7,2 × 10⁻⁶/°C) komt nauw overeen met die van silicium, waardoor thermische mismatch tijdens de verwerking tot een minimum wordt beperkt.

  • Aluminiumoxide zeer nauwkeurige keramische ring keramische onderdelen

    Aluminiumoxide zeer nauwkeurige keramische ring keramische onderdelen

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • ST.CERA Aangepaste halfgeleiderapparatuur Keramische klemmen

    ST.CERA Aangepaste halfgeleiderapparatuur Keramische klemmen

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • Siliciumcarbide (SiC) keramische eindeffector – hoge stijfheid voor het hanteren van wafers bij hoge temperaturen

    Siliciumcarbide (SiC) keramische eindeffector – hoge stijfheid voor het hanteren van wafers bij hoge temperaturen

    De SiC-keramische eindeffector van St.Cera is vervaardigd uit zeer zuiver siliciumcarbide (SiC-gehalte 99,72%, vrij Si 0,05%) met behulp van het S1111-batchmateriaal. Het biedt uitzonderlijke mechanische eigenschappen: buigsterkte 449 MPa (gemeten), elasticiteitsmodulus 457 GPa (gemeten) en Vickers-hardheid 25–28 GPa (typisch). De lage dichtheid (3,10–3,15 g/cm³, typisch) zorgt voor een hoge specifieke stijfheid, ideaal voor snelle wafer-transferrobots. Met een thermische geleidbaarheid van 120–150 W/m·K (typisch) en een thermische uitzettingscoëfficiënt van 4,0–4,5 × 10⁻⁶/℃ (typisch) voert deze eindeffector warmte effectief af en behoudt hij zijn vormvastheid tijdens handling bij hoge temperaturen (tot 1600–1700 °C, onbelast). De zwart/grijze kleur en de afwezigheid van waterabsorptie garanderen compatibiliteit met cleanrooms.

  • Vacuümklem op basis van siliciumcarbide (SiC) voor hoge temperaturen en plasma-omgevingen.

    Vacuümklem op basis van siliciumcarbide (SiC) voor hoge temperaturen en plasma-omgevingen.

    De keramische klem van St.Cera op basis van siliciumcarbide (SiC) is vervaardigd uit zeer zuiver siliciumcarbide (batch S1111, SiC 99,72%, vrij Si 0,05%). Deze klem heeft een gemeten buigsterkte van 449 MPa, een breuktaaiheid van 3,12 MPa·m¹/² en een elasticiteitsmodulus van 457 GPa. De typische thermische geleidbaarheid van het materiaal (120–150 W/m·K) en de lage thermische uitzetting (4,0–4,5 × 10⁻⁶/℃) maken een snelle temperatuurstijging en minimale vervorming van de wafer mogelijk tijdens thermische cycli. De klem kan worden geconfigureerd als een poreuze vacuümklem (uniforme gasstroom) of als een gegroefde standaardklem. Met een maximale gebruikstemperatuur van 1600–1700 °C (onbelast) en een uitzonderlijke weerstand tegen plasma-erosie is deze slede ideaal voor waferverwerking bij hoge temperaturen (gloeien, RTP) en agressieve etskamers waar slede van aluminiumoxide degradeert.

  • Halfgeleiderapparatuur Keramische reserveonderdelen Keramische dragers

    Halfgeleiderapparatuur Keramische reserveonderdelen Keramische dragers

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.

  • Slijpring van aluminiumoxidekeramiek met metalen achterkant voor zeer stijve lapbewerkingen.

    Slijpring van aluminiumoxidekeramiek met metalen achterkant voor zeer stijve lapbewerkingen.

    De metalen slijpring van St.Cera, gemaakt van aluminiumoxide, combineert een slijtlaag van hoogwaardig aluminiumoxide (99,8% Al₂O₃) keramiek met een nauwkeurig bewerkte metalen achterkant (doorgaans aluminium of roestvrij staal). Dit hybride ontwerp biedt de uitzonderlijke slijtvastheid en chemische inertheid van keramiek op het slijpoppervlak, terwijl de metalen basis zorgt voor mechanische sterkte, eenvoudige montage en weerstand tegen brosbreuk. De aluminiumoxidelaag heeft een buigsterkte van 361 MPa, een Vickers-hardheid van 16 GPa en een thermische stabiliteit tot 800 °C. De metalen basis kan worden aangepast met montagegaten, positioneringspennen of magnetische eigenschappen voor integratie in lapmachines, planetaire slijpmachines en CMP-apparatuur.

  • Keramische reserveonderdelen voor halfgeleider-meetstations

    Keramische reserveonderdelen voor halfgeleider-meetstations

    De keramische reserveonderdelen worden gevormd door koud isostatisch persen en gesinterd bij hoge temperatuur, waarna ze nauwkeurig worden bewerkt en gepolijst. Dankzij hun slijtvastheid, corrosiebestendigheid, lage thermische uitzetting en isolerende eigenschappen voldoen ze aan alle strenge eisen van halfgeleiderapparatuur. Keramiek kan langdurig worden gebruikt in diverse halfgeleiderproductieapparatuur onder omstandigheden met hoge temperaturen, vacuüm of corrosieve gassen.

    Gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxidepoeder, verwerkt door middel van koud isostatisch persen, sinteren bij hoge temperatuur en precisieafwerking, kan het een maattolerantie van ±0,001 mm, een oppervlaktegladheid van Ra 0,1 en een temperatuurbestendigheid van 1600℃ bereiken.