-
ਸੀਵੀਡੀ/ਪੀਵੀਡੀ ਸ਼ਾਵਰਹੈੱਡ ਲਈ ਐਲੂਮਿਨਾ ਗੈਸ ਡਿਸਟ੍ਰੀਬਿਊਸ਼ਨ ਪਲੇਟ
ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦੀ ਗੈਸ ਡਿਸਟ੍ਰੀਬਿਊਸ਼ਨ ਪਲੇਟ (ਸ਼ਾਵਰਹੈੱਡ) ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ 99.8% ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਤੋਂ ਸ਼ੁੱਧਤਾ-ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ। ਇਸ ਵਿੱਚ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਹੋਲ (ਵਿਆਸ 0.3-1.5 ਮਿਲੀਮੀਟਰ) ਦੀ ਇੱਕ ਲੜੀ ਹੈ ਜੋ CVD, PVD, ਜਾਂ ALD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਦੌਰਾਨ ਵੇਫਰ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਇਕਸਾਰ ਗੈਸ ਪ੍ਰਵਾਹ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ। ਪਲੇਟ ਦੀ ਉੱਚ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਤਾਕਤ (>15×10⁶ V/m) ਅਤੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਇਸਨੂੰ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਪਤਲੀ-ਫਿਲਮ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਲਈ ਜ਼ਰੂਰੀ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ।
-
ਵਾਇਰ ਬਾਂਡਿੰਗ ਅਤੇ ਡਾਈ ਅਟੈਚ ਲਈ ਪ੍ਰੀਸੀਜ਼ਨ ਸਿਰੇਮਿਕ ਗਾਈਡਿੰਗ ਟਿਊਬ
ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦੀ ਸਿਰੇਮਿਕ ਗਾਈਡਿੰਗ ਟਿਊਬ 99.5% ਐਲੂਮਿਨਾ ਜਾਂ ਯਟ੍ਰੀਆ-ਸਟੈਬਲਾਈਜ਼ਡ ਜ਼ਿਰਕੋਨੀਆ ਤੋਂ ਬਣਾਈ ਗਈ ਹੈ, ਜੋ ਉੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਇੱਕ ਨਿਰਵਿਘਨ ਅੰਦਰੂਨੀ ਬੋਰ (Ra ≤0.2 μm) ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਟਿਊਬਾਂ ਵਾਇਰ ਬਾਂਡਰਾਂ, ਡਾਈ ਅਟੈਚ ਮਸ਼ੀਨਾਂ, ਅਤੇ ਪਿਕ-ਐਂਡ-ਪਲੇਸ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹਿੱਸੇ ਹਨ, ਜੋ ਘੱਟੋ-ਘੱਟ ਰਗੜ ਅਤੇ ਜ਼ੀਰੋ ਕਣ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਦੇ ਨਾਲ ਗਾਈਡਿੰਗ ਬਾਂਡਿੰਗ ਤਾਰਾਂ, ਕੇਸ਼ੀਲਾਂ, ਜਾਂ ਵੈਕਿਊਮ ਨੋਜ਼ਲਾਂ ਹਨ।
-
ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਫਿਕਸਚਰ ਲਈ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲਾ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਰ
ਸੇਂਟ ਸੇਰਾ ਦਾ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਰ 99.8% ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ Al₂O₃ ਤੋਂ ਬਣਿਆ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਅਸਧਾਰਨ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਤਾਕਤ (15×10⁶ V/m), 1600°C ਤੱਕ ਥਰਮਲ ਸਥਿਰਤਾ, ਅਤੇ ਲੋਡ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਕ੍ਰੀਪ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਇਹਨਾਂ ਕੋਰਾਂ ਨੂੰ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਫਿਕਸਚਰ, ਹੀਟਰ ਬੇਸ, ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਚੈਂਬਰ ਲਾਈਨਰ, ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਇੰਸੂਲੇਟਰਾਂ ਵਿੱਚ ਢਾਂਚਾਗਤ ਹਿੱਸਿਆਂ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ (16 GPa) ਅਤੇ ਘੱਟ ਪਾਣੀ ਸੋਖਣ (0%) ਕਠੋਰ ਵਾਤਾਵਰਣ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਦੀ ਭਰੋਸੇਯੋਗਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ।
-
ਐਲੂਮਿਨਾ-ਅਧਾਰਤ ਸਟੈਂਡਰਡ ਵੈਕਿਊਮ ਚੱਕ - ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਲਈ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ
ਇਹ ਐਲੂਮਿਨਾ-ਅਧਾਰਿਤ ਵੈਕਿਊਮ ਚੱਕ 99.8% Al₂O₃ ਤੋਂ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਕਸਟਮ ਵੈਕਿਊਮ ਗਰੂਵ ਪੈਟਰਨਾਂ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਨਿਰਵਿਘਨ ਗੈਰ-ਪੋਰਸ ਸਤਹ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਬੇਮਿਸਾਲ ਕਠੋਰਤਾ (ਯੰਗ ਦਾ ਮਾਡਿਊਲਸ 380 GPa) ਅਤੇ ਸਮਤਲਤਾ (≤3 μm) ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਇਸਨੂੰ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਵੇਫਰਾਂ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪੀਸਣ, ਲੈਪਿੰਗ ਅਤੇ ਡਾਈਸਿੰਗ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਉੱਚ ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ (32 W/m·k) ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀ ਇਕਸਾਰਤਾ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।
-
ST.CERA ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸਿਰੇਮਿਕ ਡਿਸਕ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲਿਤ
ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।
ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।
-
ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਚੱਕ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣ
ਠੰਡੇ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਏ ਗਏ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਹੇਠ ਸਿੰਟਰ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਫਿਰ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਾਲ ਮਸ਼ੀਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਗਏ, ਸਿਰੇਮਿਕ ਸਪੇਅਰ ਪਾਰਟਸ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਖ਼ਤ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਵਿਸਥਾਰ ਅਤੇ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ। ਸਿਰੇਮਿਕਸ ਕਈ ਤਰ੍ਹਾਂ ਦੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣਾਂ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ, ਵੈਕਿਊਮ ਜਾਂ ਖੋਰ ਗੈਸ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਲੰਬੇ ਸਮੇਂ ਲਈ ਕੰਮ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।
ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਪਾਊਡਰ ਤੋਂ ਬਣਿਆ, ਕੋਲਡ ਆਈਸੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰੈਸਿੰਗ, ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਸਿੰਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰੋਸੈਸ ਕੀਤਾ ਗਿਆ, ਇਹ ±0.001 ਮਿਲੀਮੀਟਰ, ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ Ra 0.1, ਤਾਪਮਾਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 1600℃ ਤੱਕ ਮਾਪ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।
