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ST.CERA Kundenspezifischer 99,5% Aluminiumoxid-Keramikstab
Hergestellt aus hochreinem Keramikpulver, wird der Keramikstab durch Trockenpressen oder Kaltisostatpressen geformt, bei hoher Temperatur gesintert und anschließend präzisionsbearbeitet. Dank seiner zahlreichen Vorteile wie Abriebfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, hoher Härte, hoher Zähigkeit und niedrigem Reibungskoeffizienten findet er breite Anwendung in Medizingeräten, Präzisionsmaschinen, Lasern sowie Mess- und Prüfgeräten. Er ist dauerhaft in sauren und alkalischen Umgebungen einsetzbar und hält Temperaturen bis zu 1600 °C stand. Zu den üblicherweise verwendeten Keramikmaterialien gehören Zirkonoxid, 95–99,9 % reines Aluminiumoxid (Al₂O₃), Siliziumnitrid (Si₃N₄), Aluminiumnitrid (AlN) usw.
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ST.CERA Kundenspezifischer Keramikstab aus 99,5 % Zirkonoxid, Keramikstift
Die aus hochreinem Keramikpulver hergestellten Keramikstäbe werden durch Trockenpressen oder Kaltisostatpressen geformt, bei hoher Temperatur gesintert und anschließend präzisionsbearbeitet. Als Keramikmaterialien verwenden wir üblicherweise Zirkonoxid, 95 % bis 99,9 % reines Aluminiumoxid (Al₂O₃), Siliziumnitrid (Si₃N₄), Aluminiumnitrid (AlN) usw.
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ST.CERA Kundenspezifisches Keramikrohr aus 99,5 % Aluminiumoxid
Dank ihrer Eigenschaften wie hoher Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit und Isolationsfähigkeit kann Keramik über lange Zeiträume in vielen Arten von Halbleiterproduktionsanlagen unter Bedingungen hoher Temperatur, Vakuum oder korrosiver Gase eingesetzt werden.
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ST.CERA kundenspezifisches Zirkonoxid-Keramikrohr
Dank ihrer Eigenschaften wie hoher Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit und Isolationsfähigkeit kann Keramik über lange Zeiträume in vielen Arten von Halbleiterproduktionsanlagen unter Bedingungen hoher Temperatur, Vakuum oder korrosiver Gase eingesetzt werden.
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ST.CERA kundenspezifische Halbleiter-Keramikbuchse
Kritische Prozesse in der Halbleiterindustrie erfordern Reinraumbedingungen, insbesondere für Bauelemente, die unter hohen Temperaturen, Vakuum und korrosiven Gasen eingesetzt werden sollen. Keramik zeichnet sich durch hohe Stabilität in komplexen physikalischen und chemischen Umgebungen aus.
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ST.CERA Kundenspezifische Halbleiteranlagen Keramikspannfutter
Kritische Prozesse in der Halbleiterindustrie erfordern Reinraumbedingungen, insbesondere für Bauelemente, die unter hohen Temperaturen, Vakuum und korrosiven Gasen eingesetzt werden sollen. Keramik zeichnet sich durch hohe Stabilität in komplexen physikalischen und chemischen Umgebungen aus.
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ST.CERA Kundenspezifische Halbleiteranlagen Keramikplatte
Kritische Prozesse in der Halbleiterindustrie erfordern Reinraumbedingungen, insbesondere für Bauelemente, die unter Hochtemperatur-, Vakuum- und korrosiven Gasbedingungen eingesetzt werden sollen. Keramik zeichnet sich durch hohe Stabilität in komplexen physikalischen und chemischen Umgebungen aus.
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ST.CERA Kundenspezifischer Halbleiter-Keramik-Fokusring
Kritische Prozesse in der Halbleiterindustrie erfordern Reinraumbedingungen, insbesondere für Bauelemente, die unter hohen Temperaturen, Vakuum und korrosiven Gasen eingesetzt werden sollen. Keramik zeichnet sich durch hohe Stabilität in komplexen physikalischen und chemischen Umgebungen aus.
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ST.CERA kundenspezifischer Ladearm aus 99,5 % Aluminiumoxid-Keramik
Der keramische Endeffektor / Handhabungsarm ist an Wafer-Handhabungsrobotern oder „Endeffektoren“ installiert und dient zum Transport von Siliziumwafern in oder aus Kassetten oder Prozesskammern.
Die Vorteile der Verwendung von Keramik liegen in der Verringerung der Durchbiegung aufgrund hoher Biegefestigkeit, der Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und der Vermeidung von Metallverunreinigungen und -partikeln. -
ST.CERA kundenspezifischer Aluminiumoxid-Keramik-Endeffektor
ST.CERA bietet ESD-Beschichtungen und ESD-Keramikmaterialien für Endeffektoren an. Diese werden aus hochreinem Aluminiumoxidpulver hergestellt, durch Kaltisostatisches Pressen, Hochtemperatursintern und Präzisionsbearbeitung verarbeitet und erreichen eine Maßtoleranz von ±0,001 mm, eine Oberflächenrauheit von Ra 0,1 und eine Temperaturbeständigkeit von 1600℃.
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ST.CERA Kundenspezifischer Fokusring aus Halbleiterkeramik
Die aus hochreiner (über 99,5 %) Aluminiumoxidkeramik hergestellten, durch kaltisostatisches Pressen geformten und bei hoher Temperatur gesinterten Keramikersatzteile werden anschließend präzisionsbearbeitet und poliert. Dank ihrer Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, geringen Wärmeausdehnung und Isolationsfähigkeit erfüllen sie alle strengen Anforderungen an Halbleiteranlagen.
Dank ihrer Eigenschaften wie hoher Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit und Isolationsfähigkeit kann Keramik über lange Zeiträume in vielen Arten von Halbleiterproduktionsanlagen unter Bedingungen hoher Temperatur, Vakuum oder korrosiver Gase eingesetzt werden.
Hergestellt aus hochreinem Aluminiumoxidpulver, verarbeitet durch kaltisostatisches Pressen, Hochtemperatursintern und Präzisionsbearbeitung, erreicht es eine Maßtoleranz von ±0,001 mm, eine Oberflächenrauheit von Ra 0,1 und eine Temperaturbeständigkeit von 1600℃.
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ST.CERA kundenspezifische Halbleiter-Präzisions-Aluminiumoxid-Keramikbuchse
Die aus hochreiner (über 99,5 %) Aluminiumoxidkeramik hergestellten, durch kaltisostatisches Pressen geformten und bei hoher Temperatur gesinterten Keramikersatzteile werden anschließend präzisionsbearbeitet und poliert. Dank ihrer Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, geringen Wärmeausdehnung und Isolationsfähigkeit erfüllen sie alle strengen Anforderungen an Halbleiteranlagen.
Dank ihrer Eigenschaften wie hoher Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit und Isolationsfähigkeit kann Keramik über lange Zeiträume in vielen Arten von Halbleiterproduktionsanlagen unter Bedingungen hoher Temperatur, Vakuum oder korrosiver Gase eingesetzt werden.
Hergestellt aus hochreinem Aluminiumoxidpulver, verarbeitet durch kaltisostatisches Pressen, Hochtemperatursintern und Präzisionsbearbeitung, erreicht es eine Maßtoleranz von ±0,001 mm, eine Oberflächenrauheit von Ra 0,1 und eine Temperaturbeständigkeit von 1600℃.
