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Dischi in ceramica di allumina ad elevata purezza
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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braccio in ceramica di allumina
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Anelli isolanti in ceramica Anelli di messa a fuoco in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Anello di serraggio in ceramica di allumina ST.CERA con protezione isolante
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Braccio robotico in ceramica di allumina ad alta purezza per la movimentazione di wafer
Il braccio robotico in ceramica di allumina di St.Cera è progettato con precisione a partire da Al₂O₃ (allumina) ad alta purezza (99,8%). Combina un'eccezionale resistenza alla flessione (361 MPa), un'elevata durezza (16 GPa) e una bassa densità (3,93 g/cm³), risultando in un braccio leggero ma rigido per il trasferimento di wafer di semiconduttori. Il coefficiente di dilatazione termica del materiale (7,2×10⁻⁶/°C) è molto simile a quello del silicio, minimizzando la differenza di temperatura durante la lavorazione.
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Anello in ceramica di alta precisione in allumina Componenti in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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ST.CERA - Apparecchiature per semiconduttori personalizzate - Mandrini in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Effettore finale in ceramica di carburo di silicio (SiC) – Elevata rigidità per la manipolazione di wafer ad alta temperatura
L'effettore terminale in ceramica SiC di St.Cera è realizzato in carburo di silicio ad elevata purezza (contenuto di SiC 99,72%, Si libero 0,05%) utilizzando il materiale del lotto S1111. Offre eccezionali proprietà meccaniche: resistenza alla flessione 449 MPa (misurata), modulo elastico 457 GPa (misurato) e durezza Vickers 25–28 GPa (tipica). La bassa densità (3,10–3,15 g/cm³, tipica) garantisce un'elevata rigidità specifica, ideale per robot di trasferimento wafer ad alta velocità. Con una conduttività termica di 120–150 W/m·K (tipica) e un coefficiente di dilatazione termica di 4,0–4,5×10⁻⁶/℃ (tipico), questo effettore terminale dissipa efficacemente il calore e mantiene la stabilità dimensionale durante la manipolazione ad alta temperatura (fino a 1600–1700 °C, senza carico). Il colore nero/grigio e l'assorbimento d'acqua pari a zero garantiscono la compatibilità con le camere bianche.
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Mandrino a vuoto in carburo di silicio (SiC) per ambienti ad alta temperatura e al plasma.
Il mandrino ceramico a base di SiC di St.Cera è realizzato in carburo di silicio ad elevata purezza (lotto S1111, SiC 99,72%, Si libero 0,05%). Offre una resistenza alla flessione misurata di 449 MPa, una tenacità alla frattura di 3,12 MPa·m¹/² e un modulo elastico di 457 GPa. La tipica conduttività termica del materiale (120–150 W/m·K) e la bassa dilatazione termica (4,0–4,5×10⁻⁶/℃) consentono un rapido aumento della temperatura e una minima deformazione del wafer durante i cicli termici. Il mandrino può essere configurato come mandrino a vuoto poroso (flusso di gas uniforme) o come mandrino standard scanalato. Grazie a una temperatura massima di utilizzo di 1600–1700 °C (a vuoto) e a un'eccezionale resistenza all'erosione da plasma, questo mandrino è ideale per la lavorazione di wafer ad alta temperatura (ricottura, RTP) e per camere di incisione aggressive, dove i mandrini in allumina si degradano.
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Componenti di ricambio in ceramica per apparecchiature a semiconduttore Supporti in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Anello di rettifica in ceramica di allumina con supporto metallico per applicazioni di lappatura ad alta rigidità.
L'anello di rettifica in allumina con base metallica di St.Cera combina uno strato di usura ceramico in allumina ad alta purezza (99,8% Al₂O₃) con un supporto metallico lavorato con precisione (tipicamente alluminio o acciaio inossidabile). Questa configurazione ibrida offre l'eccezionale resistenza all'usura e l'inerzia chimica della ceramica sulla superficie di rettifica, mentre la base metallica aggiunge resistenza meccanica, facilità di montaggio e resistenza alla frattura fragile. Lo strato di allumina offre una resistenza alla flessione di 361 MPa, una durezza Vickers di 16 GPa e una stabilità termica fino a 800 °C. La base metallica è personalizzabile con fori di montaggio, perni di posizionamento o proprietà magnetiche per l'integrazione in lappatrici, rettificatrici planetarie e apparecchiature CMP.
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Componenti di ricambio in ceramica per apparecchiature di stazioni di prova per semiconduttori
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
